JP2013508200A - 人造石の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、人造石の製造方法及び製造装置に関するもので、より具体的には、(a)人造石の原料に異なる粒径を有する2種以上のチップを混合すること;(b)チップが混合された人造石の原料をモールドに投入すること;(c)振動装置を使用して原料がモールド内に均一に分散されるように1次振動を加えること;(d)原料の気泡を除去するために真空を加えること;及び(e)振動装置を使用して2次振動を加えて人造石を成形することを含むことを特徴とし、本発明に係る人造石の製造方法及び製造装置は、人造石の表面に露出するチップの出石率を極大化させ、より自然な人造石の外観デザインを表現するとともに、耐磨耗性及び耐汚染性を向上させることができる。
【選択図】図1
Description
(a)人造石の原料に異なる粒径を有する2種以上のチップを混合すること;
(b)チップが混合された人造石の原料をモールドに投入すること;
(c)振動装置を使用して原料がモールド内に均一に分散されるように10秒〜1分間1800rpm〜7000rpmの振動数で常圧で1次振動を加えること;
(d)原料の気泡を除去するために30mmHg以上の真空条件で10秒〜30秒間真空を加えること;及び
(e)振動装置を使用して30秒〜5分間1800rpm〜7000rpmの振動数で常圧で2次振動を加えて人造石を成形することを含む人造石の製造方法が提供される。
混合された人造石の原料を一定の量に計量して投入できる原料計量装置、前記の計量された原料が投入されるモールド、及び前記モールドに10秒〜1分間常圧で1800rpm〜7000rpmの振動数で振動を加えるための振動発生装置を含む1次振動発生ユニット;
前記振動発生ユニットから移送されたモールドが収容されるチャンバ、及び前記チャンバ内の空間に10秒〜30秒間30mmHg以上の真空を加えることができる真空発生装置を含む真空発生ユニット;及び
前記真空発生ユニットから移送されたモールドに30秒〜5分間常圧で1800rpm〜7000rpmの振動数で振動を加えるための振動発生装置を含む2次振動発生ユニットを含む人造石の製造装置が提供される。
Claims (14)
- (a)人造石の原料に異なる粒径を有する2種以上のチップを混合すること;
(b)チップが混合された人造石の原料をモールドに投入すること;
(c)振動装置を使用して原料がモールド内に均一に分散されるように1次振動を加えること;
(d)原料の気泡を除去するために真空を加えること;及び
(e)振動装置を使用して2次振動を加えて人造石を成形することを含む人造石の製造方法。 - 前記原料は樹脂又はセメントスラリーであることを特徴とする、請求項1に記載の人造石の製造方法。
- 前記樹脂は、アクリル系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート及びスチレン―メチルメタクリレート共重合体からなるグループより選ばれた一つ以上であることを特徴とする、請求項2に記載の人造石の製造方法。
- 前記セメントスラリーは、セメント100重量部に対して25〜35重量部の水を含むことを特徴とする、請求項2に記載の人造石の製造方法。
- 前記2種以上のチップを混合することは、人造石の原料100重量部に対して、粒径が3mm〜9mmであるチップを125〜200重量部で混合し、粒径が1mm〜3mmであるチップを50〜80重量部で混合することをさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の人造石の製造方法。
- 前記チップは、樹脂チップ、ガラスチップ、カラーガラスチップ、天然石チップ及び粉砕された天然石を着色して製造した着色天然石チップからなるグループより選ばれた1種以上であることを特徴とする、請求項1に記載の人造石の製造方法。
- 前記1次振動及び2次振動は、1800rpm〜7000rpmの振動数で常圧で加えられることを特徴とする、請求項1に記載の人造石の製造方法。
- 前記真空は30mmHg以上の真空条件で加えられることを特徴とする、請求項1に記載の人造石の製造方法。
- 混合された人造石の原料を一定の量に計量して投入できる原料計量装置、前記の計量された原料が投入されるモールド、及び前記モールドに1次振動を加えるための振動発生装置を含む1次振動発生ユニット;
前記振動発生ユニットから移送されたモールドが収容されるチャンバ、及び前記チャンバ内の空間に真空を加えることができる真空発生装置を含む真空発生ユニット;及び
前記真空発生ユニットから移送されたモールドに2次振動を加えるための振動発生装置を含む2次振動発生ユニットを含む人造石の製造装置。 - 前記1次振動及び2次振動は1800rpm〜7000rpmの振動数で常圧で加えられることを特徴とする、請求項9に記載の人造石の製造装置。
- 前記真空は30mmHg以上の真空条件で加えられることを特徴とする、請求項9に記載の人造石の製造装置。
- 前記原料は樹脂又はセメントスラリーであることを特徴とする、請求項9に記載の人造石の製造装置。
- 前記樹脂は、アクリル系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート及びスチレン―メチルメタクリレート共重合体からなるグループより選ばれた一つ以上であることを特徴とする、請求項12に記載の人造石の製造装置。
- 前記セメントスラリーは、セメント100重量部に対して25〜35重量部の水を含むことを特徴とする、請求項12に記載の人造石の製造装置。
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