JP2013501041A5

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Publication number: JP2013501041A5
Application number: JP2012523394A
Authority: JP
Filing date: 2010-08-06
Publication date: 2013-08-22
Anticipated expiration: 2030-08-06

Claims

約８．４９、１１．３８、１３．５８、１４．２４、１４．７４、１６．０１、１７．０３、１７．９３、１８．６０、１９．１５、２１．８０、２２．６２、２２．９２、２３．２９、２５．２９、２５．５７、２６．２３、２７．２９、２８．０７、２８．６１、３０．２４および３１．８３±０．２度の２θ角度を有するピークから選択される少なくとも３つのピークを含むＸＲＰＤパターンを有する、チオトロピウム臭化物無水物。
実質的に図１に示すとおりのＸＲＰＤスペクトルを有する、請求項１に記載のチオトロピウム臭化物無水物。
約２０８℃±２℃および約２２１℃±２℃に吸熱ピークを有するＤＳＣスペクトルを有する、請求項１または２に記載のチオトロピウム臭化物無水物。
実質的に図２に示すとおりのＤＳＣスペクトルを有する、請求項１〜３のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物。
実質的に図３に示すとおりのＴＧＡスペクトルを有する、請求項１〜４のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物。
（ｉ）５％未満のチオトロピウム臭化物のほかの多形、および／または
（ｉｉ）３％未満のチオトロピウム臭化物のほかの多形、および／または
（ｉｉｉ）２％未満のチオトロピウム臭化物のほかの多形、および／または
（ｉｖ）１％未満のチオトロピウム臭化物のほかの多形、および／または
（ｖ）０．５％未満のチオトロピウム臭化物のほかの多形、および／または
（ｖｉ）０．２％未満のチオトロピウム臭化物のほかの多形、および／または
（ｖｉｉ）０．１％未満のチオトロピウム臭化物のほかの多形
を含有する、請求項１〜５のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物。
（ａ）スコピンジ−（２−チエニル）グリコレートの溶液および第１の有機溶媒を提供する工程と、
（ｂ）第２の有機溶媒中の臭化メチルの溶液を前記工程（ａ）からの混合物に加えるか、またはその逆に加える工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）で得られた混合物からチオトロピウム臭化物無水物を単離する工程と、
（ｄ）単離した前記チオトロピウム臭化物無水物を乾燥する工程とを含む、
チオトロピウム臭化物無水物の調製のためのプロセス。
前記第１の有機溶媒はケトンである、請求項７に記載のプロセス。
前記ケトンはアセトンである、請求項８に記載のプロセス。
前記第２の有機溶媒はアセトニトリルである、請求項７〜９のいずれかに記載のプロセス。
乾燥温度は、約４０〜８０℃の間である、請求項７〜１０のいずれかに記載のプロセス。
乾燥温度は約６０℃である、請求項１１に記載のプロセス。
前記チオトロピウム臭化物無水物をさらに精製するための追加のプロセスを含む、請求項７〜１２のいずれかに記載のプロセス。
前記チオトロピウム臭化物をさらに精製するための前記追加のプロセスは、
（ａ）チオトロピウム臭化物無水物の溶液および第３の有機溶媒を提供する工程と、
（ｂ）前記工程（ａ）からの前記溶液に反溶媒として第４の有機溶媒を加える工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）で得られた混合物から精製されたチオトロピウム臭化物無水物を単離する工程と、
（ｄ）単離された、前記精製されたチオトロピウム臭化物無水物を乾燥する工程とを含む、
請求項１３に記載のプロセス。
前記第３の有機溶媒はジメチルスルホキシドである、請求項１４に記載のプロセス。
反溶媒として用いられる前記第４の有機溶媒はケトンである、請求項１４または１５に記載のプロセス。
前記ケトンはアセトンである、請求項１６に記載のプロセス。
乾燥温度は約４０〜８０℃の間である、請求項１４〜１７のいずれかに記載のプロセス。
乾燥温度は約６０℃である、請求項１８に記載のプロセス。
（ａ）チオトロピウム臭化物無水物の溶液および有機溶媒を提供する工程と、
（ｂ）前記工程（ａ）からの前記溶液に反溶媒としてさらなる有機溶媒を加える工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）で得られた混合物から精製されたチオトロピウム臭化物無水物を単離する工程と、
（ｄ）単離された、前記精製されたチオトロピウム臭化物無水物を乾燥する工程とを含む、
チオトロピウム臭化物を精製するプロセス。
前記工程（ａ）で用いる前記有機溶媒はジメチルスルホキシドである、請求項２０に記載のプロセス。
前記工程（ｂ）で反溶媒として用いる前記有機溶媒はケトンである、請求項２０または２１に記載のプロセス。
前記ケトンはアセトンである、請求項２２に記載のプロセス。
乾燥温度は、約４０〜８０℃の間である、請求項２０〜２３のいずれかに記載のプロセス。
乾燥温度は約６０℃である、請求項２４に記載のプロセス。
０．５％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物を含有する、チオトロピウム臭化物無水物。
（ｉ）０．３％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｉｉ）０．２％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｉｉｉ）０．１％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｉｖ）０．０５％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｖ）０．０３％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物
を含有する、請求項２６に記載のチオトロピウム臭化物無水物。
ＨＰＬＣ純度が少なくとも９８％である、チオトロピウム臭化物無水物。
ＨＰＬＣ純度が、
（ｉ）少なくとも９９％、および／または
（ｉｉ）少なくとも９９．５％、および／または
（ｉｉｉ）少なくとも９９．６％、および／または
（ｉｖ）少なくとも９９．７％、および／または
（ｖ）少なくとも９９．８％、および／または
（ｖｉ）少なくとも９９．９％
である、請求項２８に記載のチオトロピウム臭化物無水物。
請求項７〜２５のいずれかに記載のプロセスにより調製される、チオトロピウム臭化物無水物。
（ｉ）約８．４９、１１．３８、１３．５８、１４．２４、１４．７４、１６．０１、１７．０３、１７．９３、１８．６０、１９．１５、２１．８０、２２．６２、２２．９２、２３．２９、２５．２９、２５．５７、２６．２３、２７．２９、２８．０７、２８．６１、３０．２４および３１．８３±０．２度の２θ角度を有するピークから選択される少なくとも３つのピークを含むＸＲＰＤパターン、および／または
（ｉｉ）実質的に図１に示すとおりのＸＲＰＤスペクトル、および／または
（ｉｉｉ）約２０８℃±２℃および約２２１℃±２℃に吸熱ピークを有するＤＳＣスペクトル、および／または
（ｉｖ）実質的に図２に示すとおりのＤＳＣスペクトル、および／または
（ｖ）実質的に図３に示すとおりのＴＧＡスペクトル
を有する、請求項２６〜３０のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物。
請求項７〜２５のいずれかに記載のプロセスにより調製される、請求項１〜６または２６〜２９のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物。
（ｉ）０．５％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｉｉ）０．３％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｉｉｉ）０．２％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｉｖ）０．１％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｖ）０．０５％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物、および／または
（ｖｉ）０．０３％未満のスコピンジ−（２−チエニル）グリコレート不純物
を含有する、請求項１〜６または２８〜３０のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物。
ＨＰＬＣ純度が、
（ｉ）少なくとも９８％、および／または
（ｉｉ）少なくとも９９％、および／または
（ｉｉｉ）少なくとも９９．５％、および／または
（ｉｖ）少なくとも９９．６％、および／または
（ｖ）少なくとも９９．７％、および／または
（ｖｉ）少なくとも９９．８％、および／または
（ｖｉｉ）少なくとも９９．９％
である、請求項１〜６または２６〜２７または３０のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物。
請求項１〜６または２６〜３４のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物の調製のための、請求項７〜２５のいずれかに記載のプロセス。
請求項１〜６または２６〜３４のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物を含有する、医薬組成物。
ドライパウダー吸入器（ＤＰＩ）、水溶液ネブライザーまたは加圧式定量吸入器（ｐＭＤＩ）における使用のための、請求項３６に記載の医薬組成物。
喘息または、慢性気管支炎および気腫を包含するＣＯＰＤなどの呼吸器系疾患の治療のための、請求項３６または３７に記載の医薬組成物。
呼吸器系疾患の治療のための医薬の製造における、請求項１〜６もしくは２６〜３４のいずれかに記載のチオトロピウム臭化物無水物の使用または請求項３６〜３８のいずれかに記載の医薬組成物の使用。
前記呼吸器系疾患は、喘息およびＣＯＰＤを含む、請求項３９に記載の使用。
前記ＣＯＰＤは、慢性気管支炎および気腫を包含する、請求項４０に記載の使用。