JP2014002152A - 位置測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】二つの機械構成要素の相対位置を検出するために使用する位置測定装置であり、その機械構成要素は、スライド面で少なくとも第一および第二主移動方向に沿って互いに可動で配設されている。位置測定装置には、第一機械構成要素に配設された少なくとも一つの基準尺が含まれている。第二機械構成要素には、少なくとも6つの走査検知ユニットE11〜E16が配設されており、それがスライド面において少なくとも二つの測定方向MR1,2で基準尺を光学的に走査検知するために使用される。各測定方向には、少なくとも二つの走査検知ユニットが割り当てられている。スライド面における測定方向それぞれの走査検知ユニットが、第二機械構成要素の中心に関して非点対称で配設されている。
【選択図】図6
Description
−スケールプレート面で規定方向に沿った方向成分;この方向における位置測定値を、以下においてY(enc)で表すことにする。
−スケールプレートに対して直角である間隔(直交方向)に沿った方向成分;この位置測定値を、以下においてZで表すことにし、Z測定として該当する間隔測定である。
−スケールプレートM1〜M4の歪(静的または機械の運転で徐々に変化する所謂“ドリフト”、しばしば温度変動が原因となる)
−加工製品が位置しているテーブルTないし機械構成要素の振動および固有振動
加工製品が大きければ大きい程、上記の障害要因が重要である、というのは、大きな機械構成要素およびスケールプレートには、それらの構成を強化して振動および変形を抑制することが比較的難しいからである。しかしながら、スケールの変形および機械構成要素の振動について、その時の励振状態の測定データを使用できる場合には、適切な方策を講じて補正または緩衝することがある。
機械構成要素の振動を、機械の運転時に測定システムを介して検出するのではなく、機械構成要素に対する外力の作用を示す動的な物理モデルを介して算出する。その物理モデルは、理論的な計算または機械的な測定から求めることができる。従って、このモデルで実際の機械的な挙動からの僅かな違いおよび、機械構成要素に対する検出されない力の作用が直接、加工製品に対する相対的な加工工具の位置決め誤差に影響する。実際の挙動とモデルの予想との違いは、機械の運転時に検出することができない。
本発明による位置測定装置の利点ある実施変形例は、従属する特許請求項の特徴から得られる。
−スライド面において互いに直交していると共に第二機械構成要素の中心で交差する二つの軸により、4つの象限を有する直交座標系が構成されており、そして
−少なくとも二つの象限に、それぞれ同じ測定方向を有する少なくとも二つの走査検知ユニットそれぞれが配設されている
ようにしていることがある。
−スライド面において互いに直交していると共に第二機械構成要素の中心で交差する二つの軸により、4つの象限を有する直交座標系が構成されており、そして
−少なくとも3つの象限に、それぞれ同じ測定方向を有する少なくとも二つの走査検知ユニットそれぞれが配設されている
ようにしていることもある。
−スライド面において互いに直交していると共に第二機械構成要素の中心で交差する二つの軸により、4つの象限を有する直交座標系を構成しており、そして
−4つの象限すべてに、それぞれ同じ測定方向を有する少なくとも二つの走査検知ユニットそれぞれが配設されている
ようにしていることもある。
更に少なくとも3つの象限に、別の走査検知ユニットが配設されており、それが別の方向に沿って二つの機械構成要素の相対位置を検出するように構成されているようにしていることがあり、その方向がスライド面に対して直角に向いている。
−可動で配設された機械構成要素の複数自由度を検出するために、そして
−機械構成要素の振動を検出するために
使用することができる。
以上により本発明による位置測定装置は、機械構成要素の振動を瞬時に一緒に検出することを可能にする。この場合に従来技術と違って、長期に亘る測定値の分析を特に必要としない。振動に起因する機械構成要素の向き変化についての情報が、遅滞なく得られるので、機械制御システムにおける不要なタイムラグないし鈍い反応を避けることができる。
本発明の更なる利点および詳細は、図を使った実施例の説明から得られる。
振動モードを引き起こすのは、そのモードに特徴的な形態にある該当機械構成要素の振動する変形である。図4a〜4eでは、方形で構成され均質の機械構成要素における5つの最低周波数の振動モードを例示的に図示しており、そのとき機械構成要素として設けているのは、上に加工製品を配置する平坦なテーブルである。その図4a〜4eは、それぞれ機械構成要素の高さ形状線、即ちZ方向の向き変化を示している。この図では等高線の他に、それぞれの傾斜の方向を示す矢印も記載している。位置測定装置で機械構成要素の異なった位置に取り付けられた個々の走査検知ユニットが、これらの振動する変形により向きを変えられる。機械構成要素のモードが既知である場合には、機械構成要素の撓みによる位置測定値を、既知であり走査検知ユニットの位置に関係する方法で補正する。
−必要な場合には、例えば種々の固有周波数に分割することにより、走査検知ユニットで提供される位置測定値より多くの自由度を区別することができる。
−瞬時的な変動(例えばノイズ)を低減するために、先に行った測定からの情報を最終結果に盛り込むことができる。
−それぞれ検出したモードでその時の振幅および位相を特定することが可能である。そのために、時間的に推論した向きの変化を使用することがある。その場合には、それに先行する測定時点の少なくとも一セットの位置測定値を算入する。
機械の設計段階には、例えば有限要素シミュレーションまたはNの最重要振動モードを求めるための適切な測定により、関連する機械構成要素のモード分析を行う。
以上により例えば、モータ制御に連結された機械構成要素の加速を使って、または別個のアクチュエータの制御を使って、振動を緩衝する力を機械構成要素に作用させることが可能である。
ここで、本発明による位置測定装置における走査検知ユニットの配設を、検出するモードに関して出来るだけ敏感となるように、そして大きな移動範囲を確保するように有利に選ぶ必要があろう。工数および費用を少なく維持するためには、本発明による位置測定装置に使用する走査検知ユニットは出来るだけ少数であることが必要であろう。しかしながら基本的に少なくとも3つの重要な振動モードを、本発明による位置測定装置で選択した構成を介して検出できることが必要であろう。
テーブルTの6剛体自由度を求めるためには、コーナーにある3つの走査検知ユニットE1,E3,E5を介して既に十分な情報が得られる。残りの3つの走査検知ユニットE2,E4,E6は、振動検出のための追加情報を出力する。しかしながら、走査検知ユニットのペアE1,E2およびE5,E6は、互いが点対称で配設されている、即ち、これらの走査検知ユニットE1,E2およびE5,E6により出力される情報は、少なくとも一部で余剰である。そのことから、図5で示す8つの走査検知ユニットE1〜E8の配設は、場合により存在する振動についての最大可能な情報を得るために理想的ではない。
テーブルTの回転を出来るだけ良好に検出できるようにするためには、走査検知ユニットE11〜E16間で十分に大きな間隔がなければならない。従って、走査検知ユニットE11〜E16はすべてが、軸A1,A2により定義された座標系の一つおよび同じ象限Q1〜Q4に位置していないと好都合である。同時に、スケールプレートの大きさが制限されているけれども、可能な限り大きな移動範囲でテーブルTの位置測定を出来るようにする必要がある。これら二つの必要事項は先に簡単に述べたように、それぞれ同じ測定方向MR1,MR2の少なくとも二つの走査検知ユニットE11〜E16を、言及している座標系の異なる二つの象限Q1〜Q4に設けることで対応することができる。同じ測定方向MR1ないしMR2の二つの走査検知ユニットE11,E12ないしE13,E14により、二つの走査検知ユニットの一つがスケールプレートの下に位置していない時にも、位置の測定が確保される。
ここでも6つの走査検知ユニットE21〜E26が設けられており、それらが規定の形式と方法でテーブルTないし該当する機械構成要素に配設されている。
該当する機械で加工工具が大きくなると、スケールプレートの中心に大きな範囲を切り取ることが必要になる場合がある。従って加工工具の下に位置する走査検知ユニットは、位置値を出力しない。
説明した変形例の他に勿論、本発明の範疇で更に多くの別の実施可能性がある。
E1〜E8 走査検知ユニット
E11〜E16 走査検知ユニット
E21〜E26 走査検知ユニット
E31〜E38 走査検知ユニット
M 基準尺
M1〜M4 スケールプレート
MR1,MR2 測定方向
Q1〜Q4 象限
S 中心
T テーブル
X,Y,Z 測定方向、座標
Claims (11)
- スライド面で少なくとも第一主移動方向(Y)および第二主移動方向(X)に沿って、互いに可動で配設されている二つの機械構成要素の相対位置を検出するために使用される位置測定装置であって、
第一機械構成要素に配設された少なくとも一つの基準尺、および
第二機械構成要素に配設されていると共に、スライド面において少なくとも二つの測定方向(MR1,MR2)で基準尺を光学的に走査検知するために使用される少なくとも6つの走査検知ユニット(E11〜E16;E21〜E26;E31〜E38)
を有している位置測定装置において、
各測定方向(MR1,MR2)に、少なくとも二つの走査検知ユニット(E11〜E16;E21〜E26;E31〜E38)が割り当てられており、
スライド面における測定方向(MR1,MR2)それぞれの走査検知ユニット(E11〜E16;E21〜E26;E31〜E38)が、第二機械構成要素の中心(S)に関して非点対称で配設されている
ことを特徴とする位置測定装置。 - 請求項1に記載の位置測定装置において、
少なくとも3つの別の走査検知ユニットを有しており、それが別の方向(Z)に沿って二つの機械構成要素の相対位置を検出するように構成されており、その方向がスライド面に対して直角に向いている
ことを特徴とする位置測定装置。 - 請求項1に記載の位置測定装置において、
スライド面で共通した測定方向(MR1,MR2)を有する走査検知ユニット(E11〜E16)が、共通した接続直線上に配設されていない
ことを特徴とする位置測定装置。 - 請求項1に記載の位置測定装置において、
スライド面において互いに直交していると共に第二機械構成要素の中心(S)で交差する二つの軸(A1,A2)により、4つの象限(Q1〜Q4)を有する直交座標系が構成されており、
少なくとも二つの象限(Q1,Q2)に、それぞれ同じ測定方向(MR1,MR2)を有する少なくとも二つの走査検知ユニット(E11,E12,E13,E14)が配設されている
ことを特徴とする位置測定装置。 - 請求項1に記載の位置測定装置において、
スライド面において互いに直交していると共に第二機械構成要素の中心(S)で交差する二つの軸(A1,A2)により、4つの象限(Q1〜Q4)を有する直交座標系が構成されており、
少なくとも3つの象限(Q1,Q2,Q3)に、それぞれ同じ測定方向(MR1,MR2)を有する少なくとも二つの走査検知ユニット(E21,E22,E23,E24,E25,E26)が配設されている
ことを特徴とする位置測定装置。 - 請求項1に記載の位置測定装置において、
スライド面において互いに直交していると共に第二機械構成要素の中心(S)で交差する二つの軸(A1,A2)により、4つの象限(Q1〜Q4)を有する直交座標系が構成されており、
4つの象限(Q1,Q2,Q3,Q4)すべてに、それぞれ同じ測定方向(MR1,MR2)を有する少なくとも二つの走査検知ユニット(E21,E22,E23,E24,E25,E26,E31,E32,E33,E34,E35,E36,E37,E38)が配設されている
ことを特徴とする位置測定装置。 - 請求項4、5、または6のいずれかに記載の位置測定装置において、
対角方向で対向する象限(Q1〜Q4)に配設されている走査検知ユニット(E11〜E16;E21〜E26;E31〜E38)が、それぞれ全て同じ測定方向(MR1,MR2)を有している
ことを特徴とする位置測定装置。 - 請求項4、5、または6のいずれかに記載の位置測定装置において、
少なくとも3つの象限に別の走査検知ユニットが配設されており、それが別の方向に沿って二つの機械構成要素の相対位置を検出するように構成されており、その方向がスライド面に対して直角に向いている。
ことを特徴とする位置測定装置。 - 前記請求項のいずれか一つに記載の位置測定装置において、
スライド面における一つの測定方向用の少なくとも一つの走査検知ユニットが、スライド面に対して直角な測定方向用の走査検知ユニットと一緒に、組み合わせ走査検知ユニットに一体化されている
ことを特徴とする位置測定装置。 - 前記請求項のいずれか一つに記載の位置測定装置の、
可動で配設された機械構成要素の複数自由度を検出し、
機械構成要素の振動を検出するための
使用。 - 請求項10において、位置測定装置の、使用されている基準尺の誤差を検出するための使用。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014216932A1 (de) | 2013-08-28 | 2015-03-05 | Yazaki Corporation | Leiterplatte zum Montieren eines Überbrückungsmoduls und Leiterplatten-Anordnung |
JP6266144B1 (ja) * | 2017-01-27 | 2018-01-24 | Dmg森精機株式会社 | 振動状態検出装置及び振動状態検出装置を備えた工作機械 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015219810A1 (de) * | 2015-10-13 | 2017-04-13 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | X-Y-Tisch mit einer Positionsmesseinrichtung |
DE102016206144A1 (de) | 2016-04-13 | 2017-10-19 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmessanordnung und Verfahren zum Betrieb einer Positionsmessanordnung |
CN108613647B (zh) * | 2018-07-02 | 2020-02-25 | 燕山大学 | 三自由度平面并联机构动平台位姿检测装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007129194A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-05-24 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2009278097A (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2011049557A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2013164416A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 位置測定装置で複数の走査検知ユニットを有する構造 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3239108A1 (de) * | 1982-10-22 | 1984-04-26 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Positionsmessverfahren und einrichtungen zur durchfuehrung des verfahrens |
KR0170581B1 (ko) | 1995-10-10 | 1999-02-01 | 윤종용 | 칼라 브라운관 색감 처리용 코팅 조성물 |
EP0896206B1 (de) * | 1997-08-07 | 2002-12-11 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Abtasteinheit für eine optische Positionsmesseinrichtung |
DE102005029917A1 (de) * | 2005-06-28 | 2007-01-04 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
DE102005043569A1 (de) * | 2005-09-12 | 2007-03-22 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
US7542863B2 (en) * | 2005-11-09 | 2009-06-02 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Position measuring system |
EP3171220A1 (en) * | 2006-01-19 | 2017-05-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US7602489B2 (en) | 2006-02-22 | 2009-10-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102006048628A1 (de) * | 2006-10-13 | 2008-04-17 | Siemens Ag | Messelement mit einer als Maßverkörperung fungierenden Spur und korrespondierendes, mit einem solchen Messelement ausführbares Messverfahren |
US8237916B2 (en) * | 2007-12-28 | 2012-08-07 | Nikon Corporation | Movable body drive system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
DE102008022027A1 (de) * | 2008-05-02 | 2009-11-05 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
EP2366091B1 (en) * | 2008-12-05 | 2018-08-01 | Mycronic AB | Cartesian coordinate measurement for a rotating system |
CN101566800B (zh) * | 2009-02-27 | 2011-05-11 | 上海微电子装备有限公司 | 一种用于光刻设备的对准系统和对准方法 |
DE102010029211A1 (de) * | 2010-05-21 | 2011-11-24 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optische Positionsmesseinrichtung |
NL2006804A (en) | 2010-06-24 | 2011-12-28 | Asml Netherlands Bv | Measurement system, method and lithographic apparatus. |
-
2012
- 2012-06-19 DE DE102012210309A patent/DE102012210309A1/de not_active Withdrawn
-
2013
- 2013-05-29 EP EP13169683.3A patent/EP2679962B1/de active Active
- 2013-06-17 CN CN201310240064.4A patent/CN103512493B/zh active Active
- 2013-06-17 US US13/919,780 patent/US8988691B2/en active Active
- 2013-06-19 JP JP2013128269A patent/JP6250310B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007129194A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-05-24 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2009278097A (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2011049557A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2013164416A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 位置測定装置で複数の走査検知ユニットを有する構造 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014216932A1 (de) | 2013-08-28 | 2015-03-05 | Yazaki Corporation | Leiterplatte zum Montieren eines Überbrückungsmoduls und Leiterplatten-Anordnung |
JP6266144B1 (ja) * | 2017-01-27 | 2018-01-24 | Dmg森精機株式会社 | 振動状態検出装置及び振動状態検出装置を備えた工作機械 |
JP2018118359A (ja) * | 2017-01-27 | 2018-08-02 | Dmg森精機株式会社 | 振動状態検出装置及び振動状態検出装置を備えた工作機械 |
WO2018138949A1 (ja) * | 2017-01-27 | 2018-08-02 | Dmg森精機株式会社 | 振動状態検出装置及び振動状態検出装置を備えた工作機械 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103512493A (zh) | 2014-01-15 |
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EP2679962A1 (de) | 2014-01-01 |
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