JP2014002123A - 液滴の切削方法および液滴断面の分析方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体の表面に液滴を載置し、液滴が固化する温度以下の冷却温度に冷却し、液滴を切削する。液滴断面の分析方法は、上記液滴の切削方法により切削されて露出した断面を分析する。
【選択図】図1
Description
液滴を切削して断面を露出させる方法であって、
複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体の表面に液滴を載置し、該液滴が固化する温度以下の冷却温度に冷却し、該液滴を切削する。
本発明の液滴の切削方法は、液滴を切削して断面を露出させる方法であって、複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体の表面に液滴を載置し、該液滴が固化する温度以下の冷却温度に冷却し、該液滴を切削する。
本発明の液滴の切削方法で用いるカーボンナノチューブ集合体は、複数のカーボンナノチューブを備える。図1は、本発明の好ましい実施形態において用いるカーボンナノチューブ集合体の一例の概略断面図である。図1において、カーボンナノチューブ集合体100は、複数のカーボンナノチューブ10を備える。図1において、複数のカーボンナノチューブ10は、それぞれ、長さLの方向に配向している。
本発明の液滴の切削方法で用いるカーボンナノチューブ集合体の好ましい実施形態の1つ(以下、第1の好ましい実施形態と称することがある)は、複数のカーボンナノチューブを備え、該カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の分布幅が10層以上であり、該層数分布の最頻値の相対頻度が25%以下である。
本発明の液滴の切削方法で用いるカーボンナノチューブ集合体の好ましい実施形態の別の1つ(以下、第2の好ましい実施形態と称することがある)は、複数のカーボンナノチューブを備え、該カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の最頻値が層数10層以下に存在し、該最頻値の相対頻度が30%以上である。
本発明の液滴の切削方法で用いるカーボンナノチューブ集合体の製造方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。
本発明の液滴断面の分析方法は、本発明の液滴の切削方法により切削されて露出した断面を分析する。
カーボンナノチューブ集合体の長さおよび直径は、走査型電子顕微鏡(SEM)によって測定した。
カーボンナノチューブ集合体におけるカーボンナノチューブの層数および層数分布は、走査型電子顕微鏡(SEM)および/または透過電子顕微鏡(TEM)によって測定した。得られたカーボンナノチューブ集合体の中から少なくとも10本以上、好ましくは20本以上のカーボンナノチューブをSEMおよび/またはTEMにより観察し、各カーボンナノチューブの層数を調べ、層数分布を作成した。
1μl以上、4μl以下の水を固体表面に落とし、いわゆる「θ/2法」として一般によく知られている測定方法に従い、液滴の左右の端点と頂点を結ぶ直線の固体表面に対する角度から接触角を求めた。「θ/2法」によれば、分度器のような目盛があれば直読でも接触角を測定できる。また、コンピュータを用いた解析によっても、計算が簡易であるので、短時間の処理によって接触角を測定できる。
下記の基準により、FIB加工の際の液滴の球体状態を評価した。
○:接触角が130度以上
△:接触角が110度以上130度未満
×:接触角が110度未満
SEM試料台にカーボンナノチューブ集合体を貼り付け、液体窒素に浸漬して冷却した。その後、水の液滴をカーボンナノチューブ集合体上で瞬間凍結させて固定し、大気非暴露の状態で、FIB−SEM複合装置に移し、冷却状態を保持したままFIB加工を行い、水滴の断面を作製した。
FIB−SEM複合装置により、冷却状態を保持したままFIB加工によって得られた水滴の断面をSEMによって分析した。
FIB加工により水滴の断面を作製する際、カーボンナノチューブ集合体上で水滴が固定された状態で断面が形成された場合を固定状態が良好である(○)と評価し、そうでない場合を固定状態が不良である(×)と評価した。
水滴の内部を試料台の影響なしで観察可能であるかどうかを確認した。カーボンナノチューブ集合体の超撥水効果により水滴が円形を保っており、凍結の際に応力による変形などが見られず、液滴本来の内部形態が観察できている場合を、断面の状態が良好である(○)と評価し、そうでない場合を断面の状態が不良である(×)と評価した。
基板としてのシリコンウェハ(シリコンテクノロジー製)上に、スパッタ装置(ULVAC製、RFS−200)により、Al薄膜(厚み5nm)を形成した。このAl薄膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS−200)にてFe薄膜(厚み0.35nm)を蒸着した。
その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分600ppmに保ったヘリウム/水素(90/50sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(85/50/5sccm、水分率600ppm)混合ガスを管内に充填させ、4分間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(1)を得た。
カーボンナノチューブ集合体(1)の長さは50μmであった。
カーボンナノチューブ集合体(1)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、最頻値は1層に存在し、相対頻度は61%であった。
得られたカーボンナノチューブ集合体(1)を、分析装置の試料台に圧着して固定し、FIB加工のための液滴を載置する試料テーブルとした。この試料テーブルを用いて、FIB加工、FIB加工によって得られた断面のSEM分析を行った。
評価結果を表1に示す。
また、カーボンナノチューブ集合体の表面に液滴が載置された状態を該表面の上方から示す走査型電子顕微鏡(SEM)による写真図を図3に、FIB加工にて切削して露出した断面の状態を示す走査型電子顕微鏡(SEM)による写真図を図4に示す。
基板としてのシリコンウェハ(シリコンテクノロジー製)上に、スパッタ装置(ULVAC製、RFS−200)により、アルミナ薄膜(厚み20nm)を形成した。このアルミナ薄膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS−200)にてFe薄膜(厚み1nm)を蒸着した。
その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分600ppmに保ったヘリウム/水素(90/50sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(85/50/5sccm、水分率600ppm)混合ガスを管内に充填させ、10分間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(2)を得た。
カーボンナノチューブ集合体(2)の長さは200μmであった。
カーボンナノチューブ集合体(2)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、最頻値は2層に存在し、相対頻度は75%であった。
得られたカーボンナノチューブ集合体(2)を、そのまま、FIB加工のための液滴を載置する試料テーブルとした。この試料テーブルを用いて、FIB加工、FIB加工によって得られた断面のSEM分析を行った。
評価結果を表1に示す。
基板としてのシリコンウェハ(シリコンテクノロジー製)上に、スパッタ装置(ULVAC製、RFS−200)により、Al薄膜(厚み5nm)を形成した。このAl薄膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS−200)にてFe薄膜(厚み2nm)を蒸着した。
その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分600ppmに保ったヘリウム/水素(90/50sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(85/50/5sccm、水分率600ppm)混合ガスを管内に充填させ、20分間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(3)を得た。
カーボンナノチューブ集合体(3)の長さは500μmであった。
カーボンナノチューブ集合体(3)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、最頻値は3層に存在し、相対頻度は72%であった。
得られたカーボンナノチューブ集合体(3)を、そのまま、FIB加工のための液滴を載置する試料テーブルとした。この試料テーブルを用いて、FIB加工、FIB加工によって得られた断面のSEM分析を行った。
評価結果を表1に示す。
シリコン基板(KST製、熱酸化膜付ウェハ、厚み1000μm)上に、真空蒸着装置(JEOL製、JEE−4X Vacuum Evaporator)により、Al薄膜(厚み10nm)を形成した後、450℃で1時間酸化処理を施した。このようにして、シリコン基板上にAl2O3膜を形成した。このAl2O3膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS−200)にてFe薄膜(厚み2nm)を蒸着させて触媒層を形成した。
その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分350ppmに保ったヘリウム/水素(120/80sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(105/80/15sccm、水分率350ppm)混合ガスを管内に充填させ、60分間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(4)を得た。
カーボンナノチューブ集合体(4)の長さは1000μmであった。
カーボンナノチューブ集合体(4)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、層数分布の分布幅は17層(4層〜20層)であり、最頻値は4層と8層に存在し、相対頻度はそれぞれ20%と20%であった。
得られたカーボンナノチューブ集合体(4)を、そのまま、FIB加工のための液滴を載置する試料テーブルとした。この試料テーブルを用いて、FIB加工、FIB加工によって得られた断面のSEM分析を行った。
評価結果を表1に示す。
導電性カーボン両面テープ(731:日新EM株式会社製)を、そのまま、FIB加工のための液滴を載置する試料テーブルとした。この試料テーブルを用いて、FIB加工、FIB加工によって得られた断面のSEM分析を行った。
評価結果を表1に示す。
10 カーボンナノチューブ
Claims (7)
- 液滴を切削して断面を露出させる方法であって、
複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体の表面に液滴を載置し、該液滴が固化する温度以下の冷却温度に冷却し、該液滴を切削する、
液滴の切削方法。 - 前記液滴の前記表面に対する接触角が110度以上である、請求項1に記載の液滴の切削方法。
- 前記切削を集束イオンビーム加工によって行う、請求項1または2に記載の液滴の切削方法。
- 前記冷却温度が−100℃以下である、請求項1から3までのいずれかに記載の液滴の切削方法。
- 前記カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の分布幅が10層以上であり、該層数分布の最頻値の相対頻度が25%以下である、請求項1から4までのいずれかに記載の液滴の切削方法。
- 前記カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の最頻値が層数10層以下に存在し、該最頻値の相対頻度が30%以上である、請求項1から4までのいずれかに記載の液滴の切削方法。
- 請求項1から6までのいずれかに記載の液滴の切削方法により切削されて露出した断面を分析する、液滴断面の分析方法。
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