JP2013535321A - 水性媒体を脱ガスするための装置および方法 - Google Patents

水性媒体を脱ガスするための装置および方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2013535321A
JP2013535321A JP2013520980A JP2013520980A JP2013535321A JP 2013535321 A JP2013535321 A JP 2013535321A JP 2013520980 A JP2013520980 A JP 2013520980A JP 2013520980 A JP2013520980 A JP 2013520980A JP 2013535321 A JP2013535321 A JP 2013535321A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
container
degassing
conduit
thin film
module
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013520980A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5596231B2 (ja
Inventor
ヴァルター・ファビアン
グラボッシュ・マティアス
グレーシェ・デニス
Original Assignee
ザルトリウス・シュテーディム・ビーオテヒ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ザルトリウス・シュテーディム・ビーオテヒ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング filed Critical ザルトリウス・シュテーディム・ビーオテヒ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング
Publication of JP2013535321A publication Critical patent/JP2013535321A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5596231B2 publication Critical patent/JP5596231B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0063Regulation, control including valves and floats
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0031Degasification of liquids by filtration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0068General arrangements, e.g. flowsheets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/02Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
    • B01D61/025Reverse osmosis; Hyperfiltration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/20Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2311/00Details relating to membrane separation process operations and control
    • B01D2311/26Further operations combined with membrane separation processes
    • B01D2311/2653Degassing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2313/00Details relating to membrane modules or apparatus
    • B01D2313/16Specific vents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/441Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/002Construction details of the apparatus
    • C02F2201/004Seals, connections
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/42Liquid level
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00Specific treatment goals
    • C02F2303/16Regeneration of sorbents, filters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

脱ガスすべき媒体を含む第一の容器と、第一の容器と第一の導管を介して接続している脱ガスモジュールと、脱ガスモジュールと第二の導管を介して接続している、脱ガス媒体を収容するための第二の容器とを備えた水性媒体を脱ガスするための装置および方法であって、
第一の導管内で、脱ガスモジュールから第一の容器への還流を阻止する逆止弁が配置されている装置および方法において、
第二の導管内に、ガスの貫流を阻止する親水性の薄膜が配置されていること、
脱ガスモジュールと親水性の薄膜の間に、排出するための疎水性の脱ガスフィルタを備えたガスを分岐管が配置されていること、
第三の導管が設けられており、この第三の導管が、第一の容器と第一の逆止弁の間で第一の導管と接続しており、
第二の容器と親水性の薄膜の間で第二の導管と接続していること、
そして
第一の逆止弁と親水性の薄膜の間の第三の導管内に、第二の容器の方向への流れを阻止する第二の逆止弁が配置されていることを特徴とする。

Description

本発明は、脱ガスすべき媒体を含む第一の容器と、第一の容器と第一の導管を介して接続している脱ガスモジュールと、脱ガスモジュールと第二の導管を介して接続している、脱ガス媒体を収容するための第二の容器とを備えた水性媒体を脱ガスするための装置であって、第一の導管内で、脱ガスモジュールから第一の容器への還流を阻止する逆止弁が配置されている装置に関する。
さらに本発明は、水性媒体を脱ガスするための方法であって、脱ガスモジュールに、第一の容器から脱ガスすべき水性媒体が逆止弁を経由して供給され、脱ガスモジュールを抜けた後、脱ガスした水性媒体が無圧状態の第二の容器内に誘導される方法に関する。
特許文献1から、水性媒体を脱ガスするための装置および方法が知られている。この場合、第一の容器から、後続するポンプと逆浸透設備を使用して、脱ガスすべき媒体は、逆止弁を経由して脱ガスモジュールに供給される。脱ガスモジュールから流出する水性媒体は、リリーフ弁を経由して第二の容器に供給される。
この公知の装置における短所は、第二の容器から第一の容器への液体の戻りが可能でないことである。それにより、例えば第一の容器に下流側で後続する逆浸透モジュールを、第二の容器からの媒体を一時的に戻すことにより流すことも可能ではない。脱ガスモジュールに上流側で配置された逆止弁をなくすと、ガスはシステム内に都合よく入らない。
特開2008−006393号公報
従って、本発明の課題は、ガスをシステムに入れること無く、少なくとも一時的に液体を第二の容器から第一の容器内に還元する明白な可能性があるように、水性媒体を脱ガスするための公知の装置および方法を改善することである。
装置に関するこの課題は、請求項1の上位概念と関連して、第二の導管内に、ガスの貫流を阻止する親水性の薄膜が配置されていること、
脱ガスモジュールと親水性の薄膜の間に、排出するための疎水性の脱ガスフィルタを備えたガスを分岐管が配置されていること、
第三の導管が設けられており、この第三の導管が、第一の容器と第一の逆止弁の間で第一の導管と接続しており、
第二の容器と親水性の薄膜の間で第二の導管と接続していること、
そして
第一の逆止弁と親水性の薄膜の間の第三の導管内に、第二の容器の方向への流れを阻止する第二の逆止弁が配置されていることにより解決される。
第二の逆止弁を配設し、かつ親水性の薄膜と疎水性の薄膜を組合せることにより、負圧が脱ガスモジュールあるいはその薄膜にかかると同時に、脱ガスモジュールは停止することが確実に達せられる。それにより、圧力が変化する設備の場合、ガスは気泡のない保持すべきシステム内に達しない。このような装置は、電気的な流量制御をせずに機能する。
本発明の好ましい実施形態によれば、親水性の薄膜と疎水性の脱ガスフィルタが、共通のフィルタケーシング内に配置されている。疎水性の脱ガスフィルタは、疎水性の薄膜として形成されているのが好ましい。その際に、疎水性の薄膜を備えた、襞を付された並列式チューブフィルタが配置されていることにより、構成部品はフィルタケーシングから成っていてもよい。この薄膜がいわゆる泡立ち点未満で運転されるうちは、この水で湿った薄膜はガス泡が透過しない。しかし、場合によっては生じるガスの影響を薄膜に与えないように、ろ過側(Umfiltratseite)のフィルタケーシングには、分岐管内に疎水性のフィルタあるいは疎水性の薄膜が配置されている。薄膜ろ過を阻止するガスは、このいわゆる脱ガスフィルタを介して容易に除去できる。
本発明の別の好ましい実施形態によれば、脱ガスモジュールは、疎水性の薄膜中空糸を備えており、この薄膜中空糸を経由して脱ガスすべき水性媒体は通じやすく、薄膜の外側に負圧がかかりやすく、あるいはキャリアガスは薄膜を経由して通じやすい。第一の逆止弁の上流側の圧力が、脱ガスモジュール内での圧力よりも高い間、第一の逆止弁は開放しており、水性媒体は親水性の薄膜を介して第二の容器内に搬送することができる。
本発明の別の好ましい実施形態によれば、第一の容器は逆浸透設備の一部であり、脱ガスすべき媒体は、COから解放された水である。その際に、逆浸透設備は逆浸透モジュールを備えており、この逆浸透モジュールにより第三の導管を経由して第二の容器からの媒体は流して戻すことが可能である。この場合、本発明による装置には、ガスをシステム内に吸引することなく、逆浸透モジュールに流して戻すことが可能であるという長所がある。
本発明の別の好ましい実施形態によれば、第二の容器は液面センサを備えており、この液面センサは逆浸透設備の電子制御装置と接続している。第二の容器内の液面センサにより、逆浸透設備の逆浸透モジュールに流して戻すことは、第二の容器内の液面レベルに応じて行うことができる。
方法に関する課題は、請求項8の上位概念に関連して、脱ガスされた水性媒体を親水性の薄膜を経由して第二の容器に供給し、親水性の薄膜の上流側に配置された疎水性の薄膜を経由して、ガスを漏出できること、そして必要のある場合に、脱ガスモジュールを迂回することにより、水性媒体を第二の容器から第二の逆止弁を経由して第一の容器内に戻すことができることにより解決される。
水性媒体が第二の容器から第一の容器に戻さねばならない場合、上流側に配置されたポンプにより、第一の逆止弁を閉鎖する負圧が生じる。同時に、脱ガスモジュールにより、後続している親水性の薄膜の下流側では、第三の導管内にある吸引圧力により、脱ガスモジュールからのガスは、親水性の薄膜の下流側に位置するシステムの領域内には吸引されないことが保証される。相応するように、第二の逆止弁により、ポンプ圧力が変動する際に、すなわち負圧の際には、脱ガスすべき水性媒体は第一の逆止弁と脱ガスモジュールを経由して案内され、脱ガスすべき水性媒体は第二の容器内には直接流れることはできない。
本発明の好ましい実施形態によれば、水性媒体が、逆浸透設備を形成している、第一の容器に後続して配置されたポンプとポンプに後続して配置された逆浸透モジュールを経由して脱ガスモジュールに第一の逆止弁を経由して供給される。
所定の充填状態に達した後、第二の容器内では、逆浸透設備が流れサイクルを開始し、逆浸透モジュールに流して戻すための水性媒体が第二の容器から吸引される。
本発明の他の詳細は、本発明の好ましい実施形態が好適に示してある、後述の詳しい明細書と添付した図から明らかである。
逆浸透設備の一部である、第一の容器により水性媒体を脱ガスするための装置のブロックダイヤグラムである。 親水性の薄膜と疎水性の脱ガスフィルタが、フィルタケース内に配置されている、図1のA点とB点の間の部分において水性媒体を脱ガスするための別の装置を示す図である。 脱ガス状態における、矢印で示した移送方向による、A点とB点の間の図1の装置のブロックダイヤグラムである。 可逆状態における、矢印で示した移送方向による、図3の装置のブロックダイヤグラムである。
水性媒体を脱ガスするための装置1は、実質的に第一の容器1、第一の逆止弁3、脱ガスモジュール4、親水性の薄膜5、第二の逆止弁6および第二の容器7から成る。
第一の実施例に相応して、第一の容器2は逆浸透設備8の一部であり、この逆浸透設備を経由して容器は装置1の導管点Aと接続している。第一の容器2あるいは導管点Aは、第一の逆止弁3が配置されている第一の導管9を経由して脱ガスモジュール4と接続している。脱ガスモジュール4は、親水性の薄膜5が配置されている第二の導管10を経由して第二の導管点B、さらに第二の容器7と接続している。第三の導管11は、第一の導管点Aと第一の逆止弁3の間の第一の導管9を、第二の導管点Bと親水性の薄膜5の間の第二の導管10と接続している。
脱ガスモジュール4と親水性の薄膜5の間には、第二の導管10の分岐管12を経由して疎水性の薄膜13を備えた疎水性の脱ガスフィルタ24が配置されている。第一の逆止弁3は、第一の容器2の方向で上流側に第一の逆止弁のバリア効果を有している間、第二の逆止弁6は、第二の容器7の方向で下流側に第二の逆止弁のバリア効果を有する。
親水性の薄膜5がガスの貫流を阻止している間、疎水性の薄膜13は水性媒体の貫流を阻止する。
逆浸透設備8は、第一の容器2の下流側にポンプ導管15を経由して逆浸透モジュール16と接続しているポンプ14を備えており、この逆浸透モジュールはその下流側で第一の導管点Aと接続している。逆浸透設備8は、電子制御装置17を備えており、この電子制御装置は別のポンプ14の下で制御し、かつ信号ケーブル18を経由して第二の容器7に配置された液面センサ19と接続している。
脱ガスモジュール4は、いわゆる薄膜コントラクタ(Membrankontraktor)として形成されている。その際に、脱ガスすべき水性媒体は疎水性の薄膜中空糸20を経由して案内される。薄膜の外側には負圧がかかっているか、あるいはキャリアガス(ストリップガス)は薄膜を経由して案内される。基本的に、負圧の際にストリップガスを使用することも可能である。二酸化炭素COの分圧により限定した状態で、水性媒体内には薄膜を通ってガスが流れる。従って、逆浸透設備の水性媒体あるいは水は、COおよび別の溶存ガスから分解される(abreichern)。液体のために、疎水性の薄膜中空糸20の疎水性の薄膜はバリアである。
図2の実施例に対応して、親水性の薄膜5’と疎水性の脱ガスフィルタ24’あるいは疎水性の薄膜13’は、共通のフィルタケーシング21内に配置されている。
脱ガスモジュール4には、供給管22を介して、ストリップガスが供給され、このストリップガスは排出管を介して再度排出される。
図3はA点での圧力が脱ガスモジュール4でのガス圧よりも大きい脱ガス経過を示す。すなわち、水性媒体はA点から逆止弁3を経由し、脱ガスモジュール4と疎水性の薄膜13を通ってB点まで流れる。疎水性の薄膜13は水性媒体に対してバリアを形成する。
図4の実施例は、可逆過程を示す。第一の導管点Aでの圧力が、ガスモジュール4でのガス圧よりも小さいと、水性媒体は第二の導管点Bから脱ガスモジュール4を通り過ぎ、第二の逆止弁6を経由して直接第一の導管点Aまで流れる。その際に、脱ガスモジュール4には、ガスを脱ガスモジュールの疎水性の薄膜中空糸20を通じて吸引する負圧がかかる。これは気相が親水性の薄膜5,5’に達するまで生じる。
1 装置
2 第一の容器
3 第一の逆止弁
4 脱ガスモジュール
5 親水性の薄膜
5’ 親水性の薄膜
6 第二の逆止弁
7 第二の容器
8 逆浸透設備
9 第一の導管
10 第二の導管
11 第三の導管
12 分岐管
13 疎水性の薄膜
13’ 疎水性の薄膜
14 逆浸透設備8のポンプ
15 ポンプ導管
16 逆浸透モジュール
17 電子制御装置
18 信号ケーブル
19 液面センサ
20 疎水性の薄膜中空糸
21 親水性の薄膜5’,疎水性の薄膜13’のフィルタケーシング
22 供給管
23 排出管
24 脱ガスフィルタ
24’ 脱ガスフィルタ
A 第一の導管点
B 第二の導管点

Claims (10)

  1. 脱ガスすべき媒体を含む第一の容器(2)と、第一の容器(2)と第一の導管(9)を介して接続している脱ガスモジュール(4)と、脱ガスモジュール(4)と第二の導管(10)を介して接続している、脱ガス媒体を収容するための第二の容器(7)とを備えた水性媒体を脱ガスするための装置(1)であって、
    第一の導管(9)内で、脱ガスモジュール(4)から第一の容器(2)への還流を阻止する逆止弁(3)が配置されている装置において、
    第二の導管(10)内に、ガスの貫流を阻止する親水性の薄膜(5,5’)が配置されていること、
    脱ガスモジュール(4)と親水性の薄膜(5)の間に、排出するための疎水性の脱ガスフィルタ(24、24’)を備えたガスを分岐管が配置されていること、
    第三の導管(11)が設けられており、この第三の導管が、第一の容器(2)と第一の逆止弁(3)の間で第一の導管(9)と接続しており、
    第二の容器(7)と親水性の薄膜(5)の間で第二の導管(10)と接続していること、
    そして
    第一の逆止弁(3)と親水性の薄膜(5)の間の第三の導管(11)内に、第二の容器(7)の方向への流れを阻止する第二の逆止弁(6)が配置されていることを特徴とする装置。
  2. 親水性の薄膜(5’)と疎水性の脱ガスフィルタ(13’)が、共通のフィルタケーシング(21)内に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  3. 疎水性の脱ガスフィルタ(24)が、疎水性の薄膜(13)として形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の装置。
  4. 脱ガスモジュール(4)が、疎水性の薄膜中空糸(20)を備えており、この薄膜中空糸を経由して脱ガスすべき水性媒体が通じやすく、薄膜の外側に負圧がかかりやすく、あるいはキャリアガスが薄膜を経由して通じやすいことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の装置。
  5. 第一の容器(2)が逆浸透設備(8)の一部であり、脱ガスすべき媒体が、COから解放された水であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の装置。
  6. 逆浸透設備(8)が逆浸透モジュール(16)を備えており、この逆浸透モジュールにより第三の導管(11)を経由して第二の容器(7)からの媒体を戻すことが可能であることを特徴とする請求項5に記載の装置。
  7. 第二の容器(7)が液面センサ(19)を備えており、この液面センサが
    逆浸透設備(8)の電子制御装置(17)と接続していることを特徴とする請求項5または6に記載の装置。
  8. 水性媒体を脱ガスするための方法であって、
    脱ガスモジュール(4)に、第一の容器(2)から脱ガスすべき水性媒体が、逆止弁(3)を経由して供給され、脱ガスモジュール(4)を抜けた後、脱ガスした水性媒体が無圧状態の第二の容器(7)内に誘導される方法において、
    脱ガスされた水性媒体を親水性の薄膜(5)を経由して第二の容器(7)に供給し、
    親水性の薄膜(5)の上流側に配置された疎水性の薄膜(13)を経由して、ガスを漏出できること、そして
    必要のある場合に、脱ガスモジュール(4)を迂回することにより、水性媒体を第二の容器(7)から第二の逆止弁(6)を経由して第一の容器(2)内に戻すことができることを特徴とする方法。
  9. 水性媒体が、逆浸透設備(8)を形成している、第一の容器(2)に後続して配置されたポンプ(14)とポンプ(14)に後続して配置された逆浸透モジュール(16)を経由して脱ガスモジュール(4)に第一の逆止弁(3)を経由して供給されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
  10. 所定の充填状態に達した後、第二の容器(7)内では、逆浸透設備(8)が流れサイクルを開始し、水性媒体を逆浸透モジュール(16)へ戻し流すために第二の容器(7)から吸引することを特徴とする請求項9に記載の方法。
JP2013520980A 2010-07-30 2011-05-20 水性媒体を脱ガスするための装置および方法 Active JP5596231B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102010032736A DE102010032736B4 (de) 2010-07-30 2010-07-30 Vorrichtung und Verfahren zur Entgasung wässriger Medien
DE102010032736.0 2010-07-30
PCT/EP2011/002520 WO2012013256A1 (de) 2010-07-30 2011-05-20 Vorrichtung und verfahren zur entgasung wässriger medien

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013535321A true JP2013535321A (ja) 2013-09-12
JP5596231B2 JP5596231B2 (ja) 2014-09-24

Family

ID=44462093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013520980A Active JP5596231B2 (ja) 2010-07-30 2011-05-20 水性媒体を脱ガスするための装置および方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8979977B2 (ja)
EP (1) EP2598224B1 (ja)
JP (1) JP5596231B2 (ja)
DE (1) DE102010032736B4 (ja)
WO (1) WO2012013256A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013202475A (ja) * 2012-03-28 2013-10-07 Sumitomo Metal Mining Engineering Co Ltd アンモニア含有排水からのアンモニア除去方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8668763B2 (en) * 2011-03-25 2014-03-11 Idex Health & Science Llc Apparatus for pervaporation control in liquid degassing systems
EP2925420B1 (en) * 2012-12-03 2022-04-20 EMD Millipore Corporation Method for redundant sterile filtration
CN104229942B (zh) * 2014-10-11 2017-02-22 南京中电环保股份有限公司 一种在液体中除碳除盐的方法及装置
EP3903899A4 (en) * 2018-12-28 2022-05-11 DIC Corporation DEGASING SYSTEM, METHOD FOR DEGASING LIQUIDS, DEGASING UNIT, DEGASING MODULE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEGASING SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCTION FROM NATURAL RESOURCES

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252088A (ja) * 1988-08-15 1990-02-21 Japan Organo Co Ltd 脱塩水製造装置
JP2000185203A (ja) * 1998-12-22 2000-07-04 Kurita Water Ind Ltd 膜脱気装置の運転方法
JP2007175603A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Miura Co Ltd 膜濾過システムの運転方法
JP2008006393A (ja) * 2006-06-30 2008-01-17 Japan Organo Co Ltd 脱炭酸装置及び脱炭酸方法
JP2009125654A (ja) * 2007-11-22 2009-06-11 Bio Research Inc 飲料用水素含有水の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4302223A (en) * 1969-03-26 1981-11-24 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Air removal device
US5252222A (en) * 1990-12-03 1993-10-12 Pall Corporation Filter for parenteral systems and method of using thereof
US5221474A (en) * 1990-12-28 1993-06-22 Terumo Kabushiki Kaisha Transfusion filtering device
US5156739A (en) 1991-09-30 1992-10-20 Millipore Corporation System for purifying and degasifying water by reverse osmosis
US5670053A (en) * 1995-08-07 1997-09-23 Zenon Environmental, Inc. Purification of gases from water using reverse osmosis
US6120689A (en) 1997-08-22 2000-09-19 Zenon Environmental, Inc. High purity water using triple pass reverse osmosis (TPRO)
DE19739142B4 (de) * 1997-09-06 2005-08-25 Reflex Winkelmann + Pannhoff Gmbh & Co. Verfahren und Vorrichtung zum Entgasen von in einer Flüssigkeit gelösten Gasen
US5989318A (en) * 1998-05-19 1999-11-23 International Fuel Cells Corporation Apparatus for separating water from a two-phase stream
JP3890229B2 (ja) * 2001-12-27 2007-03-07 株式会社コガネイ 薬液供給装置および薬液供給装置の脱気方法
KR100765409B1 (ko) * 2005-10-31 2007-10-11 한국전력공사 용존산소 제거장치 및 그 방법
JP2008089204A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Kurita Water Ind Ltd 脱酸素水の供給システム
US8685251B2 (en) * 2009-12-05 2014-04-01 Home Dialysis Plus, Ltd. Ultra-pasteurization for dialysis machines

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252088A (ja) * 1988-08-15 1990-02-21 Japan Organo Co Ltd 脱塩水製造装置
JP2000185203A (ja) * 1998-12-22 2000-07-04 Kurita Water Ind Ltd 膜脱気装置の運転方法
JP2007175603A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Miura Co Ltd 膜濾過システムの運転方法
JP2008006393A (ja) * 2006-06-30 2008-01-17 Japan Organo Co Ltd 脱炭酸装置及び脱炭酸方法
JP2009125654A (ja) * 2007-11-22 2009-06-11 Bio Research Inc 飲料用水素含有水の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013202475A (ja) * 2012-03-28 2013-10-07 Sumitomo Metal Mining Engineering Co Ltd アンモニア含有排水からのアンモニア除去方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2598224B1 (de) 2015-09-23
DE102010032736B4 (de) 2012-07-26
DE102010032736A1 (de) 2012-02-02
US20130118347A1 (en) 2013-05-16
JP5596231B2 (ja) 2014-09-24
US8979977B2 (en) 2015-03-17
WO2012013256A1 (de) 2012-02-02
EP2598224A1 (de) 2013-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5596231B2 (ja) 水性媒体を脱ガスするための装置および方法
JP5741549B2 (ja) 処理液供給方法、処理液供給装置及び記憶媒体
TWI579945B (zh) 氣泡去除方法、氣泡去除裝置、脫氣裝置、及電腦可讀取記錄媒體
TW201529142A (zh) 處理液供給裝置及處理液供給方法
CN107847655A (zh) 血液净化装置
JP2006075683A (ja) 液体塗布装置およびその液体脱気方法
US10857278B2 (en) Method of identifying a filter
JP2013222121A (ja) 液体現像剤のトナー濃度検出装置
EP3505497B1 (en) Method for operating membrane separation device, and membrane separation device
JP2009195804A (ja) 逆浸透膜モジュールの洗浄方法及び装置
JP2009083882A (ja) 充填装置
JP2000350902A (ja) 脱気方法
US11052182B2 (en) Method and apparatus for checking a dialyzer for the presence of a leak
US20150210080A1 (en) Liquid storing device, liquid storing method and inkjet recording device
JP5984135B2 (ja) 膜分離装置
JP2014082513A5 (ja)
KR102649969B1 (ko) 급액 장치, 도포 장치, 에이징 장치, 및 급액 방법
JPWO2019182036A1 (ja) 液処理装置及び液処理方法
JP2009291744A (ja) 膜濾過方法及び濾過装置
JP5084036B2 (ja) 血液透析装置における補液供給装置
JP6243778B2 (ja) 微細気泡発生装置
JP5388968B2 (ja) 膜分離装置の洗浄方法および膜分離装置
JP2008068151A (ja) 体外循環血液回路システム及びその方法
JP2019166424A (ja) 排水処理装置及び排水処理方法
JP5002540B2 (ja) 気化性液体のポンプ圧送システム

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140218

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20140515

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140522

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140617

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140730

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140806

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5596231

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250