JP2014004825A - パターン形成方法及び離型装置 - Google Patents

パターン形成方法及び離型装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2014004825A
JP2014004825A JP2013111724A JP2013111724A JP2014004825A JP 2014004825 A JP2014004825 A JP 2014004825A JP 2013111724 A JP2013111724 A JP 2013111724A JP 2013111724 A JP2013111724 A JP 2013111724A JP 2014004825 A JP2014004825 A JP 2014004825A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imprint mold
transfer material
stage
mold
imprint
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013111724A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Honto
孝治 本戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP2013111724A priority Critical patent/JP2014004825A/ja
Publication of JP2014004825A publication Critical patent/JP2014004825A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】インプリント型と被転写材とを破損することなく良好に離型する。
【解決手段】離型装置10は、インプリント型30が押し付けられた被転写材20からインプリント型30を離型して転写パターンを形成するものであって、被転写材20を押さえ板18、ボルト19a及びナット19bで可撓性を有する被転写材側ステージ11にインプリント型30と共に保持し、インプリント型30をインプリント型側ステージ12に固定して、被転写材側ステージ11を被転写材20がインプリント型30に向かって凸状となるように樋状に撓ませ、撓ませた状態のまま被転写材側ステージ11及びインプリント型側ステージ12を相対的に離間させて離型を行う。
【選択図】図4

Description

この発明は、インプリント型が押し付けられた被転写材からインプリント型を離型して転写パターンを形成するパターン形成方法及び離型装置に関する。
従来より、凹凸のパターンを有するインプリント型を被転写材に押し付けて、所望の転写パターンを被転写材に形成するインプリント法が知られている(例えば、特許文献1〜3参照)。特許文献1には、パターンが形成された面と反対側の面に、基板外縁部から中心部にかけて凹みが深くなるように形成された凹部を有するインプリント型を転写基板に押し付けてパターンを転写し、離型時に転写基板とインプリント型との付着力によりインプリント型を湾曲させるインプリント装置が開示されている。
また、特許文献2には、インプリント型がレジスト層に押し付けられた転写基板を、離型開始から終了までレジスト層側が所定曲率の凸状態を維持するように裏面側を加圧して湾曲させる凹凸パターンの形成装置が開示されている。更に、特許文献3には、離型時に被成形体のパターン転写領域外を保持部材により保持して、保持部材がインプリント型の表面から離れる方向にインプリント型と保持部材とを相対的に移動させるインプリント方法が開示されている。
特開2009−170773号公報 特開2010−234669号公報 再公表特許WO2008/142958号公報
しかしながら、上記特許文献1に開示された従来技術のインプリント装置におけるパターン形成方法では、離型時にインプリント型を湾曲させるので、インプリント型の材質が湾曲変形可能なものに限定されると共に、パターンが微細であると剥離部分に負荷が掛かりインプリント型が破損するおそれがあるという問題がある。
また、上記特許文献2に開示された従来技術の凹凸パターンの形成装置におけるパターン形成方法では、離型時に転写基板のレジスト層側が所定曲率の凸状態となったドーム形状に維持されるので、レジスト層は伸縮性に優れた材質で構成しなければならず、非伸縮性の材質のレジスト層を用いた場合は、レジスト層に皺が形成されて転写パターンが崩れやすくなるという問題がある。
更に、上記特許文献3に開示された従来技術のインプリント方法におけるパターン形成方法では、保持部材の移動方向がインプリント型の表面に対して急峻なものとなると、転写パターンに負荷が掛かり崩れると共にインプリント型が破損し易くなるという問題がある。また、保持部材を移動する方向に被成形体を相対的に離間させるため、インプリント型のパターンは一方向に方向性を有する溝状であることが望まれ、パターンに形状依存性が要求されるという問題がある。
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消し、インプリント型と被転写材とを破損することなく良好に離型することができるパターン形成方法及び離型装置を提供することを目的とする。
本発明に係る一のパターン形成方法は、インプリント型が押し付けられた被転写材を、可撓性を有する第1ステージに添設させて固定すると共に、前記インプリント型を第2ステージに固定する工程と、前記第1ステージを樋状に撓ませて前記被転写材を前記インプリント型に向かって凸状となるように樋状に撓ませる工程と、前記被転写材を撓ませた状態のまま、前記インプリント型のパターン形成面に対して垂直方向に前記インプリント型と前記被転写材とを引き離し、前記被転写材から前記インプリント型を離型する工程とを備えたことを特徴とする。
本発明に係る一のパターン形成方法によれば、被転写材を、可撓性を有する第1ステージを樋状に撓ませることでインプリント型に向かって凸状となるように樋状に撓ませて、撓ませた状態のままインプリント型と被転写材とを引き離すので、インプリント型と被転写材との間に剥離開始点を形成した後に剥離開始点から内側に向かって剥離が進行するように良好に離型を行い転写パターンを形成することができる。これにより、転写パターンが崩れることを抑制することができると共に、インプリント型の破損を防止することができる。
本発明に係る他のパターン形成方法は、インプリント型が押し付けられた被転写材を、可撓性を有し、互いに平行な直線状の第1端部及び第2端部を有する第1ステージに添設させて固定すると共に、前記インプリント型を第2ステージに固定する工程と、前記第1ステージの第1端部及び第2端部の少なくとも一方を前記第2ステージに対して平行状態を保ったまま離間させて前記被転写材を前記インプリント型に向かって凸状となるように樋状に撓ませる工程と、前記被転写材を撓ませた状態のまま、前記インプリント型のパターン形成面に対して垂直方向に前記インプリント型と前記被転写材とを引き離し、前記被転写材から前記インプリント型を離型する工程とを備えたことを特徴とする。
本発明に係る他のパターン形成方法によれば、被転写材を、可撓性を有し、互いに平行な第1端部及び第2端部を有する第1ステージの第1端部及び第2端部の少なくとも一方を第2ステージに対して平行状態を保ったまま離間させてインプリント型に向かって凸状となるように樋状に撓ませて、撓ませた状態のままインプリント型と被転写材とを引き離すので、インプリント型と被転写材との間に剥離開始点を形成した後に剥離開始点から内側に向かって剥離が進行するように良好に離型を行い転写パターンを形成することができる。これにより、転写パターンが崩れることを抑制することができると共に、インプリント型の破損を防止することができる。
本発明の一実施形態においては、前記被転写材を撓ませる工程では、前記第1ステージの第1端部及び第2端部を中央に対して変位させることにより前記被転写材を撓ませる。
本発明の他の実施形態においては、前記離型する工程では、前記インプリント型と前記被転写材とを引き離す際に、両者の界面に向けてエアーを吹き付ける。
本発明の更に他の実施形態においては、前記被転写材を撓ませる工程では、前記被転写材における前記インプリント型のパターン転写領域と非転写領域との曲率が異なるように前記被転写材を撓ませる。
本発明に係る離型装置は、インプリント型が押し付けられた被転写材から前記インプリント型を離型する離型装置であって、前記被転写材の前記インプリント型と反対側の面に添設されて前記被転写材を保持する保持機構を備えた可撓性を有する第1ステージと、前記インプリント型を吸着固定する第2ステージと、前記第1ステージを前記被転写材が前記インプリント型に向かって凸状となるように樋状に撓ませてから前記第2ステージと相対的に離間させる駆動手段とを備えたことを特徴とする。
本発明に係る離型装置によれば、上述したパターン形成方法と同様の作用効果を奏することができる。
本発明によれば、インプリント型と被転写材とを破損することなく良好に離型することができる。
本発明の第1の実施形態に係る離型装置を示す斜視図である。 同離型装置の一部を示す断面図である。 同離型装置の前段の転写装置の一部を示す断面図である。 同離型装置による離型工程を示すフローチャートである。 同離型装置の離型時の様子を示す断面図である。 同離型装置の離型時の様子を示す断面図である。 同離型装置の離型後の様子を示す断面図である。 同離型装置の他の構成を示す斜視図である。 同離型装置の他の構成を示す断面図である。 本発明の第2の実施形態に係る離型装置による離型時の様子を示す断面図である。 本発明の第3の実施形態に係る離型装置による離型時の様子を示す断面図である。
以下、添付の図面を参照して、この発明の実施の形態に係るパターン形成方法及び離型装置を詳細に説明する。
[第1の実施形態]
図1Aは、本発明の第1の実施形態に係る離型装置を示す斜視図である。図1Bは、離型装置の一部を示す断面図である。図2は、離型装置の前段の転写装置の一部を示す断面図である。図3は、離型装置による離型工程を示すフローチャートである。図4〜図6は、離型装置の離型時の様子を示す断面図である。
図1A及び図1Bに示すように、第1の実施形態に係る離型装置10は、別途後述する転写装置によりインプリント型30が押し付けられた、例えば樹脂フィルムからなる被転写材20を準備して、この被転写材20からインプリント型30を離型して転写パターンを形成するための装置である。
離型装置10は、被転写材20のインプリント型30とは反対側の面に添設されて被転写材20を保持する保持機構を備えた可撓性を有する被転写材側ステージ11と、インプリント型30を吸着により固定するインプリント型側ステージ12とを備える。被転写材側ステージ11は、例えばステンレス、アルミニウム、プラスチック等の材質からなり、弾性変形可能な特性を備えている。
被転写材側ステージ11に設けられた保持機構は、例えば被転写材20の両端部を押さえて、被転写材20を被転写材側ステージ11上に固定する押さえ板18と、この押さえ板18を上下方向に締めたり緩めたりするためのボルト19a及びナット19bと、押さえ板18の端部に設けられた可動軸17とにより構成されている。
被転写材20は、本実施形態においては、例えば厚さ25μm程度の熱可塑性のポリイミド、ポリオレフィン、液晶ポリマーなどからなる樹脂フィルムや、熱硬化性のエポキシ樹脂からなる樹脂フィルムなどが用いられる。これらの樹脂フィルムは、通常は伸縮性を備えるが、本例の被転写材20には非伸縮性の材質の樹脂フィルムを適用することもできる。
インプリント型30は、モールドやダイなどの金型であり、被転写材20に転写する凹凸の転写パターンに対して反転したパターン31が形成されている。インプリント型30は、例えばシリコンからなり、そのパターン31は、最小ライン/スペース(L/S)が5μm/5μmで、高さ5μmのパターンに形成されている。
なお、インプリント型30は、材質が限定されるものではなく、例えばニッケル、銅、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)等により形成され、所望の微細ピッチのパターン31が形成されたものを用いても良い。また、インプリント型30のパターン31側の表面には、例えばフッ素樹脂などがコーティングされた易離型処理が施されていても良い。
また、離型装置10の被転写材側ステージ11及びインプリント型側ステージ12には、それぞれ各ステージ11,12を相対的に上下方向に動かすことが可能な第2の駆動手段が取り付けられている。また、被転写材側ステージ11は、互いに平行な直線状の第1端部及び第2端部を有する。第1の駆動手段は、可動軸17と接続されており、押さえ板18と連動して被転写材側ステージ11をインプリント型側ステージ12側に向かって凸状となるように変位可能で樋状に撓ませるよう動作することができる。
一方、インプリント型側ステージ12には、インプリント型30が配置される位置に対応する箇所に吸引穴12aが形成されており、この吸引穴12aを介してインプリント型30をステージ上に吸着固定させるための図示しない吸着装置が設けられている。
次に、パターン形成方法について説明する。
転写段階においては、図2(a)に示すように、フィルム状の被転写材20とインプリント型30とを準備し、被転写材20のパターン転写領域(箇所)とインプリント型30のパターン31の位置とを位置合わせした上で、転写装置40のステージ8,9にこれらを配置する。
このとき、例えば被転写材20は、ステージ9に設けられた押さえ板9a、ボルト9b及びナット9cによりステージ9に取付固定される。また、インプリント型30は、例えば粘着シート等によりステージ8からパターン31の転写後に容易に離脱可能に貼着固定される。
そして、インプリント型30及び転写部材20の少なくとも一方を加熱しながら、例えばステージ8をステージ9側に移動させて、図2(b)に示すように、被転写材20にインプリント型30を押し付けてパターン31を転写する。このとき、被転写材20が柔らかくなる温度まで被転写材20を加熱してから押し付けることが好ましいが、被転写材20が熱可塑性樹脂からなる場合は、ガラス転移点以上の温度まで加熱することが望ましい。
こうしてパターン31が転写された後、被転写材20が柔らかくなる温度以下にインプリント型30と被転写材20とを冷却し、これらが一体化した状態で上述した離型装置10に搬送して、離型装置10による離型工程を開始する。ここで、図3を参照しながら離型工程について説明する。
まず、図1に示すように、被転写材20をインプリント型30と共に被転写材側ステージ11(本発明の第1ステージに相当)上に配置する(ステップS100)。
そして、ナット19bを締めることにより押さえ板18を被転写材20に当接して被転写材20を被転写材側ステージ11に固定すると共に、インプリント型側ステージ12(本発明の第2ステージに相当)をインプリント型30に当接してインプリント型側ステージ12に吸着させて固定する(ステップS102)。
なお、インプリント型30は、吸引穴12aを介した吸引による吸着方式の他、上述した押さえ板18による固定方式や、静電吸着式或いは粘着シート等を用いた粘着式などによりステージ12に固定させることもできる。
次に、第1の駆動手段を起動させて、図4に示すように、互いに平行な直線状の第1端部及び第2端部を有する被転写材側ステージ11の両端部(押さえ板18近傍箇所)を、図4中矢印曲線で示すように、可動軸17を回転動作させることでそれぞれ被転写材側ステージ11の中央方向に向けて上方向に捻るように移動させる。
すなわち、被転写材側ステージ11の第1端部及び第2端部の少なくとも一方をインプリント型側ステージ12に対して平行状態を保ったまま離間させる。これにより、被転写材20を被転写材側ステージ11と共にインプリント型30に向かって凸状となるように変位させて樋状に撓ませる(ステップS104)。
このとき、被転写材20のパターン転写領域と非転写領域との境目における被転写材20とインプリント型30との界面端部に剥離力が作用して、界面端部がそれぞれ剥離し剥離の開始点が形成される。なお、この場合、撓みによって被転写材20とインプリント型30との界面に圧力が加わるが、各ステージ11,12のいずれかを移動させて界面に圧力が加わらないようにしても良い。
その後、図5に示すように、第1及び第2の駆動手段により、被転写材側ステージ11が被転写材20を撓ませた状態のまま、被転写材側ステージ11及びインプリント型側ステージ12を、図5中矢印直線で示すようにインプリント型30のパターン31の形成面に対して垂直方向(上下方向)に連動させて相対的に移動させ、両ステージ11,12を離間させる(ステップS106)。
両ステージ11,12の移動に伴い、上記剥離の開始点側から剥離が被転写材20とインプリント型30との中心側に向かって進行し、最終的に完全に剥離して被転写材20からインプリント型30が離型される(ステップS108)。上記ステップS104にて剥離の開始点が既に形成されているので、パターン31により形成される被転写材20の転写パターン21が崩れることなくスムーズに剥離が進行する。
このようなスムーズな剥離は、転写材側ステージ11の互いに平行な直線状の第1端部及び第2端部の少なくとも一方が、インプリント型側ステージ12に対して平行状態を保ったまま離間するために行われるものである。
すなわち、被転写材側ステージ11を樋状に撓ませることにより、インプリント型30に向かって形成される凸状部位の頂点の線(図1A中点線Aで示す線)と、撓みによって被転写材20とインプリント型30との間に生じる界面とが、平行関係を維持し続けるので、スムーズな剥離を行うことができる。
最後に、図6に示すように、第1の駆動手段により被転写材側ステージ11の撓みを元に戻すと共に、押さえ板18による被転写材20の固定を解除した上で被転写材20を取り出して(ステップS110)、インプリント型側ステージ12からインプリント型30を外し、本フローチャートによる一連の処理を終了する。こうしてインプリント型30を被転写材20から離型することで、被転写材20に転写パターン21が形成される。
このように、第1の実施形態に係る離型装置10によるパターン形成方法によれば、被転写材20を可撓性を有する被転写材側ステージ11を樋状に撓ませることでインプリント型30に向かって凸状となるように樋状に撓ませ、撓ませた状態のままインプリント型30と被転写材20とを引き離して離型を行う。
すなわち、樹脂フィルムである被転写材20を樋状に撓ませるので、インプリント型30は柔軟性を備えていなくても良く、被転写材20を撓ませたままパターン31の形成面に対して垂直方向に被転写材20及びインプリント型30を引き離すので、パターン31の形状依存性は要求されない。
また、被転写材20をインプリント型30との間に剥離の開始点を形成可能な程度に一方向に沿って撓ませれば良いため、非伸縮性の樹脂フィルムを使用してもパターン31の転写領域に皺などが形成されることを抑えることができる。従って、転写パターン21の崩れ及びインプリント型30の破損を防止しつつ被転写材20とインプリント型30とを良好に離型することが可能となる。
なお、被転写材20におけるインプリント型30のパターン31の転写領域と非転写領域との曲率が異なるように被転写材20を撓ませることにより、インプリント型30のパターン31に負荷が掛かってインプリント型30が破損するおそれを抑制することができる。
また、被転写材20を被転写材側ステージ11上に固定する方法は、上記のように押さえ板18をボルト19a及びナット19bを用いて挟み込むものに限定されず、図7A及び図7Bに示すような構造を用いて固定するようにしても良い。すなわち、図7A及び図7Bに示すように、離型装置10は、押さえ板18により被転写材20の一面の両端部を固定すると共に、支持棒16により他面の中央部を固定する構造を備えている。
このように構成することで、被転写材20と被転写材側ステージ11を押さえ板18と支持棒16とで挟みこむように、被転写材側ステージ11に被転写材20を添設することができる。その後、第1の駆動手段により可動軸17を回転動作させることで被転写材20を被転写材側ステージ11と共にインプリント型30に向かって凸状となるように変位させて樋状に撓ませる。
そして、第2の駆動手段によって、可動軸17を上側に移動させるのに連動して、支持棒16も上側に移動させることによって、被転写材20とインプリント型30との間で剥離を進行させる。このような構造の離型装置10によっても、被転写材20からインプリント型30を良好に離型することができる。
[第2の実施形態]
図8は、本発明の第2の実施形態に係る離型装置による離型時の様子を示す断面図である。なお、以降において既に説明した部分と重複する箇所には同一の符号を附して説明を割愛する。第2の実施形態に係る離型装置10Aは、インプリント型30と被転写材20とを引き離す際に、両者の剥離開始点から剥離の進行方向に向けて(すなわち、両者の界面に向けて)エアーを吹き付けるガス噴出機構(図示せず)を設け、スムーズな剥離を補助している点が、第1の実施形態に係る離型装置10と相違している。
すなわち、図8(a)に示すように、離型装置10Aは、第1の実施形態に係る離型装置10と同様に、被転写材側ステージ11、インプリント型側ステージ12、第1及び第2の駆動手段等の各部と共に、被転写材20のパターン転写領域と非転写領域との境目における被転写材20とインプリント型30との界面端部に向けてエアーを噴出するガス噴出機構のノズル7を複数備えて構成されている。
そして、離型工程においては、図8(a)に示すように、被転写材20及びインプリント型30を各ステージ11,12に配置した後、図8(b)に示すように、被転写材20を被転写材側ステージ11と共にインプリント型30に向かって凸状となるように変位させて樋状に撓ませ、界面端部に剥離の開始点を形成する。
剥離の開始点を形成したら、各ノズル7からエアーを吹き出し、図8(c)に示すように、エアー吹き出しを継続しつつ被転写材20を撓ませた状態のまま、各ステージ11,12を上下方向に連動させて相対的に移動させ、両ステージ11,12を離間させて、被転写材20からインプリント型30を離型する。
このように構成された第2の実施形態に係る離型装置10Aによるパターン形成方法によれば、図8(b)及び(c)に示すように、離型時において、各ステージ11,12の変位や移動と共に、ガス噴出機構から供給されたエアーが、被転写材20及びインプリント型30の界面に向けて吹き付けられるので、更に良好に離型することが可能となる。
[第3の実施形態]
図9は、本発明の第3の実施形態に係る離型装置による離型時の様子を示す断面図である。第3の実施形態に係る離型装置10Bは、インプリント型30と被転写材20とを引き離す際に、被転写材20を被転写材側ステージ11と共に樋状に撓ませるに当たり、被転写材20におけるインプリント型30のパターン31の転写領域と非転写領域との曲率が異なるように被転写材20を撓ませる点が、第1の実施形態に係る離型装置10と相違している。
すなわち、離型装置10Bは、図9(a)に示すように、各ステージ11,12に被転写材20及びインプリント型30を配置した後、図9(b)に示すように、被転写材20が固定された被転写材側ステージ11の一方の端部(押さえ板18近傍箇所)を、図中矢印曲線で示すように、図示しない可動軸17を回転させつつ被転写材側ステージ11の中央方向に向けて上方向に捻るように移動させる。
そして、図9(c)に示すように、被転写材側ステージ11の他方の端部及びインプリント型側ステージ12を固定したまま、被転写材側ステージ11の一方の端部を図中矢印直線で示すように移動させて被転写材20を上記のように撓ませつつ両ステージ11,12を相対的に離間させて、被転写材20からインプリント型30を離型する。
このように構成された第3の実施形態に係る離型装置10Bによるパターン形成方法によれば、離型時において、被転写材20をパターン31の転写領域と非転写領域との曲率が異なるように撓ませるので、第1及び第2の実施形態に係る離型装置10,10Aと同様に、転写パターン21の崩れ及びインプリント型30の破損を防止しつつ被転写材20とインプリント型30とを良好に離型することができる。
1 離型装置
11 被転写材側ステージ
12 インプリント型側ステージ
12a 吸引穴
16 支持棒
17 可動軸
18 押さえ板
19a ボルト
19b ナット
20 被転写材
21 転写パターン
30 インプリント型
31 パターン

Claims (6)

  1. インプリント型が押し付けられた被転写材を、可撓性を有する第1ステージに添設させて固定すると共に、前記インプリント型を第2ステージに固定する工程と、
    前記第1ステージを樋状に撓ませて前記被転写材を前記インプリント型に向かって凸状となるように樋状に撓ませる工程と、
    前記被転写材を撓ませた状態のまま、前記インプリント型のパターン形成面に対して垂直方向に前記インプリント型と前記被転写材とを引き離し、前記被転写材から前記インプリント型を離型する工程とを備えた
    ことを特徴とするパターン形成方法。
  2. インプリント型が押し付けられた被転写材を、可撓性を有し、互いに平行な直線状の第1端部及び第2端部を有する第1ステージに添設させて固定すると共に、前記インプリント型を第2ステージに固定する工程と、
    前記第1ステージの第1端部及び第2端部の少なくとも一方を前記第2ステージに対して平行状態を保ったまま離間させて前記被転写材を前記インプリント型に向かって凸状となるように樋状に撓ませる工程と、
    前記被転写材を撓ませた状態のまま、前記インプリント型のパターン形成面に対して垂直方向に前記インプリント型と前記被転写材とを引き離し、前記被転写材から前記インプリント型を離型する工程とを備えた
    ことを特徴とするパターン形成方法。
  3. 前記被転写材を撓ませる工程では、前記第1ステージの第1端部及び第2端部を中央に対して変位させることにより前記被転写材を撓ませる
    ことを特徴とする請求項2記載のパターン形成方法。
  4. 前記離型する工程では、前記インプリント型と前記被転写材とを引き離す際に、両者の界面に向けてエアーを吹き付ける
    ことを特徴とする請求項2又は3記載のパターン形成方法。
  5. 前記被転写材を撓ませる工程では、前記被転写材における前記インプリント型のパターン転写領域と非転写領域との曲率が異なるように前記被転写材を撓ませる
    ことを特徴とする請求項2〜4のいずれか1項記載のパターン形成方法。
  6. インプリント型が押し付けられた被転写材から前記インプリント型を離型する離型装置であって、
    前記被転写材の前記インプリント型と反対側の面に添設されて前記被転写材を保持する保持機構を備えた可撓性を有する第1ステージと、
    前記インプリント型を吸着固定する第2ステージと、
    前記第1ステージを前記被転写材が前記インプリント型に向かって凸状となるように樋状に撓ませてから前記第2ステージと相対的に離間させる駆動手段とを備えた
    ことを特徴とする離型装置。
JP2013111724A 2012-05-31 2013-05-28 パターン形成方法及び離型装置 Pending JP2014004825A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013111724A JP2014004825A (ja) 2012-05-31 2013-05-28 パターン形成方法及び離型装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012125101 2012-05-31
JP2012125101 2012-05-31
JP2013111724A JP2014004825A (ja) 2012-05-31 2013-05-28 パターン形成方法及び離型装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014004825A true JP2014004825A (ja) 2014-01-16

Family

ID=50103002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013111724A Pending JP2014004825A (ja) 2012-05-31 2013-05-28 パターン形成方法及び離型装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014004825A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112925165A (zh) * 2021-02-02 2021-06-08 广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院 脱模方法及脱模装置
CN113515009A (zh) * 2021-05-07 2021-10-19 歌尔股份有限公司 纳米压印离膜机构

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112925165A (zh) * 2021-02-02 2021-06-08 广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院 脱模方法及脱模装置
CN112925165B (zh) * 2021-02-02 2023-05-26 广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院 脱模方法及脱模装置
CN113515009A (zh) * 2021-05-07 2021-10-19 歌尔股份有限公司 纳米压印离膜机构

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5445663B2 (ja) 電子デバイスの製造方法
JP6314988B2 (ja) ホットスタンプ装置
JP5226470B2 (ja) 折曲成形装置
JP5911144B2 (ja) 微小機械システム
US11458704B2 (en) Carrier film for transferring microelement
WO2011122439A1 (ja) 微細凹凸パターンの形成方法及び形成装置並びに転写用基板の製造方法及び転写用基板
JP2014015041A (ja) フランジ付き複合構成部品を製造するための装置および該フランジ付き複合構成部品を製造する方法
JP5088369B2 (ja) インプリント方法
CN108735919B (zh) 将薄膜图案化的方法、显示器件及其制备方法
JP2014004825A (ja) パターン形成方法及び離型装置
JP2014004826A (ja) パターン形成方法及び離型装置
JP5912985B2 (ja) タッチパネル及びその製造方法
JP2008093970A (ja) 微細形状転写用金型および微細形状転写シートの製造装置
JP2009090538A (ja) プラスチック薄膜の製造方法
JP2014004827A (ja) パターン形成方法及び離型装置
WO2019125013A1 (ko) 마이크로 소자 전사방법 및 마이크로 소자 전사장치
JP4253266B2 (ja) 平板状樹脂の成形装置
JP5867578B2 (ja) インプリント用モールド複合体およびその製造方法
JP6145440B2 (ja) プリプレグ成形品の製造方法
JP2014162111A (ja) パターン転写用金型とこれを用いたパターン転写装置
JP4712860B2 (ja) 平板状樹脂の成形装置及びその成形方法
JP5913244B2 (ja) 離型装置
WO2024062921A1 (ja) プレスヘッド、プレス装置、半導体製造装置、および電子部品製造装置
JP2011224848A (ja) 表皮材の貼り付け装置および貼り付け方法
JP2004247721A (ja) 電子回路基板の製造方法および製造装置