JP2013504206A - スピンウェーハ検査システムのための、動的に合焦・指向・形成される傾斜レーザー照射を生成および計測するための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】焦点の移動は、ビーム方向入射角度を変化させて焦点スポットをウェーハ表面上に置くことにより、行われる。単一のモジュールに集約された、自動的ビーム形成(すなわちスポットサイズ)および指向を実施するためのシステムおよび方法が本明細書において開示される。モニタからのフィードバックを用いて、修正を実施するために十分な解像度を有するビーム位置/サイズ/形状および角度を計測するための方法システムも開示される。
【選択図】図3
Description
Claims (20)
- ウェーハ表面を検査するスピンウェーハ検査システムであって、高周波オートフォーカス機構を備えるスピンウェーハ検査システム。
- 前記オートフォーカス機構は、前記ウェーハ表面上に入射するレーザービームであって焦点スポットを有するレーザービーム、の入射角を動的に変化させることによって、前記ウェーハ表面上に前記焦点スポットを導くと共に維持する手段を備える、請求項1に記載の検査システム。
- 請求項2に記載の検査システムであって、
前記ウェーハ表面上に入射するレーザービームであって焦点スポットを有するレーザービーム、の入射角を動的に変化させることによって、前記ウェーハ表面上に前記焦点スポットを導くと共に維持する前記手段は、動的に傾斜するように構成された小型の光軸オフセットのオートフォーカス(AF)鏡を、前記入射レーザービームの経路に備える、検査システム。 - 前記AF鏡は、高電圧増幅器を有する高剛性ピアゾアクチュエータに取り付けられることによって、動的に傾斜するように構成された、請求項3に記載の検査システム。
- 前記オートフォーカスは、100ms未満の応答時間を達成する、請求項2に記載の検査システム。
- 更に、前記オートフォーカス機構を制御する制御システムを備える請求項2に記載の検査システム。
- 請求項6に記載の検査システムであって、
前記制御システムは、前記ウェーハ表面上に入射するレーザービームの入射角を動的に変化させる前記手段に接続するように構成されると共に、更に、入射ビーム位置感応検出器からのフィードバックを使用するように構成された、検査システム。 - 前記高周波オートフォーカス機構は、前記ウェーハ表面の低周波Z方向運動を生じさせるアクチュエータに結合された、請求項2に記載の検査システム。
- 高周波オートフォーカス機構であって、
スピンウェーハ検査システム上での使用に適応すると共に、
前記ウェーハの表面上に入射するレーザービームであって焦点スポットを有するレーザービーム、の入射角を動的に変化させることによって、前記ウェーハ表面上に前記焦点スポットを導くと共に維持する手段を備える高周波オートフォーカス機構。 - スピンウェーハ検査システムであって、単一のビーム形成/指向モジュールによってビーム形成およびビーム指向を実現するビーム指向・形成機構を備えるスピンウェーハ検査システム。
- 前記ビーム形成/指向モジュールは、前記ビームの位置、角度、サイズおよびスポットサイズの調節を可能にする、請求項10に記載の検査システム。
- 請求項11に記載の検査システムであって、
前記ビーム形成/指向モジュールは、少なくとも第1プリズムおよび第2プリズムを含む少なくとも1つのプリズム群を経由する前記ビームを備え、
前記第1プリズムおよび前記第2プリズムのうちの一方は回転可能であると共に、前記第1プリズムおよび前記第2プリズムのうちの他方は回転可能かつ平行移動可能であり、
前記プリズム群の各々は、ナモルフィックな拡大と、前記ビームのビーム方向/ずれとの両方に対して、1つの方向において影響を与える、請求項11に記載の検査システム。 - 前記少なくとも1つのプリズム群はプリズム対である、請求項12に記載の検査システム。
- 前記少なくとも1つのプリズム群は3つ以上のプリズムを備える、請求項12に記載の検査システム。
- 請求項12に記載の検査システムであって、
前記ビーム形成/指向モジュールは、連続して配置された2つのプリズム群を経由する前記ビームを備え、
前記2つのプリズム群は、互いに対して直交するよう配向され、その結果、前記2つのプリズム群は、アナモルフィックな拡大と、ビーム方向/ずれとの両方に対して、2つの直交する方向において独立的に影響を与える、検査システム。 - ビーム成形/指向モジュールであって、
スピンウェーハ検査システム上で使用に適応すると共に、
少なくとも第1プリズムおよび第2プリズムを含む少なくとも1つのプリズム群を経由する前記ビームを備え、
前記第1プリズムおよび前記第2プリズムのうちの一方は回転可能であると共に、前記第1プリズムおよび前記第2プリズムのうちの他方は回転可能かつ平行移動可能であり、
前記プリズム群の各々は、ナモルフィックな拡大と、前記ビームのビーム方向/ずれとの両方に対して、1つの方向において影響を与える、ビーム成形/指向モジュール。 - 二重検出器モジュールにビーム位置/サイズ・角度計測機構を備えるスピンウェーハ検査システム。
- 請求項17に記載の検査システムであって、
前記ビーム位置/サイズ・角度計測機構は、
前記ビームの1部分を2つの経路に分割する手段と、
前記経路の各々に1つずつ配置された2つのセンサと
を含み、
前記2つのセンサの一方は、前記ビームの傾斜の計測に最適化されると共に、前記2つのセンサの他方は、前記ビームのずれの計測に最適化された、検査システム。 - 請求項18に記載の検査システムであって、
前記ビームの1部分を2つの経路に分割する前記手段は、
前記ビームの第1部分を通過させて漏洩させるように配置された部分反射折り返しミラーと、
前記ビームの前記漏洩した第1部分を前記2つの経路に分割するように配置された無極性ビームスプリッタと
を含む、検査システム。 - 更に、二重検出器モジュールにビーム位置/サイズ・角度計測機構を備える請求項11に記載の検査システム。
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