JP2013258284A - 走査露光装置、物品の製造方法、アライメント方法および走査露光方法 - Google Patents
走査露光装置、物品の製造方法、アライメント方法および走査露光方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】
複数の第1領域を有する基板の各第1領域に含まれる複数の部分領域を個別に露光する走査露光装置は、前記基板には、各第1領域をショット領域として露光を行う工程を経てパターンが形成されており、前記複数の部分領域は、第1部分領域と第2部分領域とを含み、前記走査露光装置は、各部分領域の露光動作を制御する制御部を含み、前記制御部は、前記第1部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントしながら前記第1部分領域を露光し、前記第2部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板と前記レチクルとをアライメントしながら前記第2部分領域を露光するように露光動作を制御する。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施形態の走査露光装置100について、図1を参照して説明する。図1は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査露光装置(スキャナー)100を示す概略図である。第1実施形態の走査露光装置100は、照明光学系10と、レチクルステージ20と、投影光学系30と、基板ステージ40とを備える。また、第1実施形態の走査露光装置100は、基板の露光動作を制御する制御部50を備えており、第1実施形態において説明する走査露光装置100の露光動作は、制御部50によって制御されているものとする。
本発明の第2実施形態の走査露光装置について説明する。第2実施形態の走査露光装置は、第1実施形態の走査露光装置100と同様に、複数の第1領域を有する基板の各第1領域に含まれる第1部分領域および第2部分領域を個別にAGAを行う。そして、第2実施形態の走査露光装置は、それぞれのAGAの結果に基づいて基板41とレチクル21とをアライメントしながら第1部分領域および第2部分領域をそれぞれ露光する。第2実施形態では、隣接する2つの第1領域46aの間隔と、第1部分領域と第2部分領域との間隔とが異なる場合について、図10を参照して説明する。
本発明の実施形態にかける物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の走査露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (7)
- 複数の第1領域を有する基板の各第1領域に含まれる複数の部分領域を個別に露光する走査露光装置であって、
前記基板には、各第1領域をショット領域として露光を行う工程を経てパターンが形成されており、
前記複数の部分領域は、第1部分領域と第2部分領域とを含み、
前記走査露光装置は、各部分領域の露光動作を制御する制御部を含み、
前記制御部は、
前記第1部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントしながら前記第1部分領域を露光し、
前記第2部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板と前記レチクルとをアライメントしながら前記第2部分領域を露光するように露光動作を制御することを特徴とする走査露光装置。 - 前記制御部は、各部分領域の露光中に前記基板および前記レチクルの移動速度を制御することを特徴とする請求項1に記載の走査露光装置。
- 前記レチクルのパターンを前記基板に投影する投影光学系を更に含み、
前記制御部は、各部分領域の露光中に前記投影光学系の投影倍率を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の走査露光装置。 - 前記制御部は、前記複数の第1部分領域を露光した後に、前記複数の第2部分領域を露光するように露光動作を制御することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の走査露光装置。
- 請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の走査露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 - 複数の第1領域を有する基板の各第1領域に含まれる複数の部分領域を個別に露光する際のアライメント方法であって、
前記基板には、各第1領域をショット領域として露光を行う工程を経てパターンが形成されており、
前記複数の部分領域は、第1部分領域と第2部分領域とを含み、
前記アライメント方法は、
前記第1部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントする工程と、
前記第2部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板と前記レチクルとをアライメントする工程と、
を含むことを特徴とするアライメント方法。 - 複数の第1領域を有する基板の各第1領域に含まれる複数の部分領域を個別に露光する走査露光装置における走査露光方法であって、
前記基板には、各第1領域をショット領域として露光を行う工程を経てパターンが形成されており、
前記複数の部分領域は、第1部分領域と第2部分領域とを含み、
前記走査露光方法は、
前記第1部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントしながら前記第1部分領域を露光する工程と、
複数の前記第2部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントしながら前記第2部分領域を露光する工程と、
を含むことを特徴とする走査露光方法。
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