JP2001501777A - 高効率、高出力の直接ダイオードレーザシステムおよびその方法 - Google Patents

高効率、高出力の直接ダイオードレーザシステムおよびその方法

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Abstract

(57)【要約】 N個の出力ビームおよびN個の受光出力ビームを生成するN個のレーザヘッドアセンブリ(LHA)(400A、400Bなど)と、N個の受光出力ビームを再コリメートし、かつ一点上に焦点合わせをするトーチヘッド(500)とを含む直接ダイオードレーザシステム(400)である。好ましくは、直接ダイオードレーザシステム(400)のレーザヘッドアセンブリ(400A、400Bなど)の各々はM個のレーザビームを生成するM個のモジュールを含み、M個のレーザビームの各々は対応する光の単一波長を有し、前記レーザヘッドアセンブリの各々はさらに、M−1個のダイクロイックフィルタ(420)を含み、M−1個のダイクロイックフィルタ(420)の各々はM個のレーザビームの対応する1つを透過して他のすべての波長を反射し、前記レーザヘッドアセンブリの各々はさらに、M個のレーザビームを集光してN個の出力ビームの対応する1つを生成するファイバ結合装置(460、462、464、466)を含む。一例では、M−1個のダイクロイックフィルタ(420)はバンドパスフィルタとして機能する。高流速、高出力のレーザビームを生成する方法もまた述べられる。

Description

【発明の詳細な説明】 高効率、高出力の直接ダイオードレーザシステムおよびその方法 発明の背景 この発明は一般にダイオードレーザアレイシステムに関する。より具体的には 、この発明は高効率、高出力の直接ダイオードレーザシステムに関する。 レーザ追跡、レーザ誘導、およびレーザ画像のような多くの応用例において、 高出力のコヒーレントなレーザ出力を生成することが望まれる。さらに、高出力 のコヒーレントなレーザシステムは、攻撃および防御武器システム(たとえば特 殊部隊用の不可視性光照明器および保護レーザグリッド)や、また材料処理(た とえば溶接、切断、熱処理および融除)、さらには医学(たとえば手術および診 療の補助)などのような種々の分野で応用が効く。 最も初期のレーザシステムでは、レーザ出力のコヒーレント源を提供するのに 単一半導体レーザが利用された。これらの単一半導体レーザは、構造的な制限と 限られた効率とのため、提供できる出力量が制限されていた。より最近では、同 じ基板上に間隔をあけて位置する半導体レーザのアレイの近接するエミッタが互 いに結合されている、半導体レーザのアレイも利用されるようになった。このよ うなレーザアレイシステムの1つは、同一人に譲受された、ヘイデル他(Heidel et al.)の米国特許第5,212,707号に開示され、これはあらゆる目的 のためにここに引用により援用する。 図1は、ヒートシンク12上に取付けられた米国特許第5,212,707号 に従った一次元半導体レーザアレイ10を表わす。この半導体レーザアレイ10 はレーザアレイの出力をコリメートするために付随するレンズアセンブリ22、 24を有し、これは半導体レーザアレイ10の放出フェーセットに近接して位置 する。レンズアセンブリ22、24はヒートシンク12の耳25に装着される。 アレイ10のエミッタ20は、外部電源からワイヤ18、スタンドオフパッド1 6、および電力リード線14を介して電力を供給される。ある例では、図1に示 す半導体レーザアレイ10は10個の個別のエミッタ20を含み、また、特定の 応用例の必要に応じて多数のエミッタ20が採用され得る。 一旦半導体レーザアレイ10が製造され、取付けられ、さらに起動されると、 半導体レーザアレイのエミッタ20の出力は所望のコリメートされた出力を得る ためにコリメートされなければならない。図1に示すように、半導体レーザアレ イ10の出力をコリメートするように設計されたレンズアセンブリは、典型的に は両凸設計の第1の屈折レンズ22と、基本的に回折レンズである第2の2値光 学素子24とを含む。屈折両凸レンズ22は各エミッタ20の速軸をコリメート し、一方2値光学素子24は、各エミッタ20の遅軸をコリメートし、かつ屈折 レンズ22が行なうコリメーションによって導入されるものを含むすべての球面 収差を修正する役割を果たす。 2値光学素子24は、基板を含み、その上に2値光学回折パターン26がエッ チングされる。一般に、屈折レンズ22および2値光学素子24の材料は実質上 等価な屈折率を有するので、屈折レンズ22と2値光学素子24との境界面での 屈折は最小である。2値光学素子24は屈折レンズ22の表面28に近接して位 置する背面27と表面29とを有し、表面29上には2値光学回折パターン26 がエッチングされる。当業者には周知のように(米国特許第4,846,552 号参照)、2値光学回折パターン26は典型的な2値光学技術に従って生成され るので、この技術についてここでさらに述べることはしない。 2値光学回折パターン26は、典型的には8位相レベル構造(2、4、または 16位相レベル構造を利用することもできるが)であり、半導体レーザアレイの エミッタの発散出力光に固有の光路差を修正する。したがって、2値光学素子2 4から射出する光線はすべて同じ光路長分移動することとなるが、物理的光路長 に光線が中を移動する材料の屈折率を乗じたものとして規定され、その同じ光路 長と等しいか、または射出される光の波長の整数倍だけこれと異なる。8位相の 2値光学回折パターン26は図1に略図で示される。 二次元半導体レーザアレイは、図1に示す一次元半導体レーザアレイ10の複 数のものから製造され得る。一次元半導体レーザアレイ10は図2に示すように 、固定またはクランプ取付具70としての役割を果たすヒートシンク内に積み重 ねられる。クランプ取付具70は、一次元半導体レーザアレイ10が互いの上に 積み重なり、よって各一次元半導体レーザアレイの出力が他の半導体レーザアレ イの出力と実質上平行になるように設計される。 一旦、一次元半導体レーザアレイ10がクランプ取付具70内に取付けられる と、コリメートレンズは整列されて装着される。コリメートレンズの製造は前述 したものと同一の方法で行なわれるので、屈折レンズ22は、各エミッタ20の レーザ出力をコリメートするように設計された2値光学素子24に接合される。 コリメートレンズの整列および装着は効率を最適にするために連続式で達成され る。第1の一次元半導体レーザアレイ10aに付随するコリメートレンズ80a は前述したように位置付けられるので、半導体レーザアレイ10の各エミッタ2 0の光軸はコリメートレンズアセンブリ80aの中心に実質上整列される。 第2のコリメートレンズアセンブリ80bはこの後、第2の一次元半導体レー ザアレイ10bの前に置かれ、図3に示すように真空源への真空線によって接続 された真空チャック76によってその位置に保持される。この後、二次元半導体 レーザアレイ10は電源を供給されるので、エミッタ20は光出力を生成する。 変換レンズ72は第1および第2の一次元半導体レーザアレイから射出する光の 経路内に位置付けられる。変換レンズ72は図3に示すように平凸レンズであっ ても両凸レンズであってもよく、よって、変換レンズ72への入力光がコリメー トされると、変換レンズ72の焦点面に擬似遠視野が現われる。擬似遠視野を決 定するために、すべての光ビームが変換レンズ72の焦点面で重なり合うとき、 線走査検出器74が焦点面に位置付けられる。適切なコリメーションが達成され たかどうかを決定するために線走査検出器の出力が監視される。第2のコリメー トレンズアセンブリ80bの位置は、変換レンズの焦点面で適切なコリメーショ ンが観察されるまで変えられる。一旦適切なコリメーションが観察されると、第 2のコリメートレンズアセンブリ80bの位置はクランプ取付具70の耳25の 位置にレンズアセンブリを固定することにより保たれる。各レンズアセンブリお よびそれに対応する一次元半導体レーザアレイ10について、各半導体レーザア レイ10のレンズアセンブリが適切に整列されることにより光が擬似遠視野でコ リメートされかつ焦点を合わせられるまで、同一の整列処理が行なわれる。 二次元レーザアレイは適切に電源を供給されると、遠視野に単一のコリメート されたレーザ点を生成する。その出力を組合わせることのできる複数の一次元半 導体レーザアレイ10を利用することにより、二次元半導体レーザアレイの出力 をかなり高くすることができる。たとえば、12個の一次元半導体レーザアレイ からなり、一次元半導体レーザアレイの各々が21個のエミッタを有する、二次 元半導体レーザアレイによって、25ワットの連続波レーザエネルギが生成され た。さらに、電気入力から中央ローブの電力までのレーザアレイ全体の効率はお よそ26%であった。 米国特許第5,299,222号は、レーザ出力をダイオードレーザ棒のスタ ックからレーザをポンピングするのに有用かつ柔軟な形式(固体レーザ)で集光 し、かつ集中させる高出力のレーザダイオードシステムを生成するための代替的 アプローチを開示する。図4に略図で示すように、積み重ねられたダイオードレ ーザ棒の光ビーム出力は、複数の光ファイバ内に結合される。ファイバからの出 力光ビームはレーザ共振器をポンピングするのに用いられ得る。ファイバは、終 点ポンピングを効率よくするために、固体レーザの空洞共振器のさまざまな終点 でまとめられ得る。図4では、ダイオードレーザ棒スタック13の複数のダイオ ードレーザ棒から光ビーム11が射出され、棒の選択された群からの光が、スタ ック13の各ダイオード棒に近接しながらも間隔をあけて位置付けられた複数の 円筒レンズ15の1つによって集光される。各ダイオードレーザ棒は縦横比(長 さ対幅)が10,000:1ほど高いかまたはもっと高くてもよく、円筒レンズ 15が介在して、第1の方向のビーム発散角度を、第2の垂直な方向のビーム発 散角度に対して減少するので、その結果2つの方向の各々のビーム発散角度はほ ぼ同じになる。 2つ以上の回転鏡17A、17B、17Cおよび17Dは、光ビーム11のお 互いに相容れない部分を、重なり合わない光ビーム成分19A、19B、19C および19Dへそれぞれ分離し、19Eのような少なくとも1つのポンプ光ビー ム成分が回転鏡に当たらない光ビーム11の一部によって任意に規定される。各 光ビーム成分19A、19B、19C、19Dおよび19Eはこの後、それぞれ 好適な焦点合わせ光学素子21A、21B、21C、21Dおよび21Eによっ て対応する多モード光ファイバ23A、23B、23C、23Dおよび23Eに それぞれ焦点を合わせられ、ファイバの直径はそのファイバを目的とした光ビー ムを完全に捕捉するように選ばれる。好ましくは、ある光ビームがファイバの一 受光端に到着するときの収束角の正弦は、ファイバの開口数NAより小さい。一 実施例では、各光ファイバは約500μmの直径を有するが、このファイバの直 径は数mm程度の大きさであり得る。焦点合わせ光学素子21j(j=A、B、 C、DまたはE)の各々は、f=6.35mmのように焦点距離の短いレンズで あってもよく、結果として生じるビームを、対応するファイバ23jに入射する ところで測定される入射直径、すなわち焦点合わせ光学素子21jに到着するポ ンプ光ビーム11の部分の直径の約25%まで収束させることを目的とする。 多モードファイバ23jの開口数NAは0.15〜0.3の範囲にわたるが、 0.6程度の高さであってもよい。各光ファイバ23jはその中を伝搬する成分 ポンプ光ビームを選択された位置に、この成分ポンプ光ビームの集まりによって ポンプされるべきレーザ空洞共振器に対して選択された角度配置で運ぶ。各光フ ァイバ23jはダイオードレーザ波長Pの反射防止膜を備え、この膜はファイバ 端に直接塗布されるかまたはそのファイバの受光端に接着された分離したガラス 窓に塗布されるかのいずれかである。ファイバ23jのコア材料はガラスであっ てもよく、ファイバのクラッディング材料は、技術分野で周知の方法でファイバ の開口数によって決定されるコア屈折率よりも小さい屈折率を有する、ガラスま たはプラスチックであってもよい。 上述のシステムを拡張するには、複数の開示した出力モジュールの出力を一点 に結合するために大量のスペース(real estate)および合成光学アセンブリの両 方が必要であると認識されるであろう。たとえば、図3のレンズ72の存在は、 各モジュールに付随する焦点合わせレンズの必要性を示唆し、図4は単一ダイオ ードレーザアレイの出力を効率よく結合するために複数のレンズ21が必要であ ると示唆する。複数の半導体レーザアレイが単純でかつ丈夫な光学サブシステム を用いて強度の高いレーザ出力の一点を生成することが望ましいとされる。さら に、複数の半導体レーザアレイが均一に取付けられ、それらの出力が、利用可能 な開口を充填することにより、生成されたレーザ出力の一点にわたって実質上一 定の強度を提供するような方法でコリメートされることが望ましい。 発明の概要 上述および前述したことに基づいて、ダイオードレーザシステムの分野で上述 の欠点を克服する必要性が現存する。 この発明の目的は、加工品上で高い流速レベルを生成する直接ダイオードレー ザシステムを提供することである。 この発明の別の目的は、高出力レーザビームを生成する直接ダイオードレーザ システムを提供することである。この発明の一局面に従うと、高出力レーザビー ムは一点上に焦点を合わせて加工品と相互作用することができる。この発明の別 の局面に従うと、高出力レーザビームを固体レーザの一端に向けることができる 。 この発明のさらに別の目的は、多周波数のコリメートされたレーザビームのダ イクロック結合を用いて加工品上で高い流速レベルを生成する直接ダイオードレ ーザシステムを提供することである。有利なことに、すべてのコリメートされた レーザビームはレーザダイオードアレイを用いて生成され得る。 この発明のさらに別の目的は、多周波数のコリメートされたレーザビームのダ イクロイック結合および偏光結合の両方を用いて加工品上で高い流速レベルを生 成する直接ダイオードレーザシステムを提供することである。有利なことに、す べてのコリメートされたレーザビームはレーザダイオードアレイを用いて生成さ れ得る。 この発明のさらなる目的は、何千ものコリメートされたレーザダイオード出力 を単一のレンズを介して単一のファイバ内に同時に結合することによって加工品 上で高い流速レベルを生成する直接ダイオードレーザシステムを提供することで ある。 この発明の別の目的は、線形にスケール可能な高出力レベルの出力を生成する 直接ダイオードレーザシステムを提供することである。 この発明のこれらおよび他の目的、特徴および利点は、N個の出力ビームを生 成するN個のレーザヘッドアセンブリ(LHA)と、N個の出力ビームのそれぞ れを受けてN個の受光出力ビームを生成するN個の光ファイバと、N個の受光出 力ビームを再コリメートし、かつ一点上に焦点合わせをするトーチヘッドとを含 む、直接ダイオードレーザシステムによって提供される。この発明の一局面に従 うと、直接ダイオードレーザシステムのレーザヘッドアセンブリの各々は、M個 のレーザビームを生成するM個のモジュールを含み、M個のレーザビームの各々 は対応する光の単一波長を有し、前記レーザヘッドアセンブリの各々はさらに、 M−1個のダイクロイックフィルタを含み、M−1個のダイクロイックフィルタ の各々はM個のレーザビームのうち対応する1波長を透過し、がつM個のレーザ ビームの他の波長のすべてを反射し、前記レーザヘッドアセンブリの各々はさら に、M個のレーザビームを集光してM個の出力ビームに対応するものを生成する ファイバ結合装置を含む、直接ダイオードレーザシステムによって提供される。 この発明のこれらおよび他の目的、特徴および利点は、N個の出力ビームを生 成するN個のレーザヘッドアセンブリ(LHA)を含み、N個のレーザヘッドア センブリの各々はM個の第1のレーザビームを生成するM個の第1のモジュール を含み、M個の第1のレーザビームの各々は対応する光の単一波長を有し、M− 1個の第1のダイクロイックフィルタは第1の光導波路を規定してM個の第1の レーザビームのすべてを第1の光路の方へ向け、M−1個の第1のダイクロイッ クフィルタの各々は対応する波長を有するM個の第1のレーザビームの対応する 1つを透過し、M個の第1のレーザビームの他の波長すべてを反射し、さらに、 第1の光路に近接して配置され、M個の第1のレーザビームを集光してN個の出 力ビームの対応するものを生成するファイバ結合装置を含み、N個の光ファイバ はそれぞれのN個の出力ビームを受けてN個の受光出力ビームを生成し、さらに 、N個の受光ビームを再コリメートし、かつ一点上に焦点合わせをするトーチヘ ッドを含む、直接ダイオードレーザシステムによって提供される。 この発明のこれらおよび他の目的、特徴および利点は、高エネルギレーザビー ムを生成するための方法によって提供され、この方法は、 (a) M番目の波長を有するPのコリメートされたレーザビームを生成する ステップと、 (b) M個の異なる波長を有するM×P個のコリメートされたレーザビーム を生成するようにステップ(a)をM回繰返すステップと、 (c) M×P個のコリメートされたレーザビームを光路中に結合するステッ プと、 (d) M×P個のコリメートされたレーザビームをi番目の(i=1から N)光ファイバ中に結合させることにより、対応するi番目の出力レーザビーム を生成するステップと、 (e) (a)から(d)のステップをN回繰返すことによりN個の出力レー ザビームを生成するステップと、 (f) N個の出力レーザビームを再コリメートしてN個の再コリメートされ たレーザビームを生成するステップと、 (g) N個の再コリメートされたレーザビームを一点上に焦点合わせをする ステップとを含む。 この発明のこれらおよび他の目的、特徴および利点は、後の好ましい実施例の 説明で開示され、またはそれにより明らかになるであろう。 図面の簡単な説明 この発明のこれらおよび他のさまざまな特徴および局面は、添付の図面ととも に後の詳細な説明を参照することにより容易に理解されるであろう。 図1は、一次元半導体レーザアレイアセンブリ、屈折レンズ、および2値光学 素子の斜視図である。 図2は、二次元半導体レーザアレイと、それに付随する、クランプ取付具内に 保持されたコリメート用光学素子である。 図3は、二次元半導体レーザアレイ構造の変換レンズの側面図であり、コリメ ートレンズアセンブリによるレーザダイオード出力の適切なコリメーションを表 わす。 図4は、1cmの長さのダイオードレーザスタックの出力を5つの分離したフ ァイバ内に結合するのに用いられる光学システムの略図である。 図5は、この発明に従った高効率、高出力の直接ダイオードレーザシステムの 高レベルのブロック図である。 図6は、図5に示す高効率、高出力の直接ダイオードレーザシステムの選択さ れた構成要素のより詳細なブロック図である。 図7は、図6に示すアセンブリの1つの光学ベッドの詳細な図であり、これは この発明に従ったシステム電力スケーリングの一面を理解する上で有用である。 図8は、この発明に従った実施例で採用され得るダイオードレーザアレイモジ ュールの側面図である。 図9は、図5のトーチヘッドアセンブリの構成例を表わす。 発明の詳細な説明 図5は、この発明の好ましい代替的実施例に従った、高効率、高出力の直接ダ イオードレーザシステム(DLS)の高レベルのブロック図である。図5に表わ すように、DLS1は、コントローラ200と一般に300で示されるN個のレ ーザヘッドアセンブリ(LHA)との両方に電力を供給する電源100を含む。 一般に400で示されるN個のレーザヘッドアセンブリ(LHA)はそれぞれL HAコントローラ300の出力を受け、N個の光出力レーザビームをN個の光フ ァイバを介してトーチヘッド500に提供する。トーチヘッド500は有利なこ とに、レーザヘッド510(図9参照)によって拡大することができるので、図 5では択一的な表示がなされていることも記しておく。 好ましくは、LHAコントローラ300およびLHA400のNの数は、DL S1の所望の出力を提供するために必要に応じて変えることができる。ある例で は、4個のLHA400A、400B、400Cおよび400Nにそれぞれ電力 を提供する4個のLHAコントローラ300A、300B、300Cおよび30 0NがDLS1に含まれる。図5のブロック図はDLS1を表わし、ここで、各 々が800ワットの電力を生成する4個のLHA400の光出力レーザビームは 、3200ワット以上のcw電力を単一の焦点合わせレンズに運ぶために結合さ れる。図9に関して以下により詳細に述べるように、対応するLHA400の各 々の出力は有利なことに、ファイバに結合され、さらに、各ファイバの末端(直 径およそ1m)で再コリメートされることもできる。4つのコリメートされたレ ーザ源、すなわち4つの出力光ビームは、好ましくは単一レンズによって集光さ れ、これは総電力3200ワットを一点上に焦点合わせをする。加工品上で流速 を増加させるためにこの後の方の技術が産業レーザシステムに通常用いられるこ とが認識されるであろう。 図5のDLS1の実施例では、電源はコントローラ200とLHAコントロー ラ300とに直流電力を提供する。好ましくは、コントローラ200はマスタコ ントローラとして作用し、これに対してN個のLHAコントローラ300はスレ ーブコントローラとして作用する。さらに言及すべきことは、N個のLHAコン トローラ300の各々は、以下により詳細に述べるように、それぞれのLHA4 00の出力光ビームを制御し、かつ変化させるということである。 図6は、図5に示すLHA400とトーチヘッド500とをさらに詳細に表わ した中レベルのブロック図である。有利なことに、N個のLHA400の各々は 、M個のダイオードレーザモジュール410を含み、M/2個のモジュールの出 力ビームは、偏光コンバイナ450を用いて他のM/2個のモジュール410の 出力ビームと結合する。N個の偏光コンバイナ450の各々の結合出力ビームは 、ファイバ結合光学素子460および対応する光ファイバ470を介してトーチ ヘッド500に提供される。 次に図7を参照すると、ここではLHA400を詳細に表わしたものが提示さ れる。好ましくは、M個のダイオードレーザモジュール410はM/2個のモジ ュール410を一群として支持プレートまたは光学ベッド430上に配置され、 モジュール140の左右の群は偏光コンバイナ(偏光子)450を挟んで対向す る両側に配置される。M/2個のモジュール410の左の組の出力ビームは(M /2)−1個のダイクロイックフィルタ420を用いて結合され、偏光子450 の反射面に向けられる。M/2個のモジュールの410の右の組の出力ビームは 別の(M/2)−1個のダイクロイックフィルタ420を用いて結合され、波長 板440を介して偏光子450の透過面に向けられる。偏光子450は、当業者 に周知の方法で、左右のM/2個のモジュールの組によって生成された左右の組 のM/2個のレーザビームを結合する。 偏光子450の出力ビームは、ファイバ結合光学素子460を介して光ファイ バ470へと透過される。有利なことに、ファイバ結合光学素子はリレーミラー 462と、変換レンズ464と、ファイバカプラ466とがこの順番にLHA4 00の光路に沿って配置されたものを含み得る。好ましくは、偏光子450およ びリレーミラー463は2軸調整を提供し、一方変換レンズ464は5軸調整を 提供する。図7に表わす例では、波長板440はM/2個のモジュールの右の群 の出力ビームの偏光面の回転を生じさせる。 有利なことに、左右の組のモジュール410の各々は、各々が異なる単一波長 を有する出力ビームを生成し、出力ビーム間の波長の分離はDLS1で用いられ るダイクロイックフィルタの質にのみ依存する。モジュール410の(M/2) −1個は、そのモジュールからの出力ビームのみを透過し、他のすべての光の波 長を反射する、対応する光バンドパスフィルタ420の後に配置される。モジュ ールは付随するダイクロイックフィルタ420から機械的に独立しているので、 ダイクロイックフィルタ420はモジュール410から分離して整列され得る。 すべてのモジュール410が波長で結合された後で、広帯域の偏光子450を用 いてM/2個のモジュール410の対向する群からの出力ビームを単一の高輝度 ビームへと結合する。 上述しかつ図7に示したように、12個の100ワットのコリメートされたダ イオードレーザモジュール410(左右の群に各6個ずつ)が結合され、単一の 光ファイバへと射出される。モジュール410の左右の群の1つ中の各モジュー ル410は単一の選択された波長でレーザ光を生成するということに注目すべき である。好ましくは、選択された波長はダイクロイックフィルタ420の1つの バンドパス波長に対応する。選択された波長は、好ましくはおよそ450nmか ら2.5ミクロンの範囲内にあり、選択された波長は好ましくはすべて760〜 1050nmの範囲内に留まり、図7に示す例で最も好ましいものは800〜9 80nmの範囲である。さらに言及すべきことは、モジュール410のいずれか 2つについての最小の差分波長はおよそ10nmであり、これは現存の技術を用 いて利用できるダイクロイックフィルタ420の最小の帯域に対応する。したが って、各LHA400のモジュール410のMの数は、ダイクロイックフィルタ 420および偏光子450の両方が採用されるとき、トーチヘッド500の出力 の帯域幅100nmごとに20であり、ダイクロイックフィルタ420のみが採 用されるときは、帯域幅100nmごとに10である。しかしながら、モジュー ルのMの数は、ダイクロイックフィルタ420の各々のパスバンドが減少するに つれて増加し得る。ダイクロイックフィルタ420は有利なことには、ローパス フィルタ、ハイパスフィルタ、またはバンドパスフィルタであり得ることも記し ておく。 さらに、モジュール410によって生成された波長は、有利には、DLS1の 使用を容易にするために選択され得ることも認識されるであろう。たとえば、モ ジュール410の1つはスペクトルの可視部分の波長を生成するので、安全のた めに誘導ビームを提供することができる。 モジュール410の各々は有利なことに、図8に示すように構築されてもよく 、ここで複数のレーザダイオードアレイ414はケース418内でヒートシンク 412によって支持される。好ましくは、3つ以上の傾斜修正ミラー416がレ ーザダイオードアレイ414の出力を高度にコリメートされた出力ビームに結合 するのに用いられる。好ましくは、各モジュール410は有利にはP個のレーザ ダイオードを含む。Pの数が明らかに制限されるのは、効果的に冷却できるレー ザダイオードの数がいくつか、ということだけである。 モジュール410は、米国特許第5,212,707号に開示されたものにあ る点で類似している一方、他の多くの点において著しく異なるということに注目 されたい。米国特許第5,212,707号に開示されたモジュールは、199 3年に譲受人によって販売された100ワットのファイバ結合システムの一部と して実際に製造されかつテストされた。これらのモジュールは高度にコリメート されたレーザダイオードアレイを生成したが、一方これ以降いくつかの新しい技 術が発達し、米国特許第5,212,707号に開示されたものに相対してモジ ュール410を向上させることが可能になった。たとえば、この特許で用いられ た基本のエミッタは屈折率誘導装置、すなわちリブレーザであった。対照的に、 本発明に従ったモジュール410は有利なことに利得誘導構造、特に、20ミク ロン幅の酸化物規定ストリップであり得る。レーザダイオードアレイ414は米 国特許第5,212,707号に開示された屈折率誘導構造と同じ発散は生成し ないが、著しく高い出力レベルを生成する。さらに、米国特許第5,212,7 07号が発行されて以来、次のようにさらに改良がなされてきた。 (a) スペクトラ・ダイオード・ラブズ,インコーポレイテッド(Spectra Diode Labs,Inc.)による製品番号SDL5410に見られるような、高出力の 屈折率誘導装置の使用。 (b) 一般に酸化物規定ストリップでありながら発散波面を備えた、テーパ 発振器設計の使用。 (c) 改良された2値光学素子。これにより、電力を共有しかつエミッタか らの光をコリメートするために屈折素子はもはや必要でなくなる。この後の方の 改良は単独でも、レーザダイオードアレイ414の各々によって生成される効果 的な流速を増大することがわかるであろう。 これらの改良すべてを正しく実施することにより、米国特許第5,212,7 07号に開示されたモジュールで使用された元の設計に対してモジュール410 の輝度を劇的に増大することができる。 さらに、図8に示すモジュール410は基本モジュール構造に指示ミラー41 6を含むという点にも注目されたい。これらの指示ミラーは、モジュール410 を出る出力ビームを、図7に示す光路を通って光ファイバ470へと方向付ける のに用いられる。有利なことに、指示ミラー416は光ファイバ470に対する 高い結合効率を達成するのに必要な微調整を提供する。さらに米国特許第5,2 12,707号に従った最初の商業システムは、図2および図3に示す2個のレ ーザダイオードアレイを偏光結合することにより100ワットの出力を提供した ということにも注目されたい。このモジュール内結合に対するアプローチは、図 8に示すモジュールの構成がより有利であるため放棄され、この構成が加工品の 上で流速を増加しつつモジュール410の全体の大きさを有利に小さくする。 モジュール410の基本設計に対する別の改良は、レーザダイオードの梱包密 度を増大させるためにスタック可能なマイクロチャネル冷却器を使用し、その結 果システム全体の大きさを小さくすることである。有利なことに、米国特許第5 ,495,490号に開示されたような冷却システムを用いることができ、この 特許はあらゆる目的のために引用として援用する。 図9を参照すると、トーチヘッド500の好ましい実施例はN個のコリメート レンズ504を含み、これは光ファイバ470からN個のファイバ出力502を 介して出力ビームを受け、また変換レンズ506とともにN個の出力ビームを一 点上で焦点合わせをする。M×N×P個のレーザダイオードの出力はトーチヘッ ド500によって一点上に焦点を合わせられるということがわかるであろう。代 替的には、LHA400の出力は、図9に示すものと同一または類似した構造を 用いて固体レーザロッド510を終点ポンピングするために結合され得るという ことがわかるであろう。ここで言っておくべきことは、トーチヘッド500中の コリメートレンズの数はN、すなわちLHA400の数であるということである 。さらに、レーザロッド510は有利なことには、希土類でドープされた光ファ イバまたは色素レーザのいずれかによって置換され得る、すなわち媒体を増幅す る何らかのレーザがヘッド500に直列に結合され得るということも言っておく 。 上述したように、図5に示すDLS1は4個のLHA400の出力ビームが結 合して3200ワット以上のcw電力を単一の焦点合わせレンズ506に運ぶ例 についてのものである。なお、各LHA400の出力ビームは12個のモジュー ル410の出力のダイクロイックおよび偏光結合によって生成される。 DLS1の出力を数々の方法で変化させ得るという点を認識すべきである。ま ず、LHA400のNの数を変えることができる。たとえば、LHA400のN の数を倍にすると、出力ビームの結合した力も倍になる。これに代えて、モジュ ール410および対応するダイクロイックフィルタのMの数を変えることで、出 力レベルを変化させることもできる。ある例では、Mの数を12から6に減少す ると、その特定のLHA400の出力は半減する。最後に、DLS1の出力は、 起動されたシステムモジュール410のM×Nの数を制御するか、または励起力 レベルをM×N個のモジュール410のある部分まで制御するかのいずれかによ って有利に変えることができる。出力は励起電流をM×N個のモジュール410 に対して均一に調整することによって調整できるが、システム電力の上限および 下限で制御することはおそらく困難なことがわかるであろう。このため、M×N 個のモジュールの選択された部分が制御され、一方M×N個のモジュール410 の残りの部分は所望のシステム出力によってオンまたはオフのいずれかにされ得 る。さらに、選択されたM×N個のモジュール410の出力を、cw動作モード では励起電流に従って変化させ、パルス動作モードではデューティサイクルに従 って変化させることができるということも認識されたい。 上述したように、各々対応するモジュールの出力は光ファイバ470にファイ バ結合される。変換レンズ464はLHA400の出力ビーム全体をファイバ4 70へと焦点を合わせかつ結合するということに注目されたい。好ましくは、光 ビームがファイバ470の受光端に到着するときの収束角の正弦は、そのファイ バの開口数NAより小さい。有利には、ファイバ470のNAは0.47より小 さい。好ましくは、ファイバ470のNAは0.19以下であり、最も好ましく は、光出力のNAは0.16以下である。 好ましくは、ファイバ結合レンズ464は、特にLHA400の広波長帯域シ ステムからの光ビームの集まりを光ファイバ470へ焦点を合わせるために設計 されたレンズである。図7の例に示すモジュール410の数は、ファイバ出力で 必要な光出力の束に適合するように選ばれ、使用する光の質に完全に依存する。 前述したように、唯一の基準は、システムがファイバから800ワットを生成し 、0.16NA内に含まれることである。 当業者には、商業的な応用の範囲が、手術から、切断、溶接、および熱処理金 属までにわたるということがわかるであろう。さらにこのDLS1は、合成材料 のペイント剥がし、縁巻き、切断および錐揉みに理想的であるとされる。軍事へ の応用は、ジンバル外照射システムから核保管区域に対する遅延否定システムま での範囲にわたる。 この技術についての他の主要な応用例は、上述したように、希土類元素に基づ いた固体レーザの光ポンピングのようなものであろう。この構成により、固体レ ーザロッド、希土類でドープされたファイバまたは色素レーザの優れた終点ポン ピングが容易になった。さらに、この構成は最も効率のよい手段であると照明さ れており、しかもコヒーレントでないレーザダイオードポンピング光を高品質で 高輝度のビームに変換するために考案されたものである。 この発明の現在好ましい実施例は以上に詳しく述べてきたが、当業者には明ら かであろうが、ここに教示した基本的な発明の概念の多くの変形例および/また は修正例は、当然、添付の請求の範囲に規定されるとおり、この発明の精神およ び範囲内に依然収まるものであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT ,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA, CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,F I,GB,GE,HU,IL,IS,JP,KE,KG ,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT, LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,N O,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG ,SI,SK,TJ,TM,TR,TT,UA,UG, UZ,VN (72)発明者 ハッケ,ジョン・エム アメリカ合衆国、63301 ミズーリ州、セ ント・チャールズ、ガムトゥリー・プレイ ス、5 【要約の続き】 速、高出力のレーザビームを生成する方法もまた述べら れる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.N個の出力ビームを生成するN個のレーザヘッドアセンブリ(LHA)を含 むダイオードレーザシステムであって、前記N個のLHAの各々は、 M個のレーザビームを生成するM個のモジュールを含み、前記M個のレーザビ ームの各々は異なる単一波長を有し、前記N個のLHAの各々はさらに、 M−2個のダイクロイックフィルタを含み、前記M−2個のダイクロイックフ ィルタの各々は前記M個のレーザビームのうち対応する1つを透過し、前記M個 のレーザビームの他のすべてを反射し、前記N個のLHAの各々はさらに、 前記M個のレーザビームを集光して前記N個の出力ビームの対応する1つを生 成するファイバ結合装置を含み、前記システムはさらに、 前記N個の出力ビームの対応するものを受けてN個の受光出力ビームを生成す るN個の光ファイバと、 前記N個の受光出力ビームを一点上に再コリメートして焦点合わせをする光学 アセンブリとを含み、 NおよびMはともに2以上の整数である、ダイオードレーザシステム。 2.前記N個のLHAの対応するものによって生成された出力を制御するN個の LHAコントローラをさらに含む、請求項1に記載のダイオードレーザシステム 。 3.前記N個のLHAのすべてによって生成された出力を制御するLHAコント ローラをさらに含む、請求項1に記載のダイオードレーザシステム。 4.前記光学アセンブリが、 前記N個の出力ビームの対応するものを再コリメートするためのN個のコリメ ートレンズと、 前記再コリメートされたN個の出力ビームを前記一点上で焦点合わせをする単 一の変換レンズとを含む、 請求項1に記載のダイオードレーザシステム。 5.前記一点が固体レーザロッドの一端に対応する、請求項4に記載のダイオー ドレーザシステム。 6.前記一点が希土類でドープされた光ファイバの一端に対応する、請求項4に 記載のダイオードレーザシステム。 7.前記LHAの各々が、 M/2個の第1のレーザビームを生成するM/2個の第1のモジュールを含み 、前記M/2個の第1のレーザビームの各々は対応する単一波長を有し、前記L HAの各々はさらに、 (M/2)−1個のダイクロイック第1のフィルタを含み、前記(M/2)− 1個のダイクロイック第1のフィルタの各々は前記M/2個の第1のレーザビー ムの対応する1つを透過し、前記M/2個の第1のレーザビームの他のすべてを 反射し、前記LHAの各々はさらに、 M/2個の第2のレーザビームを生成するM/2個の第2のモジュールを含み 、前記M/2個の第2のレーザビームの各々は対応する単一波長を有し、前記L HAの各々はさらに、 (M/2)−1個のダイクロイック第2のフィルタを含み、前記(M/2)− 1個のダイクロイック第2のフィルタの各々は前記M/2個の第2のレーザビー ムのうち対応する1つを透過し、前記M/2個の第2のレーザビームの他のすべ てを反射し、前記LHAの各々はさらに、 第1および第2のM/2個のレーザビームを結合することによりM個の偏光結 合されたレーザビームを生成する偏光子と、 前記M個の偏光結合されたレーザビームを集光して前記N個の出力ビームの対 応する1つを生成するファイバ結合装置とを含む、 請求項1に記載のダイオードレーザシステム。 8.前記M−2個のダイクロイックフィルタの前記各々が、前記M個のレーザビ ームのうち前記対応する1つをバンドパスフィルタし、前記M個のレーザビーム の他のすべてを反射する、請求項1に記載のダイオードレーザシステム。 9.N個の出力ビームを生成するN個のレーザヘッドアセンブリ(LHA)を含 むダイオードレーザシステムであって、前記N個のLHAの各々は、 M個の第1のレーザビームを生成するM個の第1のモジュールを含み、前記M 個の第1のレーザビームの各々は異なる単一波長を有し、前記N個のLHAの各 々はさらに、 第1の光導波管を規定して前記M個の第1のレーザビームのすべてを第1の光 路へと方向付けるM−1個の第1のダイクロイックフィルタを含み、前記M−1 個の第1のダイクロイックフィルタの各々は、前記M個の第1のレーザビームの 対応する1つを透過し、前記M個の第1のレーザビームの他のすべてを反射し、 前記N個のLHAの各々はさらに、 前記M個の第1のレーザビームを集光して前記N個の出力ビームの対応する1 つを生成する前記第1の光路に近接して配置されたファイバ結合装置を含み、前 記システムはさらに、 前記N個の出力ビームの対応するものを受けてN個の受光出力ビームを生成す るN個の光ファイバと、 N個の受光出力ビームを再コリメートし、かつ一点上で焦点合わせをする光学 アセンブリとを含み、 NおよびMがともに2以上の整数である、ダイオードレーザシステム。 10.前記光学アセンブリが、 前記N個の出力ビームを再コリメートするためのN個のコリメートレンズと、 前記再コリメートされたN個の出力ビームを前記一点上で焦点を合わせるため の単一の変換レンズとを含む、 請求項9に記載のダイオードレーザシステム。 11.前記一点がレーザ増幅媒体の一点に対応する、請求項10に記載のダイオ ードレーザシステム。 12.前記LHAの各々がさらに、 M個の第2のレーザビームを生成するM個の第2のモジュールを含み、前記M 個の第2のレーザビームの各々が異なる単一波長を有し、前記LHAの各々はさ らに、 第2の光導波管を規定して前記M個の第2のレーザビームのすべてを第2の光 路の方向に向けるM−1個の第2のダイクロイックフィルタを含み、前記M−1 個の第2のダイクロイックフィルタの各々は、前記M個の第2のレーザビームの 対応する1つを透過し、前記M個の第2のレーザビームの他のすべてを反射し、 前記LHAの各々はさらに、 前記M個の第2のレーザビームの偏光面を回転させるための回転素子と、 前記M個の第1およびM個の第2のレーザビームを第2の光路に結合すること によって2M個の偏光結合されたレーザビームを生成する、前記第1および第2 の光路の交点に配置される偏光子とを含み、 前記ファイバ結合装置が前記2M個の偏光結合されたレーザビームを集光して 前記N個の出力ビームの対応する1つを生成する、 請求項9に記載のダイオードレーザシステム。 13.前記ファイバ結合装置が、前記M個の第1のレーザビームを受けて、それ を前記N個の光ファイバに結合することによって前記N個の出力ビームの対応す る1つを生成する変換レンズを含む、請求項9に記載のダイオードレーザシステ ム。 14.N個のレーザビームを生成するための手段を含み、 前記N個のレーザビームの各々は複数の光の波長を含み、前記生成する手段は 、 M個の第1のレーザビームを生成するためのM個の第1の手段を含み、前記M 個の第1のレーザビームの各々は異なる単一波長を有し、前記生成する手段はさ らに、 第1の光導波管を規定して前記rビームのすべてを第1の光路に向けるM−1 個の第1のフィルタ手段を含み、前記M−1個の第1のフィルタ手段の各々は前 記M個の第1のレーザビームのうち対応する1つを透過し、前記M個の第1のレ ーザビームの他のすべてを反射し、前記生成する手段はさらに、 前記M個の第1のレーザビームを集光し、かつ前記N個の出力レーザビームの 対応する1つを生成するための前記第1の光路に近接して配置されたファイバ結 合手段を含み、前記ダイオードレーザシステムはさらに、 前記N個の出力レーザビームの対応するものを受けてN個の受光出力ビームを 生成するためのN個の光ファイバ手段と、 前記N個の受光出力ビームを再コリメートし、かつ一点上で焦点合わせをする ための出力手段を含み、 NおよびMはともに2以上の整数である、ダイオードレーザシステム。 15.前記出力手段が、 前記N×M個のレーザビームを再コリメートするためのN個のコリメートレン ズと、 前記再コリメートされたN×M個のレーザビームを前記一点上で焦点合わせを する単一の変換レンズとを含む、 請求項14に記載のダイオードレーザシステム。 16.前記一点が固体レーザの一端に対応する、請求項14に記載のダイオード レーザシステム。 17.前記一点が希土類でドープされた光ファイバの一端に対応する、請求項1 4に記載のダイオードレーザシステム。 18.前記一点が色素レーザの一端に対応する、請求項14に記載のダイオード レーザシステム。 19.前記生成する手段がさらに、 M個の第2のレーザビームを生成するための第2の手段を含み、前記M個の第 2のレーザビームの各々は異なる単一波長を有し、前記生成する手段はさらに、 第2の光導波路を規定して前記M個の第2のレーザビームのすべてを第2の光 路に向け、前記M−1個の第2のフィルタ手段は、前記M個の第2のレーザビー ムのうち対応する1つを透過し、前記M個の第2のレーザビームの他のすべてを 反射し、前記生成する手段はさらに、 前記M個の第2のレーザビームの偏光面を回転させるための回転手段と、 前記M個の第1およびM個の第2レーザビームを前記第2の光路に結合するこ とによって2M個の偏光結合されたレーザビームを生成するために、前記第1お よび第2の光路の交点に配置される偏光手段とを含み、 前記ファイバ結合手段は前記2M個の偏光結合したレーザビームを集光して前 記N個のレーザビームの対応する1つを生成する、 請求項14に記載のダイオードレーザシステム。 20.前記ファイバ結合装置が、前記2M個の偏光結合されたレーザビームを受 け、それを前記光ファイバ手段の1つに結合することによって前記N個の出力ビ ームの対応する1つを生成するための変換レンズを含む、請求項19に記載のダ イオードレーザシステム。 21.高エネルギのレーザビームを生成する方法であって、 (a) M番目の波長を有するP個のコリメートされたレーザビームを生成す るステップと、 (b) M個の異なる波長を有するM×P個のコリメートされたレーザビーム を生成するように、ステップ(a)をM回繰返すステップと、 (c) 前記M×P個のコリメートされたレーザビームを光路に結合するステ ップと、 (d) 前記M×P個のコリメートされたレーザビームをi番目の光ファイバ 中に結合することにより対応するi番目の出力レーザビームを生成し、i=1か らMであるステップと、 (e) (a)から(d)のステップをN回繰返すことによりN個の出力レー ザビームを生成するステップと、 (f) 前記N個の出力レーザビームを再コリメートしてN個の再コリメート されたレーザビームを生成するステップと、 (g) 前記N個の再コリメートされたレーザビームを一点上で焦点合わせを するステップとを含み、 M、NおよびPは2以上の整数である、方法。 22.ステップ(c)が前記M×P個のコリメートされたレーザビームを前記光 路中にダイクロイック結合するステップを含む、請求項21に記載の方法。 23.ステップ(c)が、前記M×P個のコリメートされたレーザビームを前記 光路中にダイクロイック結合および偏光結合するステップを含む、請求項21に 記載の方法。 24.ステップ(c)が前記M×P個のコリメートされたレーザビームを前記光 路中に偏光結合するステップを含む、請求項21に記載の方法。
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