JP2013528320A5 - - Google Patents
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- 基板の検査又は処理のためのシステム用に適合された基板支持ユニットであって、
基板を支持するように適合され、グランドに対して電気的に浮いている少なくとも1つの基板キャリア構造を含む支持台と、基板キャリア構造をグランドと電気的に接続するように適合され、基板を基板キャリア構造からアンロードした後に基板キャリア構造をグランドと電気的に接続するように構成されるスイッチングユニットとを含む基板支持ユニット。 - ベースユニットを更に含み、基板キャリア構造はベースユニットから電気的に絶縁されている請求項1記載の基板支持ユニット。
- 基板キャリア構造は、導電性材料から構成される請求項1記載の基板支持ユニット。
- 基板キャリア構造をグランドと電気的に接続するように適合されたスイッチングユニットを更に含む請求項1記載の基板支持ユニット。
- スイッチングユニットは、基板キャリア構造に電気的に接続するための少なくとも1つの第1端子と、グランドに電気的に接続するための少なくとも1つの第2端子と、スイッチングユニットを制御するための制御信号を受信するように適合された少なくとも1つの制御端子を含む請求項1記載の基板支持ユニット。
- 支持台は、少なくとも1つの方向に基板キャリア構造を移動するように適合された少なくとも1つの可動ステージを含み、可動ステージは、基板キャリア構造から電気的に絶縁されている請求項1記載の基板支持ユニット。
- 可動ステージは少なくとも2つのセグメントを含み、各セグメントは、共通の支持面を一体で形成するそれぞれの基板キャリア構造を備える請求項6記載の基板支持ユニット。
- 支持台は、少なくとも1つの方向に基板キャリア構造を移動するように適合された少なくとも1つの可動ステージを含み、可動ステージは、グランドに対して電気的に浮いている請求項1記載の基板支持ユニット。
- 可動ステージは少なくとも2つのセグメントを含み、各セグメントは、共通の支持面を一体で形成するそれぞれの基板キャリア構造を備える請求項8記載の基板支持ユニット。
- 基板キャリア構造をグランドから電気的に絶縁するための絶縁構造を更に含む請求項1記載の基板支持ユニット。
- 基板の検査又は処理のためのシステム用に適合された基板支持ユニットであって、
基板を支持するように適合された少なくとも1つの基板キャリア構造を含む支持台であって、基板キャリア構造は電気的に浮いている支持台を含み、支持台は基板キャリア構造を少なくとも1つの方向に移動させるように適合された少なくとも1つの可動ステージを含み、可動ステージは基板キャリア構造から電気的に絶縁されている基板支持ユニット。 - 可動ステージは少なくとも2つのセグメントを含み、各セグメントは、共通の支持面を一体で形成するそれぞれの基板キャリア構造を備える請求項11記載の基板支持ユニット。
- ベースユニットを更に含み、基板キャリア構造はベースユニットから電気的に絶縁されている請求項11記載の基板支持ユニット。
- 基板キャリア構造は、導電性材料から構成される請求項11記載の基板支持ユニット。
- 基板の検査又は処理のためのシステム用に適合された基板支持ユニットであって、
基板を支持するように適合された少なくとも1つの基板キャリア構造を含む支持台であって、基板キャリア構造は電気的に浮いている支持台を含み、支持台は基板キャリア構造を少なくとも1つの方向に移動させるように適合された少なくとも1つの可動ステージを含み、可動ステージはグランドに対して電気的に浮いている基板支持ユニット。 - 可動ステージは少なくとも2つのセグメントを含み、各セグメントは、共通の支持面を一体で形成するそれぞれの基板キャリア構造を備える請求項15記載の基板支持ユニット。
- ベースユニットを更に含み、基板キャリア構造はベースユニットから電気的に絶縁されている請求項15記載の基板支持ユニット。
- 基板キャリア構造は、導電性材料から構成される請求項15記載の基板支持ユニット。
- ベースユニットを更に含み、基板キャリア構造はベースユニットから電気的に絶縁されている請求項5記載の基板支持ユニット。
- 基板キャリア構造は、導電性材料から構成される請求項5記載の基板支持ユニット。
- 基板キャリア構造をグランドから電気的に絶縁するための絶縁構造を更に含む請求項5記載の基板支持ユニット。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP10163959A EP2390906A1 (en) | 2010-05-26 | 2010-05-26 | Apparatus and method for electrostatic discharge (ESD) reduction |
EP10163959.9 | 2010-05-26 | ||
PCT/EP2011/058362 WO2011147775A1 (en) | 2010-05-26 | 2011-05-23 | Apparatus and method for electrostatic discharge (esd) reduction |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013528320A JP2013528320A (ja) | 2013-07-08 |
JP2013528320A5 true JP2013528320A5 (ja) | 2014-08-07 |
JP5876037B2 JP5876037B2 (ja) | 2016-03-02 |
Family
ID=42664837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013511632A Expired - Fee Related JP5876037B2 (ja) | 2010-05-26 | 2011-05-23 | 静電放電(esd)の低減のための装置及び方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8531198B2 (ja) |
EP (1) | EP2390906A1 (ja) |
JP (1) | JP5876037B2 (ja) |
KR (1) | KR101506937B1 (ja) |
CN (1) | CN102906868B (ja) |
TW (1) | TWI459503B (ja) |
WO (1) | WO2011147775A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012100927A1 (de) * | 2012-02-06 | 2013-08-08 | Roth & Rau Ag | Prozessmodul |
US9229446B2 (en) | 2012-05-08 | 2016-01-05 | International Business Machines Corporation | Production line quality processes |
KR102205030B1 (ko) | 2013-12-17 | 2021-01-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
KR102271585B1 (ko) | 2014-02-10 | 2021-07-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
JP6604704B2 (ja) * | 2014-12-22 | 2019-11-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板の検査装置、基板の検査方法、大面積基板検査装置、及びその操作方法 |
WO2018130278A1 (en) * | 2017-01-11 | 2018-07-19 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for processing a substrate |
CN108470851B (zh) * | 2018-03-26 | 2020-03-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板处理方法和基板处理装置 |
CN110899271B (zh) * | 2018-09-17 | 2021-10-15 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 远程等离子源的调整装置及远程等离子源清洗系统 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06219513A (ja) * | 1993-01-27 | 1994-08-09 | Nikon Corp | 搬送装置 |
US5966021A (en) * | 1996-04-03 | 1999-10-12 | Pycon, Inc. | Apparatus for testing an integrated circuit in an oven during burn-in |
JPH11145266A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-28 | Tokyo Electron Ltd | 静電吸着装置および静電吸着方法、ならびにそれを用いた基板搬送装置および基板搬送方法 |
JPH11219882A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Nikon Corp | ステージ及び露光装置 |
US6445202B1 (en) * | 1999-06-30 | 2002-09-03 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station thermal chuck with shielding for capacitive current |
US6319102B1 (en) * | 1999-07-09 | 2001-11-20 | International Business Machines Corporation | Capacitor coupled chuck for carbon dioxide snow cleaning system |
JP4590031B2 (ja) * | 2000-07-26 | 2010-12-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の載置機構 |
US6914423B2 (en) * | 2000-09-05 | 2005-07-05 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station |
US6326220B1 (en) * | 2000-11-11 | 2001-12-04 | Macronix International Co., Ltd. | Method for determining near-surface doping concentration |
US6824612B2 (en) * | 2001-12-26 | 2004-11-30 | Applied Materials, Inc. | Electroless plating system |
JP4421874B2 (ja) * | 2003-10-31 | 2010-02-24 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
US6833717B1 (en) | 2004-02-12 | 2004-12-21 | Applied Materials, Inc. | Electron beam test system with integrated substrate transfer module |
TWI405041B (zh) * | 2004-12-01 | 2013-08-11 | 尼康股份有限公司 | Stage device and exposure device |
US7535238B2 (en) * | 2005-04-29 | 2009-05-19 | Applied Materials, Inc. | In-line electron beam test system |
US20060273815A1 (en) | 2005-06-06 | 2006-12-07 | Applied Materials, Inc. | Substrate support with integrated prober drive |
JP4895635B2 (ja) * | 2006-02-20 | 2012-03-14 | セイコーインスツル株式会社 | 搬送装置 |
TW200746268A (en) * | 2006-04-11 | 2007-12-16 | Applied Materials Inc | Process for forming cobalt-containing materials |
US8008166B2 (en) * | 2007-07-26 | 2011-08-30 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for cleaning a substrate surface |
JP2009054746A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 静電チャック及び静電チャック方法 |
JP5142634B2 (ja) | 2007-08-27 | 2013-02-13 | 新電元工業株式会社 | 電界効果型半導体装置 |
JP5276921B2 (ja) * | 2008-08-08 | 2013-08-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
EP2180327A1 (en) | 2008-10-21 | 2010-04-28 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for active voltage compensation |
-
2010
- 2010-05-26 EP EP10163959A patent/EP2390906A1/en not_active Withdrawn
- 2010-06-16 US US12/816,798 patent/US8531198B2/en active Active
-
2011
- 2011-05-09 TW TW100116197A patent/TWI459503B/zh active
- 2011-05-23 WO PCT/EP2011/058362 patent/WO2011147775A1/en active Application Filing
- 2011-05-23 CN CN201180020890.7A patent/CN102906868B/zh active Active
- 2011-05-23 JP JP2013511632A patent/JP5876037B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-05-23 KR KR1020127027935A patent/KR101506937B1/ko active IP Right Grant
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