JP2013504214A - 半導体レーザを駆動し冷却する方法及びシステム - Google Patents

半導体レーザを駆動し冷却する方法及びシステム Download PDF

Info

Publication number
JP2013504214A
JP2013504214A JP2012528057A JP2012528057A JP2013504214A JP 2013504214 A JP2013504214 A JP 2013504214A JP 2012528057 A JP2012528057 A JP 2012528057A JP 2012528057 A JP2012528057 A JP 2012528057A JP 2013504214 A JP2013504214 A JP 2013504214A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
current
diode
power
array
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012528057A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5740685B2 (ja
Inventor
スティーブン, ジェイムイズ テルフォード,
アンソニー, エス. ラドラン,
Original Assignee
ローレンス リバモア ナショナル セキュリティー, エルエルシー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ローレンス リバモア ナショナル セキュリティー, エルエルシー filed Critical ローレンス リバモア ナショナル セキュリティー, エルエルシー
Publication of JP2013504214A publication Critical patent/JP2013504214A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5740685B2 publication Critical patent/JP5740685B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/04Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
    • H01S5/042Electrical excitation ; Circuits therefor
    • H01S5/0428Electrical excitation ; Circuits therefor for applying pulses to the laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/023Mount members, e.g. sub-mount members
    • H01S5/02325Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02438Characterized by cooling of elements other than the laser chip, e.g. an optical element being part of an external cavity or a collimating lens
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02407Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/062Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
    • H01S5/06209Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in single-section lasers
    • H01S5/06216Pulse modulation or generation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/06808Stabilisation of laser output parameters by monitoring the electrical laser parameters, e.g. voltage or current
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4018Lasers electrically in series

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

半導体レーザシステムは、ダイオードレーザタイルを備える。ダイオードレーザタイルは、第1の側面及び第1の側面の反対側に位置する第2の側面を有する取付台と、取付台の第1の側面に接合された半導体レーザポンプアレイとを備える。半導体レーザシステムは、ダイオードバーに熱的に接合された電気パルス発振器、並びにダイオードバー及び電気パルス発振器に熱的に接合された冷却部材も備える。
【選択図】 図1

Description

関連出願の相互参照
[0001]本出願は、「Method and System for Powering and Cooling Semiconductor Lasers」と題され、2009年9月3日に出願された米国特許仮出願第61/239,569号、及び「Method and System for Powering and Cooling Semiconductor Lasers」と題され、2010年6月11日に出願された米国特許出願第12/813,662号の米国特許法第119条(e)項の下での利益を主張し、全ての目的のためにそれらの内容全体が参照として本明細書に組み込まれる。
[連邦政府により支援された研究又は開発の下で行われた発明の権利に関する記載]
[0002]アメリカ合衆国政府は、アメリカ合衆国エネルギー省とローレンス リバモア ナショナル セキュリティLCCとの間の契約第DE−AC52−07NA27344号に準拠した本発明の権利を有する。
[0003]高平均出力ダイオードポンプレーザは、現在、多くのレーザシステムに使用又は組み込まれている。これらの高平均出力ダイオードポンプレーザの光出力パワーが増加すると、ダイオードレーザポンプから要求される入力光パワーも、通常、同様に増加する。ダイオードレーザの効率は、過去数年間は実質的に一定なので、光パワーは、電気入力パワーの増加に伴って増加する。いくつかの応用例においては、ダイオードレーザポンプを駆動するために数百アンペアの電流が必要である。その結果、電力調整電子機器を使用する精密な電流調整が困難となる。
[0004]したがって、当技術分野では、高平均出力ダイオードポンプレーザ用途に適したダイオードレーザポンプ用の改善された方法及びシステムが必要とされている。
[0005]本発明によれば、光学システムに関する技法が提供される。より詳細には、本発明の一実施形態は、一体型のパルス発振器を有する半導体レーザポンプモジュールを提供する。単なる例として、本発明は、共通の冷却構造をパルス発振器用の駆動電子機器と共有する半導体レーザバーアレイに適用されている。本明細書に記載されている方法及びシステムは、レーザ、増幅器等を含む多くの光学システムにも適用可能である。
[0006]本発明の一実施形態によれば、半導体レーザシステムが提供される。この半導体レーザシステムは、ダイオードレーザタイル(diode laser tile)を備える。ダイオードレーザタイルは、第1の側面及び第1の側面の反対側に位置する第2の側面を有する取付台、並びに取付台の第1の側面に接合された半導体レーザポンプアレイを備える。半導体レーザシステムは、ダイオードレーザタイルに熱的に接合された電気パルス発振器、並びにダイオードレーザタイル及び電気パルス発振器に熱的に接合された冷却構造も備える。
[0007]本発明の別の実施形態によれば、半導体レーザポンプ装置が提供される。この半導体レーザポンプ装置は、半導体レーザ光源及び半導体レーザ光源に熱的に接合されたヒートシンクを備える。半導体レーザポンプ装置は、ヒートシンクに熱的に接合されたパルス発振器も備える。パルス発振器は、接地された電源及び電界効果トランジスタに接続された検知抵抗器を備える。
[0008]本発明のさらに別の実施形態によれば、半導体レーザポンプ装置を作動させる方法が提供される。この方法は、電荷蓄積コンデンサ及び電力バスにDC電力を印加するステップと、電流制御FETに接続された駆動増幅器に電流パルスを印加するステップとを含む。この方法は、また、駆動増幅器への電流パルスの印加に応答して、電流制御FETを介して電流を流すステップと、電力バスに接続された検知抵抗器を介して電流を流すステップとを含む。この方法は、検知抵抗器の第1の端子及び検知抵抗器の第2の端子に接合された検知増幅器を使用して電流を検知するステップと、半導体レーザアレイを介して電流を流すことによりポンプ光を発生させるステップとをさらに含む。
[0009]本発明により、従来の技法に勝る多くの利点が得られる。例えば、本システムは、半導体レーザポンプ及び半導体レーザポンプを駆動するのに使用する電気パルス発振器の構成要素の両方をまとめて冷却することを可能にする。半導体レーザポンプを冷却するために使用する冷却構造と熱連通した状態で、電気パルス発振器の構成要素を取り付けることによって、システムのサイズ及びコストが削減される。本発明の実施形態は、パルスパワー電子機器をダイオードレーザポンプタイルのサブマウントに直接組み込むことにより、システムのコストを削減するとともに、信頼性を高めるダイオードレーザポンプタイルを提供する。単なる例として、パルスパワーのコストを1/40以下に削減でき、パルサ電子機器の外被を1/20以下に低減できる。さらに、いくつかの実施形態では、フラトリサイド(fratricide)とも呼ばれる壊滅的な連続的損傷を防止するためにダイオードの性能を検知しモニタするためのインシチュ統合情報が組み入れられる。実施形態に応じて、これらの利点の1つ又は複数を得ることができる。これら及び他の利点は、本明細書全体にわたってより詳細に記述し、より具体的に以下に説明する。
[0010]本発明のこれら及び他の目的及び特徴、並びにそれらを得る方法は、当業者に明らかとなり、本発明自体は、添付画面と併せて読まれる以下の詳細な説明を参照することにより、最もよく理解されるであろう。
本発明の一実施形態による半導体レーザポンプ装置の簡略化した概略図である。 本発明の一実施形態による電力調整回路の簡略化した概略図である。 本発明の一実施形態による電力調整回路の簡略化した概略図である。 図2に示す電力調整回路のマルチシム(Multisim)モデルの回路概略図である。 (A)は図4に示すマルチシムモデルから出力されたモデルベンチマークを示す図である。(B)は図4に示すマルチシムモデルの負荷特性を示す図である。(C)は図4に示すマルチシムモデルの電源電圧及び電流特性を示す図である。(D)は図4に示すマルチシムモデルの効率を示す図である。 本発明の一実施形態による半導体レーザポンプ装置を作動させる方法を示す簡略化した流れ図である。
[0020]通常、高出力ダイオードレーザ(すなわち、半導体レーザ)ポンプに使用される電力調整電子機器は、強制冷却されるか、又はそれらの機器の使用率が制限される。一例を挙げると、ローレンスリバモア国立研究所(LLNL)において、マーキュリレーザ(Mercury laser)に使用されたダイオードレーザポンプを駆動するために使用した電力調整電子機器は、強制冷却された。他のレーザシステムにおいては、熱的問題により必要とされる電力調整電子機器の使用率の制御が、レーザの動作特性を制限することがある。
[0021]本発明の実施形態は、電力調整システム及びダイオードパッケージを有するダイオードモニタリングシステムの1つ又は複数の構成要素を一体化し、それによって、従来のシステムを使用して得られない利点を提供する。これらの利点には、(1)電力調整電子機器用の別の冷却システムの必要性を排除すること、(2)電力調整電子機器に伴う熱的制約に起因する使用率制限を排除すること、(3)電力調整電子機器の物理的なサイズを小さくすること、(4)全体のシステム効率を高めること、(5)電力調整コストを少なくとも1桁削減すること、及び(6)慣性核融合エネルギー(IFE)を競争力のあるエネルギー源にすることが含まれ得る。
[0022]IFE発電所において使用されるであろう、レーザ増幅器を励起するために使用する高平均出力ダイオードレーザアレイは、精密な電流、パルスレート、及び使用率でダイオードレーザアレイをパルス駆動するために、電力調整システムを利用する。本発明の一実施形態によれば、電力調整電子機器及びモニタリングシステムの1つ又は複数の構成要素は、遠隔電子機器の筐体からダイオードレーザパッケージに移動する。ダイオードパッケージは既に強制冷却されているので、電力調整は、ダイオードパッケージと同じ冷却を利用する。そのため、高出力構成要素と、駆動回路と、モニタリング回路と、コンデンサの開発に応じて中間エネルギー蓄積コンデンサとは、ダイオードレーザパッケージに提供される冷却能力を利用するために、ダイオードパッケージと熱連通した状態で設けられ、それによって、電力調整システムの全体のサイズを小さくするとともに、コストを1桁潜在的に削減する。
[0023]本発明の実施形態は、様々な高平均出力ダイオードポンプレーザにおいて有用である。これらのレーザには、マーキュリレーザ、テーラードアパーチャセラミックレーザ(TACL)などのダイレクトエネルギーレーザシステム、レーザ設計のプロトタイプ、繰返しフェムト秒レーザ、ペタワットレーザ、高平均出力ダイオードポンプレーザ、慣性核融合エネルギー発電所、エネルギー指向型兵器システム、繰返しレーザ誘起HED物理用途、レーザ加工用途、及び高出力ダイオードレーザ励起を含む他のレーザ用途が含まれ得る。
[0024]図1は、本発明の一実施形態による半導体レーザポンプ装置の簡略化した概略図である。半導体レーザポンプ装置は、半導体レーザバーアレイを含むダイオードレーザタイル110を備える。アレイを構成する半導体レーザバーは、例えば、1つのバーにつき出力パワーが100Wであるという特徴を有する。これらの高出力ダイオードレーザポンプは、当業者には明らかとなるように、レーザゲイン媒体を励起するのに適している。電気コネクタは、ダイオードレーザタイル内の半導体レーザバーに駆動電流を提供する。ダイオードレーザタイル用の通常の駆動電流は、数百アンペアである。
[0025]半導体レーザポンプ装置は、電気パルス発振器の1つ又は複数の構成要素を含むパワーエレクトロニクス120も備える。本明細書の全体を通してより完全に説明するように、パワーエレクトロニクス120(パルス制御電子機器とも呼ばれる)は、電気パルス発振器の構成要素である検知抵抗器及び電力制御電界効果トランジスタ(FET)を備える。半導体レーザポンプ装置及びパワーエレクトロニクスによって生じる熱を取り除くために、冷却アセンブリ130が備えられている。ダイオードレーザバーは、100%未満の電気−光効率で動作するので、ダイオードレーザバーの高出力には、大きな発熱が伴う。冷却アセンブリ130は、ダイオードレーザバーの強制冷却を可能にする。さらに、冷却アセンブリ130は、パワーエレクトロニクス120から熱を取り除くために使用される。すなわち、ダイオードレーザバー及び冷却電子装置は、共通のヒートシンク又は冷却構造を共有する。
[0026]冷却アセンブリによって提供される共通のヒートシンクを利用することにより、電気パルス発振器の1つ又は複数の構成要素は、電子機器によって送られる大きなダイオード電流(例えば、100アンペア)によって生じる熱を取り除くために冷却される。図1に示すように、本発明の実施形態は、十分な冷却能力が既にあるダイオードレーザタイルに隣接するようにパワーエレクトロニクスを配置する。一例を挙げると、図2に示すパルス駆動回路及び性能モニタ回路は、高密度表面実装技術を使用してダイオードレーザタイルの表面に取り付けられる。本発明の実施形態によれば、パルス幅が1,000μsで繰返し率が約10Hzの12KWの光パワー(例えば、1バーにつき200Wで60バー)を出力するダイオードパッケージが提供される。一例を挙げると、ダイオードレーザは、60%の電気−光効率で作動することができる。
[0027]本発明の実施形態によれば、ダイオードレーザタイルの様々な要素のサイズは、電力構成要素がダイオードタイルの面積に適合できるようになっている。図1及び図2を参照すると、実施形態の一例において、電流制御FET234は、10mm×15mmの公称面積(リードを含む)を有する。一例を挙げると、電流制御FET234は、パルス電流が790A、連続電流が200Aの状態で、最大40Vで作動することができ、それによって、最大230Wで作動し、61.5W消費する。一例を挙げると、形状因子は、TO−263の外形とすることができる。この実施形態の一例において、0.001Ωの抵抗器である検知抵抗器232は、7mm×13mmの公称面積(リードを含む)を有する。一例を挙げると、検知抵抗器は、最大3Wで作動し2.25W消費する、許容差0.5%の1mΩ抵抗器である。19.4mm×12.4mのダイオードタイル面積の場合、電流制御FET234及び検知抵抗器232はどちらも、これらの構成要素の冷却を可能にするために、互いに隣接してダイオードタイルの冷却台に取り付けることができる。一実施形態において、より大きなダイオードレーザアレイを形成するために、56個のダイオードレーザタイルが利用される。他の制御電子機器は、ダイオードタイルと同じ又は同様の面積を有するメザニンボード上に取り付けることができる。
[0028]図1を参照すると、本発明の実施形態は、冷却アセンブリ及びパワーエレクトロニクスをダイオードレーザタイルの実装スペース下の位置に組み込むダイオードレーザタイルモジュールを提供するので、このモジュールは、隣接するタイルの間にスペースをほとんど又は全く必要とせずアレイに組み込むことができる。その結果、電子機器はアレイの後部に配置されているので、複雑化を低減又は解消する形でダイオードヒートシンクが設けられる。本発明の実施形態は、強制冷却を必要とする構成要素(例えば、電流制御FET及び電流検知抵抗器)が、ダイオードレーザタイルの冷却台、例えば冷却アセンブリ130に取り付けられ、その結果、ダイオードレーザの冷却に使用する同じ冷却システムがこれらの構成要素を冷却するために使用されるダイオードレーザシステムを提供する。
[0029]図2は、本発明の一実施形態による、電力調整回路とも呼ばれる電気パルス発振器の簡略化した概略図である。図2に示す電力調整回路は、電荷蓄積コンデンサに接続されたDC電源を備える。図示の実施形態において、電荷蓄積コンデンサは、定格33000μFである。付属ICは、電流検知増幅器、駆動増幅器、並びに関連する抵抗器及びコンデンサを備える。1つ又は複数の構成要素は、冷却アセンブリ130と熱連通した状態で取り付けられている。これらの構成要素は、ダイオードレーザタイルとも熱連通しており、ダイオードレーザタイルに取り付けられた固定具に装着することができるので、オンタイル構成要素と呼ばれる。オンタイル構成要素は、電流検知抵抗器及び電流制御FETを含む。図2に示す電流検知抵抗器は、定格0.001オームである。ダイオードレーザタイルは、DC電源に接続された電流検知抵抗器と、1つの端子が接地している電流制御FETとの間に接続されている。ダイオードレーザタイルは、半導体レーザバーアレイを備える。通常、各バーは、アレイ構成のいくつかの半導体レーザを含む。
[0030]電流制御FETを含む、電力制御電子機器及び電力モニタリング電子機器からの熱を効率的に取り除くために、電気パルス発振器の1つ又は複数の構成要素は、ダイオードレーザタイルの表面上に取り付けることができる。一実施形態において、高出力電流制御FETは、ダイオードレーザタイルとも熱連通している冷却アセンブリと熱連通した状態で、裸のダイの形式(raw die format)で取り付けられる。電流制御FETを裸のダイの形式で取り付けることにより、スペースを節約し、ダイオードレーザタイルを冷却するために利用される冷却能力を利用する。電流制御FETに加えて、電流検知抵抗器は、冷却アセンブリと熱連通した状態で取り付けることができるもう1つの高出力構成要素である。したがって、電流検知用途向けに設計された電流検知抵抗器は、冷却構造を使用して伝導又は対流によって冷却される。
[0031]図2を参照すると、一実施形態において、中間エネルギー貯蔵システムとも呼ばれる電荷蓄積コンデンサは、冷却構造と熱連通した状態で取り付けられる。例えば、電荷蓄積コンデンサは、電気パルス発振器の1つ又は複数の構成要素に加えて、ダイオードレーザタイルの表面に取り付けることができる。電力調整構成要素をダイオードレーザタイルに組み込むことにより、電力調整機能が遠隔筐体の中に配置されていた従来の方法と比べて、大きなサイズ及びコストの削減が可能になる。
[0032]本発明の実施形態によれば、図1に示す半導体レーザポンプ装置は、システム設計者がポンプ装置の効率を最適化すること、及び従来のシステムに比べてコストを抑えることを可能にする。本発明者らは、本発明の実施形態により、3年以上の平均故障間隔が提供されることを確認した。
[0033]本発明の一実施形態によれば、ダイオードレーザタイルには、24ボルトDCの動作電圧で110ワットが供給される。他の実施形態においては、動作電圧はより高く、例えば、最大100VDCである。電荷蓄積コンデンサのエネルギー貯蔵は、6.1ジュール程度であり、10ジュールまで可能である。図1で示すように、電気パルス発振器及びダイオードレーザタイルは、修復不能な構成要素を有する一体化した組立体とすることができる。電気パルス発振器は、ダイオードが取り付けられる際に、ダイオードレーザタイル基板上に構成することができる。特定の実施形態においては、電流制御FET(ダイ形式)は、他の取り付け技法と比べてスペースを節約してダイオード基板に直接取り付けられる。ダイオードレーザポンプ装置を製造するときに電気パルス発振器入力用トリム抵抗器を使用することによって、ダイオードレーザ光出力の制御が可能になる。
[0034]図2を参照すると、電気パルス発振器の設計は、従来のシステムと比べていくつかの利点を提供する。例えば、この設計は、駆動増幅器224がグランドを基準にしているので、DC電力が100Vよりも大きくなるより大きなアレイについても十分に想定している。さらに、駆動増幅器224のバイアス電圧は、ダイオードの電力に基づいてツェナーレギュレータから得られる。
[0035]図2に示す実施形態の代替として、別の実施形態では、ダイオードレーザタイル110と電流制御FET234の配置が入れ替えられ、電流制御FETが電流検知抵抗器に接続され、ダイオードレーザタイルが接地される。この代替実施形態において、駆動増幅器224のバイアス電圧は、ダイオードの電力を利用してツェナーレギュレータから得られる。この代替実施形態において、ダイオードレーザはグランドを基準にしており、ダイオードレーザのパッケージングに関する利点を提供することができる。
[0036]図1及び図2を再び参照すると、第1の側面及び第1の側面の反対側に位置する第2の側面を有する取付台を備えるダイオードレーザタイル110を具備する半導体レーザシステムが提供されている。半導体レーザポンプアレイは、図示した実施形態の上面である取付台の第1の側面に接合される。通常、半導体レーザポンプアレイの各半導体レーザポンプは、半導体レーザアレイを含む。図1に示すように、複数のレンズレットアレイ(lenslet array)は、ダイオードレーザとも呼ばれる半導体レーザによって放出された光をコリメートするために、半導体レーザポンプアレイに接合される。
さらに、図1のパワーエレクトロニクス120によって表された電気パルス発振器は、ダイオードレーザタイル100に熱的に接合される。図1に示すように、電気パルス発振器の1つ又は複数の構成要素(例えば、ダイ形式のFET及び検知抵抗器)は、取付台の第2の側面に取り付けられる。冷却アセンブリ130によって表された冷却構造は、ダイオードレーザタイル及び電気パルス発振器に熱的に接合される。
[0037]いくつかの実施形態において、電気パルス発振器の1つ又は複数の構成要素は、第1の側面と第2の側面の間に配置された取付台の第3の側面に取り付けられる。図1を参照すると、第3の側面は、ダイオードレーザタイル110の垂直面である。
[0038]本発明の別の実施形態によれば、半導体レーザ光源(例えば、それぞれが半導体レーザアレイを含む半導体レーザバーアレイ)及び半導体レーザ光源に熱的に接合されたヒートシンクを備える半導体レーザポンプ装置が提供される。半導体レーザポンプ装置は、ヒートシンクに熱的に接合されたパルス発振器も備える。パルス発振器は、電源(例えば、DC電源)に接続された検知抵抗器及び接地された電界効果トランジスタを備える。いくつかの実施形態において、電界効果トランジスタは、ダイ形式で取り付けられる。ヒートシンクは、通常、冷却水などの冷却用流体に熱連通している。一実施形態において、検知抵抗器の第1の端部は、電流検知増幅器の第1の端子に接続され、検知抵抗器の第2の端部は、電流検知増幅器の第2の端子に接続される。
[0039]図3は、本発明の一実施形態による電気パルス発振器の簡略化した概略図である。図3に示す電気パルス発振器は、図2に示すものと共通の構成要素を共有する。図3に示す実施形態において、複数のダイオードレーザ312a、312b等を備えるダイオードレーザアレイ310は、DC電源210に接続される。電荷蓄積コンデンサ212もまた、DC電源210及びダイオードレーザアレイ310に接合される。1つの端子が接地している電流制御FET320は、ダイオードレーザアレイ310及び電流検知抵抗器330に接続されている。図3に示すように、電力構成要素は、ダイオードレーザアレイ310内でダイオードレーザ312a、312b等を冷却するために使用される冷却アセンブリを使用して強制冷却される。図3に示す実施形態を利用することによって、ダイオードレーザアレイは、パルスパワー電子機器をダイオードレーザタイルのサブマウント内に直接組み込むことよりコストを削減し信頼性を高めるタイルの形に作製できる。例として、パルスパワーのコストは、1/40以下に削減でき、パルサ電子機器の外被は、約1/20に低減できる。
[0040]図3を参照すると、電気パルス発振器の設計は、従来のシステムと比べていくつかの利点を提供する。例えば、駆動増幅器のバイアス電圧は、ダイオードの電力を利用してツェナーレギュレータから得られる。さらに、ダイオードは、グランドを基準にしており、これにより、パッケージングが容易になる。パルス駆動は、共通の構成要素を図2に示す付属IC220と共有する。電圧、駆動、及び電流を入力として受け、ダイオードレーザアレイ310並びに他のシステム構成要素の性能をモニタするために使用できるパフォーマンスモニタ340が提供される。パフォーマンスモニタ340は、壊滅的な連続的損傷を防止するために、ダイオードレーザの性能を検知しモニタすることができる。
[0041]本発明の実施形態は、信頼性を高めるとともにパルサに近接させるためのタイルの並列接続を可能にするバックプレーンの設計を可能にする。一例を挙げると、直列に接続された10個のレーザバーを有するバックプレーンは、約20Vの動作電圧を提供する。この構成は、「高電圧」レベルに満たない動作電圧である約20Vで作動するときの接触不良又はバーの故障によって壊滅的なタイル故障の可能性を低減する。この構成において、タイルが故障すると、影響を受けたいくつかのバーの数が減り、アレイパルサ用のハードウェアを取り付けるためのスペースが増えることになる。
[0042]図4は、図2に示した電力調整回路のマルチシムモデルの回路概略図である。同様のモデルを、図3に示す電気パルス発振器向けに構成することができる。このマルチシムモデルは、電源電圧で電源電流を提供する電流制限電源を備える。電流検知抵抗器232、ダイオードレーザタイル110、及び電流制御FET234は、ダイオードレーザを強制冷却するために使用する冷却アセンブリにそれらを取り付けられることを意味するオンタイル構成要素としてモデルに含まれている。電流検知増幅器222及び駆動増幅器224もまた、図4に示すモデル内に図示されている。
[0043]図5の(A)は、図4に示したマルチシムモデルから出力されたモデルベンチマークを示す。図5の(A)に示すように、測定されたSIMMタイルの電流は、ダイオードモデルL及びダイオードモデルMの2つのモデルを使用して予測された電流と共にプロットされている。ダイオードモデルLは、ダイオード負荷の第1のマルチシムモデルを表し、ダイオードモデルMは、第2のマルチシムダイオード負荷モデルを表す。16.8Vのしきい値電圧及び0.0215V/Aの逆勾配は、測定された結果並びにモデル化した結果の両方の特徴を示している。
[0044]図5の(B)は、図4に示したマルチシムモデルの負荷特性を示す。負荷に加えられる電圧は、回路に電力が印加される1ms間は約20Vで実質的に一定である。電力を印加する1msに続く1msの間、負荷に加えられる電圧は、実質的に線形速度で約10Vの値に低下する。負荷に加えられる電流は、回路に電力が印加される間の1ms間、150Aに実質的に等しい。
[0045]図5の(C)は、図4に示したマルチシムモデルの電源電圧及び電流特性を示す。電源電流は、回路に電力が印加される1ms間と、それに続く8ms間は、約6.5Aで実質的に一定であり、各10ms周期の間の1ms期間にゼロに低下する。電源電圧は、回路に電力が印加される1ms間に約24Vから約21Vに低下し、その後、次の9ms間に24Vまで戻る。
[0046]図5の(D)は、図4に示したマルチシムモデルの効率を示す。図5の(D)は、電源によって送られるエネルギーと関連させて、ダイオード負荷によって消費されるエネルギーを時間の関数としてプロットする。回路に電力が印加される1msの間、ダイオード負荷によって消費されるエネルギーは、ゼロから約1.25Jに増加する。続く9msの間、ダイオード負荷によって消費されるエネルギーは、次のパルスまで一定の状態を保つ。電源によって送られるエネルギーは、最初の9msは直線的に増加して、ゼロから約1.37Jまで増え、その後次の1msは、一定の状態を保つ。第2のパルスの場合も、同様の挙動が見られる。第2のパルスに関連する期間の終了時、電源によって送られるエネルギーは2.74Jであり、ダイオード負荷によって消費されるエネルギーは24.1Jであり、88%の効率を生み出す。
[0047]図6は、本発明の一実施形態による半導体レーザポンプ装置の作動方法を示す簡略化した流れ図である。方法600は、DC電力を電荷蓄積コンデンサ及び電力バスに印加するステップ(610)を含む。DC電力は、図2に示すようにDC電源210を使用して電荷蓄積コンデンサに印加できる。この方法は、電流制御FETに接続された駆動増幅器に電流パルスを印加するステップ(612)も含む。電流パルスは、他のパラメータの中でもとりわけ、所定の電流、パルス幅、及び繰返し率をもたらすために、外部パルス源によって制御することができる。この方法は、駆動増幅器に電流パルスを印加するステップに応答して、電流制御FETを介して電流を流すステップ(614)をさらに含む。いくつかの実施形態において、電流制御FETの1つの端子は、接地している。この方法は、電力バスに接続された検知抵抗器を介して電流を流すステップ(616)と、検知抵抗器の第1の端子及び検知抵抗器の第2の端子に接合された検知増幅器使用して電流を検知するステップ(618)も含む。図2に示すように、電流制御FET及び電流検知抵抗器は、半導体レーザアレイを含むダイオードレーザタイルを強制冷却するために使用されるヒートシンクに熱的に接合される。したがって、半導体レーザアレイ並びに電流制御FET及び電流検知抵抗器を冷却するために、同じ冷却源が使用される。この方法は、ポンプ光を生成するために半導体レーザアレイを介して電流を流すステップ(620)をさらに含む。
[0048]本発明の一実施形態による、図6に示す具体的なステップは、半導体レーザポンプ装置の特定の作動方法を提供することが理解されよう。他の一連のステップも、代替実施形態に従って行われることがある。例えば、本発明の代替実施形態は、上記で概説したステップを異なる順序で行うことができる。さらに、図6に示す個々のステップには、個々のステップに対して適切に様々な順序で行うことができる複数のサブステップが含まれ得る。さらに、特定の用途に応じて、追加のステップの追加又は省略ができる。当業者には、多くの変形形態、修正形態、及び代替形態が認識されよう。
[0049]表1は、本発明の一実施形態によるダイオードドライバの仕様を示す。表1に示す値は、本発明の範囲を限定するものではなく、単に例示的な仕様を示しているにすぎない。
Figure 2013504214

[0050]本明細書で説明した例及び実施形態は例示の目的だけであって、それに照らした様々な修正又は変更が当業者に示唆され、本願の趣旨及び範囲並びに添付の特許請求の範囲に含まれることも理解される。

Claims (20)

  1. 第1の側面及び前記第1の側面の反対側に位置する第2の側面を有する取付台と、前記取付台の前記第1の側面に接合された半導体レーザポンプアレイとを備えるダイオードレーザタイルと、
    前記ダイオードレーザタイルに熱的に接合された電気パルス発振器と、
    前記ダイオードレーザタイル及び前記電気パルス発振器に熱的に接合された冷却構造と
    を具備する、半導体レーザシステム。
  2. 前記取付台が、前記第1の側面と前記第2の側面との間に配置された第3の側面を備える、請求項1に記載の半導体レーザシステム。
  3. 前記電気パルス発振器の少なくとも1つの構成要素が、前記第3の側面に取り付けられる、請求項1に記載の半導体レーザシステム。
  4. 前記半導体レーザポンプアレイの各半導体レーザポンプが、半導体レーザアレイを備える、請求項1に記載の半導体レーザシステム。
  5. 前記半導体レーザポンプアレイに接合された複数のレンズレットアレイをさらに備える、請求項1に記載の半導体レーザシステム。
  6. 前記電気パルス発振器の少なくとも1つの構成要素が、前記取付台の前記第2の側面に取り付けられる、請求項1に記載の半導体レーザシステム。
  7. 前記少なくとも1つの構成要素が、ダイ形式のFET及び検知抵抗器を備える、請求項6に記載の半導体レーザシステム。
  8. 半導体レーザ光源と、
    前記半導体レーザ光源に熱的に接合されたヒートシンクと、
    前記ヒートシンクに熱的に接合されたパルス発振器であって、電源に接続された検知抵抗器、及び接地している電界効果トランジスタを備えるパルス発振器と
    を具備する、半導体レーザポンプ装置。
  9. 前記半導体レーザ光源が、半導体レーザバーアレイを備える、請求項8に記載の半導体レーザポンプ装置。
  10. 前記半導体レーザバーが、半導体レーザアレイを備える、請求項9に記載の半導体レーザポンプ装置。
  11. 前記ヒートシンクが、冷却用流体と熱連通している、請求項8に記載の半導体レーザポンプ装置。
  12. 前記検知抵抗器の第1の端部が、電流検知増幅器の第1の端子に接続されている、請求項8に記載の半導体レーザポンプ装置。
  13. 前記検知抵抗器の第2の端部が、前記電流検知増幅器の第2の端子に接続されている、請求項12に記載の半導体レーザポンプ装置。
  14. 前記電界効果トランジスタが、ダイ形式で取り付けられている、請求項8に記載の半導体レーザポンプ装置。
  15. 前記電源が、DC電源を含む、請求項8に記載の半導体レーザポンプ装置。
  16. 前記DC電源に接合されたコンデンサをさらに備える、請求項15に記載の半導体レーザポンプ装置。
  17. 半導体レーザポンプ装置を作動させる方法であって、
    電荷蓄積コンデンサ及び電力バスにDC電力を印加するステップと、
    電流制御FETに接続された駆動増幅器に電流パルスを印加するステップと、
    前記駆動増幅器への前記電流パルスの印加に応答して、前記電流制御FETを介して電流を流すステップと、
    前記電力バスに接続された検知抵抗器を介して前記電流を流すステップと、
    前記検知抵抗器の第1の端子及び前記検知抵抗器の第2の端子に接合された検知増幅器を使用して前記電流を検知するステップと、
    半導体レーザアレイを介して前記電流を流すことによりポンプ光を発生させるステップとを含む、方法。
  18. 前記電流制御FET及び前記検知抵抗器が、ヒートシンクに熱的に接合される、請求項17に記載の方法。
  19. 前記半導体レーザアレイが、前記ヒートシンクに熱的に接合される、請求項18に記載の方法。
  20. 前記電流制御FETの1つの端子が接地されている、請求項17に記載の方法。
JP2012528057A 2009-09-03 2010-09-02 半導体レーザを駆動し冷却する方法及びシステム Active JP5740685B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US23956909P 2009-09-03 2009-09-03
US61/239,569 2009-09-03
US12/813,662 US8660156B2 (en) 2009-09-03 2010-06-11 Method and system for powering and cooling semiconductor lasers
US12/813,662 2010-06-11
PCT/US2010/047719 WO2011028932A1 (en) 2009-09-03 2010-09-02 Method and system for powering and cooling semiconductor lasers

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013504214A true JP2013504214A (ja) 2013-02-04
JP5740685B2 JP5740685B2 (ja) 2015-06-24

Family

ID=43624838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012528057A Active JP5740685B2 (ja) 2009-09-03 2010-09-02 半導体レーザを駆動し冷却する方法及びシステム

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8660156B2 (ja)
EP (1) EP2462665B1 (ja)
JP (1) JP5740685B2 (ja)
KR (1) KR101721282B1 (ja)
CN (1) CN102640368A (ja)
CA (1) CA2772710C (ja)
IN (1) IN2012DN02236A (ja)
RU (1) RU2012112805A (ja)
WO (1) WO2011028932A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10454244B2 (en) 2017-08-09 2019-10-22 Lawrence Livermore National Security, Llc Driver circuitry and systems for high current laser diode arrays

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102033200B1 (ko) * 2012-05-30 2019-10-16 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 급속 열 처리를 위한 장치 및 방법
WO2014134340A1 (en) * 2013-02-28 2014-09-04 Lawrence Livermore National Security, Llc Compact high current, high efficiency laser diode driver
JP6246397B2 (ja) 2015-01-29 2017-12-13 三菱電機株式会社 光源装置
DE102015203269A1 (de) * 2015-02-24 2016-08-25 Siemens Aktiengesellschaft Speichersystem zum Speichern elektrischer Energie
US11025031B2 (en) 2016-11-29 2021-06-01 Leonardo Electronics Us Inc. Dual junction fiber-coupled laser diode and related methods
US10511142B2 (en) * 2017-05-03 2019-12-17 Analog Modules, Inc. Pulsed laser diode drivers and methods
FR3068463B1 (fr) 2017-06-30 2019-07-26 Continental Automotive France Capteur en courant
WO2020036998A1 (en) 2018-08-13 2020-02-20 Lasertel, Inc. Use of metal-core printed circuit board (pcb) for generation of ultra-narrow, high-current pulse driver
DE102019121924A1 (de) * 2018-08-14 2020-02-20 Lasertel, Inc. Laserbaugruppe und zugehörige verfahren
US11296481B2 (en) 2019-01-09 2022-04-05 Leonardo Electronics Us Inc. Divergence reshaping array
US11752571B1 (en) 2019-06-07 2023-09-12 Leonardo Electronics Us Inc. Coherent beam coupler

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001501777A (ja) * 1996-09-27 2001-02-06 マクドネル・ダグラス・コーポレイション 高効率、高出力の直接ダイオードレーザシステムおよびその方法
JP2001203418A (ja) * 1996-08-06 2001-07-27 Cutting Edge Optronics Inc レーザダイオードアレイアセンブリおよびその動作方法
JP2005045145A (ja) * 2003-07-25 2005-02-17 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光モジュールおよびそれを用いた光通信用送受信回路
JP2009064932A (ja) * 2007-09-06 2009-03-26 Sony Corp レーザアレイ用冷却装置、レーザモジュール及びレーザ光源装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3982201A (en) * 1975-01-24 1976-09-21 The Perkin-Elmer Corporation CW solid state laser
US4739462A (en) * 1984-12-26 1988-04-19 Hughes Aircraft Company Power supply with noise immune current sensing
US4797896A (en) * 1987-05-06 1989-01-10 Light Wave Electronics Co. Solid state optical ring resonator and laser using same
US5040187A (en) * 1990-01-03 1991-08-13 Karpinski Arthur A Monolithic laser diode array
US5444728A (en) * 1993-12-23 1995-08-22 Polaroid Corporation Laser driver circuit
US5463648A (en) * 1994-08-01 1995-10-31 Litton Systems, Inc. Pulse forming network for diode laser
JP3456121B2 (ja) * 1997-09-09 2003-10-14 三菱電機株式会社 レーザダイオード用電源制御装置
US6744800B1 (en) * 1998-12-30 2004-06-01 Xerox Corporation Method and structure for nitride based laser diode arrays on an insulating substrate
US6999491B2 (en) * 1999-10-15 2006-02-14 Jmar Research, Inc. High intensity and high power solid state laser amplifying system and method
US7042631B2 (en) * 2001-01-04 2006-05-09 Coherent Technologies, Inc. Power scalable optical systems for generating, transporting, and delivering high power, high quality, laser beams
US6647039B2 (en) * 2002-02-27 2003-11-11 Jds Uniphase Corporation Reconfigurable laser header
EP2604216B1 (en) * 2003-02-25 2018-08-22 Tria Beauty, Inc. Self-contained, diode-laser-based dermatologic treatment apparatus
US6954706B2 (en) * 2003-08-20 2005-10-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method for measuring integrated circuit processor power demand and associated system
JP4285338B2 (ja) * 2004-06-14 2009-06-24 トヨタ自動車株式会社 スターリングエンジン
US7642762B2 (en) * 2007-01-29 2010-01-05 Linear Technology Corporation Current source with indirect load current signal extraction
CN101614761B (zh) * 2008-06-25 2012-03-14 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 电流侦测电路

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001203418A (ja) * 1996-08-06 2001-07-27 Cutting Edge Optronics Inc レーザダイオードアレイアセンブリおよびその動作方法
JP2001501777A (ja) * 1996-09-27 2001-02-06 マクドネル・ダグラス・コーポレイション 高効率、高出力の直接ダイオードレーザシステムおよびその方法
JP2005045145A (ja) * 2003-07-25 2005-02-17 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光モジュールおよびそれを用いた光通信用送受信回路
JP2009064932A (ja) * 2007-09-06 2009-03-26 Sony Corp レーザアレイ用冷却装置、レーザモジュール及びレーザ光源装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10454244B2 (en) 2017-08-09 2019-10-22 Lawrence Livermore National Security, Llc Driver circuitry and systems for high current laser diode arrays

Also Published As

Publication number Publication date
RU2012112805A (ru) 2013-10-10
EP2462665A4 (en) 2017-08-09
US20110051759A1 (en) 2011-03-03
CA2772710C (en) 2018-08-07
IN2012DN02236A (ja) 2015-08-21
EP2462665A1 (en) 2012-06-13
CA2772710A1 (en) 2011-03-10
US8660156B2 (en) 2014-02-25
WO2011028932A1 (en) 2011-03-10
KR101721282B1 (ko) 2017-03-29
KR20120099004A (ko) 2012-09-06
EP2462665B1 (en) 2021-11-03
CN102640368A (zh) 2012-08-15
JP5740685B2 (ja) 2015-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5740685B2 (ja) 半導体レーザを駆動し冷却する方法及びシステム
TW419869B (en) Power source control device for a laser diode
JP3384950B2 (ja) レーザダイオードアレイアセンブリおよびその動作方法
US8638831B2 (en) Optical pumping of a solid-state gain-medium using a diode-laser bar stack with individually addressable bars
CN103780090B (zh) 可自动配置的切换/线性调节的系统和方法
US20090244840A1 (en) Electronic device
US6857276B2 (en) Temperature controller module
JP2016512652A (ja) コンパクトな高電流高効率レーザダイオードドライバ
US20170017144A1 (en) Projector and driving method for projector
US9136664B2 (en) Method for operating a pump light source having a diode laser
CN113904211A (zh) 脉冲生成器电路、相关系统和方法
CN209766846U (zh) 温度控制组件及具有其的固体激光器
KR20130060949A (ko) 방전 프로파일에 따라 배터리의 방전을 유도하는 방전 시스템에서 사용되는 냉각 장치 및 그 장치의 제조 방법
JP2016058504A (ja) 半導体レーザ励起固体レーザの駆動装置及び半導体レーザ励起固体レーザ装置
JP5847608B2 (ja) 結露防止用ヒーター
EP1013432A2 (en) Cooling of high voltage driver chips
JP5127866B2 (ja) ペルチェ素子の駆動装置および駆動方法
JP2004356449A (ja) ペルチェ素子の制御方法およびペルチェ素子の制御回路
US20100188136A1 (en) Dynamic thermal management system and method
Crawford et al. Advancements of ultra-high peak power laser diode arrays
WO2019088974A1 (en) Power circuit and method for a laser light source of a flash lidar sensor
JP5439836B2 (ja) 固体レーザ装置
JP2003234534A (ja) レーザダイオード用電源制御装置
JP2005166829A (ja) ペルチェ素子駆動回路,ペルチェ素子駆動方法および伝送光出力回路
Negoita et al. High peak power diode stacks for high energy lasers

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130820

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140311

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140611

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141209

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150305

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150331

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150403

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5740685

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20160122

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20160122

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

RD13 Notification of appointment of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D13

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250