CN113515009A - 纳米压印离膜机构 - Google Patents
纳米压印离膜机构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113515009A CN113515009A CN202110494511.3A CN202110494511A CN113515009A CN 113515009 A CN113515009 A CN 113515009A CN 202110494511 A CN202110494511 A CN 202110494511A CN 113515009 A CN113515009 A CN 113515009A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- separated
- support sections
- nanoimprint
- supporting frame
- bendable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims abstract description 32
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims 4
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 claims 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000010837 adhesive waste Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Micromachines (AREA)
Abstract
本发明提供一种纳米压印离膜机构，包括可弯转式支撑框架，其中，通过预先的压印工序覆盖在承载片上的待分离软膜固定在所述可弯转式支撑框架内；并且，所述待分离软膜的任意位置可进行任意角度的弯折。利用上述发明能够有效地解决现有的离膜机构无法适用所有角度的光栅的问题。
Description
技术领域
本发明涉及微/纳米压印加工技术领域，更为具体地，涉及一种纳米压印离膜机构。
背景技术
在微/纳米压印加工工序中，当压印完毕后，需要进行离膜处理。现有离膜方式(如图1和图4共同所示)为通过将软膜13’固定在框架15’上(两侧固定，前侧为调整侧151’，后侧为固定侧152’)，压印时软膜13’整体覆盖在承载片11’上，上面使用滚轮14’将软膜13’上的图案压印到承载片11’上(承载片11’表面胶材12’形成所需图案，即光栅的图案)，而分离时，通过缓慢抬起框架15’的调整侧151’，在滚轮14’的配合下进行软膜13’与承载片11’的分离，此过程即为离膜；在离膜的过程中，部分废弃的胶材(即分离部122’)会随软膜分离走，剩余的胶材即可在承载片11’上形成所需图案的光栅121’。
然而，在实际离膜过程中，因软膜13’的固定方式不变，离膜时的角度也基本不会有太大变化，但因光栅121’结构设计的不同，光栅121’的角度、深度、间距都有不同。
如遇到顺向的光栅121’(如图2所示，与离膜时角度相同)，由于分离部122’与光栅的角度方向一致，离膜阻力较低，易出现脱模现象。如遇到逆向的光栅121’(如图3所示，与离膜时角度相反)，由于分离部122’与光栅的角度方向不一致，离膜阻力较大，且由于框架15’为硬质支架，无法根据需求进行有效弯曲，因此分离时会造成离膜难度大大增加，甚至造成分离不开的情况，造成离膜失败，整片承载片11’报废。
基于以上技术问题，亟需一种能够适用不同角度光栅的离膜机构。
发明内容
鉴于上述问题，本发明的目的是提供一种纳米压印离膜机构，以解决现有的离膜机构无法适用所有角度的光栅的问题。
本发明实施例中提供的纳米压印离膜机构，通过预先的压印工序覆盖在承载片上的待分离软膜固定在所述可弯转式支撑框架内；并且，
所述可弯转式支撑框架通过其自身任意角度的弯折以弯折所述待分离软膜的任意位置。
此外，优选的结构是，所述可弯转式支撑框架为链式结构。
此外，优选的结构是，所述可弯转式支撑框架包括首尾相连的N个微型支撑节；其中，相邻的两个微型支撑节的靠近端之间可进行固定支撑或分离；其中，
当相邻的两个的微型支撑节的靠近端之间固定支撑时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个的微型支撑节对应的位置处于固定拉伸状态；当相邻的两个所述微型支撑节的靠近端之间分离时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。
此外，优选的结构是，在相邻的两个所述微型支撑节的靠近端分别设置有第一磁性部和第二磁性部，相邻的两个所述微型支撑节之间通过所述第一磁性部和所述第二磁性部之间的磁力实现固定支撑；并且，
当在外力的作用下，所述第一磁性部和所述第二磁性部分离时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。
此外，优选的结构是，还包括控制所述第一磁性部和所述第二磁性部的电磁阀，当所述电磁阀控制所述第一磁性部和/或所述第二磁性部失去磁力时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。
此外，优选的结构是，在相邻的两个所述微型支撑节之间还连接有柔性连接线。
此外，优选的结构是，所述微型支撑节为非磁性金属制件。
此外，优选的结构是，在所述可弯转式支撑框架上还设置有滚轮，所述待分离软膜通过所述可弯转式支撑框架配合所述滚轮自所述承载片上分离。
此外，优选的结构是，所述承载片固定在预设的旋转平台上。
此外，优选的结构是，在所述承载片与所述待分离软膜之间设置有胶材，所述胶材的分离部随所述待分离软膜进行分离，所述胶材除所述分离部外的剩余部分在所述承载片上形成光栅。
从上面的技术方案可知，本发明提供的纳米压印离膜机构，通过改变框架的结构和平台(承载晶圆片的平台)的结构，使整个离膜的方向可以适用于各种角度，这样可以应对不同的光栅设计，使离膜阻力更小，离膜良率更高。此外，框架边框使用链式结构，在软膜固定时处于拉伸状态，软膜可很好的安装在框架上，在离膜时，框架的对应位置又固定拉伸状态转为可弯转状态，配合滚轮移动形成可向垂直面任意方向(平面180°)进行离膜，同时搭配平台的旋转功能，可以向任意角度完成离膜。
附图说明
通过参考以下结合附图的说明，并且随着对本发明的更全面理解，本发明的其它目的及结果将更加明白及易于理解。在附图中：
图1为本发明实施例提供的现有的离膜机构的第一状态主视图；
图2为本发明实施例提供的现有的离膜机构的第二状态主视图；
图3为本发明实施例提供的现有的离膜机构的第三状态主视图；
图4为本发明实施例提供的现有的离膜机构的俯视图；
图5为本发明实施例提供的纳米压印离膜机构的主视图；
图6为本发明实施例提供的纳米压印离膜机构的俯视图；
图7为本发明实施例提供的可弯转式支撑框架的局部放大图；
其中的附图标记包括：承载片11、胶材12、光栅121、分离部122、待分离软膜13、滚轮14、可弯转式支撑框架15、第一磁性部151、第二磁性部152、旋转平台16。
在所有附图中相同的标号指示相似或相应的特征或功能。
具体实施方式
为详细描述本发明的纳米压印离膜机构的结构，以下将结合附图对本发明的具体实施例进行详细描述。
图5示出了本发明实施例提供的纳米压印离膜机构的主视结构，图6示出了本发明实施例提供的纳米压印离膜机构的俯视结构。
结合图5和图6共同所示，本发明实施例中提供的纳米压印离膜机构包括起支撑作用和分离作用的可弯转式支撑框架15(当固定安装待分离软膜13时起支撑作用，当分离待分离软膜13时，起分离作用)，其中，通过预先的压印工序覆盖在承载片11(通常使用晶圆片)上的待分离软膜13的前后两侧固定在可弯转式支撑框架15上；并且，待分离软膜13的任意位置可进行任意角度的弯折。
在实际离膜过程中，由于可弯转式支撑框架15的任意位置均可进行任意角度的弯折，因此，可以根据需求对可弯转式支撑框架15进行弯折，以使待分离软膜13所受的离膜力始终与光栅121(任意角度的光栅121)相互平行，从而避免由于离膜阻力较大造成离膜失败的现象。
具体地，图7示出了本发明实施例提供的可弯转式支撑框架15的局部放大结构，结合图5至图7共同所示，可弯转式支撑框架15可以设置成链式结构，以满足所需的弯转需求。例如，可弯转式支撑框架15可以包括首尾相连的N个微型支撑节；其中，相邻的两个微型支撑节的靠近端之间可进行固定支撑或分离；并且，当相邻的两个的微型支撑节的靠近端之间固定支撑时，可弯转式支撑框架15上的与相邻的两个的微型支撑节对应的位置处于固定拉伸状态(当固定安装待分离软膜13起支撑作用时使用)；当相邻的两个微型支撑节的靠近端之间分离时，可弯转式支撑框架15上的与相邻的两个微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折(当分离待分离软膜13时)。
此外，为实现相邻的两个微型支撑节之间的分离效果以及固定支撑效果，在相邻的两个微型支撑节的靠近端分别设置有第一磁性部151和第二磁性部152，相邻的两个微型支撑节之间通过第一磁性部151和第二磁性部152之间的磁力实现固定支撑；并且，当在外力的作用下，第一磁性部151和第二磁性部152分离时，可弯转式支撑框架15上的与相邻的两个微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。
当然，由于手动提供外力对第一磁性部151和第二磁性部152进行分离比较不方便，因此，还可以设置控制第一磁性部151和第二磁性部152的电磁阀，当电磁阀控制第一磁性部151和/或第二磁性部152失去磁力时，可弯转式支撑框架15上的与相邻的两个微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。
需要说明的是，相邻的两个微型支撑节的分离只是局部分离，为保证可弯转式支撑框架15的整体结构，相邻的两个微型支撑节之间还需要通过其他连接件进行连接，并可提供所需的弯折阈量，例如，相邻的两个微型支撑节之间还连接有柔性连接线，通过柔性连接线进行连接并提供所需的弯折阈量。
具体地，为保证可弯转式支撑框架15能够提供所需的支撑效果以及所需的弯折效果，微型支撑节可以通过非磁性金属进行制件，比如铜。
需要说明的是，为保证离膜效果，在可弯转式支撑框架15上还设置有滚轮14，待分离软膜13通过可弯转式支撑框架15配合滚轮14自承载片11上分离。
此外，为进一步提高离膜效果，承载片11可以固定在预设的旋转平台16上，在离膜过程中，通过可弯转式支撑框架15搭配旋转平台16的旋转功能，可以向任意角度完成离膜。
具体地，在实际离膜过程中，在承载片11与待分离软膜13之间均设置有胶材12，胶材12的分离部122(废弃部分的胶材12)随待分离软膜13进行分离，剩余的胶材12在承载片11上形成光栅121。
如上参照附图以示例的方式描述了根据本发明提出纳米压印离膜机构。但是，本领域技术人员应当理解，对于上述本发明所提出的纳米压印离膜机构，还可以在不脱离本发明内容的基础上做出各种改进。因此，本发明的保护范围应当由所附的权利要求书的内容确定。
Claims (10)
1.一种纳米压印离膜机构，其特征在于，包括可弯转式支撑框架，其中，通过预先的压印工序覆盖在承载片上的待分离软膜固定在所述可弯转式支撑框架内；并且，
所述可弯转式支撑框架通过其自身任意角度的弯折以弯折所述待分离软膜的任意位置。
2.如权利要求1所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
所述可弯转式支撑框架为链式结构。
3.如权利要求2所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
所述可弯转式支撑框架包括首尾相连的N个微型支撑节；其中，相邻的两个微型支撑节的靠近端之间可进行固定支撑或分离。
4.如权利要求3所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
相邻的两个的微型支撑节的靠近端之间固定支撑时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个微型支撑节对应的位置处于固定拉伸状态；当相邻的两个所述微型支撑节的靠近端之间分离时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。
5.如权利要求3所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
在相邻的两个所述微型支撑节的靠近端分别设置有第一磁性部和第二磁性部，相邻的两个所述微型支撑节之间通过所述第一磁性部和所述第二磁性部之间的磁力实现固定支撑；并且，
当在外力的作用下，所述第一磁性部和所述第二磁性部分离时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。
6.如权利要求5所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
还包括控制所述第一磁性部和所述第二磁性部的电磁阀，当所述电磁阀控制所述第一磁性部和/或所述第二磁性部失去磁力时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。
7.如权利要求3所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
在相邻的两个所述微型支撑节之间还连接有柔性连接线。
8.如权利要求3所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
所述微型支撑节为非磁性金属制件。
9.如权利要求1所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
在所述可弯转式支撑框架上还设置有滚轮，所述待分离软膜通过所述可弯转式支撑框架配合所述滚轮自所述承载片上分离。
10.如权利要求1-9所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，
在所述承载片与所述待分离软膜之间设置有胶材，所述胶材的分离部随所述待分离软膜进行分离，所述胶材除所述分离部外的剩余部分在所述承载片上形成光栅。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110494511.3A CN113515009A (zh) | 2021-05-07 | 2021-05-07 | 纳米压印离膜机构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110494511.3A CN113515009A (zh) | 2021-05-07 | 2021-05-07 | 纳米压印离膜机构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113515009A true CN113515009A (zh) | 2021-10-19 |
Family
ID=78064232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110494511.3A Pending CN113515009A (zh) | 2021-05-07 | 2021-05-07 | 纳米压印离膜机构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113515009A (zh) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0780865A (ja) * | 1993-09-10 | 1995-03-28 | Tosoh Corp | 光学用樹脂薄膜の剥離方法及びその剥離用枠状体 |
| US20060131260A1 (en) * | 2003-01-23 | 2006-06-22 | Futoshi Okuyama | Member for circuit board, method and manufacturing circuit board, apparatus for manufacturing circuit board |
| KR20080014428A (ko) * | 2006-08-11 | 2008-02-14 | 삼성전자주식회사 | 디몰딩 장치 및 이를 사용한 디몰딩 방법 |
| JP2014004825A (ja) * | 2012-05-31 | 2014-01-16 | Fujikura Ltd | パターン形成方法及び離型装置 |
| CN104334333A (zh) * | 2012-05-24 | 2015-02-04 | 旭硝子株式会社 | 光学构件的制造方法、光学构件、带有保护膜的光学构件以及光学面板的制造方法 |
| US20160275830A1 (en) * | 2015-03-17 | 2016-09-22 | Lg Display Co., Ltd. | Back Plate Member for Flexible Display, Display Apparatus Including the Same, and Method of Manufacturing the Same |
| JP2017105050A (ja) * | 2015-12-09 | 2017-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 転写材料、転写材料の製造方法、タッチパネルの製造方法およびタッチパネル |
| CN112526660A (zh) * | 2020-11-11 | 2021-03-19 | 歌尔股份有限公司 | 在弯曲表面上制造纳米光栅的方法、光学器件及电子设备 |
-
2021
- 2021-05-07 CN CN202110494511.3A patent/CN113515009A/zh active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0780865A (ja) * | 1993-09-10 | 1995-03-28 | Tosoh Corp | 光学用樹脂薄膜の剥離方法及びその剥離用枠状体 |
| US20060131260A1 (en) * | 2003-01-23 | 2006-06-22 | Futoshi Okuyama | Member for circuit board, method and manufacturing circuit board, apparatus for manufacturing circuit board |
| KR20080014428A (ko) * | 2006-08-11 | 2008-02-14 | 삼성전자주식회사 | 디몰딩 장치 및 이를 사용한 디몰딩 방법 |
| CN104334333A (zh) * | 2012-05-24 | 2015-02-04 | 旭硝子株式会社 | 光学构件的制造方法、光学构件、带有保护膜的光学构件以及光学面板的制造方法 |
| JP2014004825A (ja) * | 2012-05-31 | 2014-01-16 | Fujikura Ltd | パターン形成方法及び離型装置 |
| US20160275830A1 (en) * | 2015-03-17 | 2016-09-22 | Lg Display Co., Ltd. | Back Plate Member for Flexible Display, Display Apparatus Including the Same, and Method of Manufacturing the Same |
| JP2017105050A (ja) * | 2015-12-09 | 2017-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 転写材料、転写材料の製造方法、タッチパネルの製造方法およびタッチパネル |
| CN112526660A (zh) * | 2020-11-11 | 2021-03-19 | 歌尔股份有限公司 | 在弯曲表面上制造纳米光栅的方法、光学器件及电子设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI653155B (zh) | 卷對卷製程中具有高浮雕印章之微接觸印刷方法及使用彼之系統 | |
| JP2005266781A5 (zh) | ||
| WO2008139643A1 (ja) | 露光方法および露光装置 | |
| EP1116600A3 (en) | Apparatus and method for binding sheet media | |
| EP1635160A3 (en) | Nanostepper/sensor systems and methods of use thereof | |
| CN100503399C (zh) | 吸引装置及层叠片的输送方法 | |
| CN113515009A (zh) | 纳米压印离膜机构 | |
| US20060101621A1 (en) | Magnetic bookmark utilizing built-in fulcrum and levers | |
| DE602004014002D1 (de) | Stempel zum Auftragen eines Motivs, Verfahren zur Stempelherstellung und Verfahren zur Herstellung eines Objekts anhand von diesem Stempel | |
| TWI658944B (zh) | 用於卷對卷製程中微接觸印刷的再上墨輥 | |
| CN101391715A (zh) | 粘带粘贴装置,以及向薄膜部件的粘带粘贴方法 | |
| EP1219363A3 (en) | Bending apparatus for a long material | |
| CN107472979B (zh) | 薄膜剥离卷绕装置 | |
| EP0944235A3 (en) | Imaging system with integral punch assembly | |
| CN211034624U (zh) | 撕膜机构及撕膜系统 | |
| EP0938019A3 (en) | Flange for hollow article | |
| JP6471943B2 (ja) | 頁押え装置 | |
| CN210614447U (zh) | 离型膜静电除尘装置 | |
| CN107107458B (zh) | 筒型图案膜的制作方法、图案辊的制作方法以及剥离装置 | |
| JP4458958B2 (ja) | 微細パターン形成方法および微細パターン形成装置 | |
| CN207267453U (zh) | 一种汽车方向盘的换挡拨片 | |
| WO2008005448A3 (en) | Nanoscale masking and printing using patterned substrates | |
| CN206212198U (zh) | 基于可卷曲屏的伸缩型电视盒子 | |
| CN209784736U (zh) | 分离爪组件结构及纸张分离系统 | |
| CN215474111U (zh) | 一种玩具画板锁笔固定机构 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |