JP2013254765A - 量子カスケードレーザ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体基板10と、基板10上に設けられ、量子井戸発光層及び注入層からなる単位積層体16が多段に積層されることで発光層と注入層とが交互に積層されたカスケード構造を有し、量子井戸構造でのサブバンド間遷移によって光を生成する活性層15とを備えて量子カスケードレーザ1Aを構成する。また、活性層15で生成される所定波長の光に対するレーザ共振器構造において、互いに対向する第1端面11及び第2端面12のそれぞれの面上に、CeO2絶縁膜21、31、及び反射制御膜20、30を順に形成する。
【選択図】 図1
Description
ここで、rp、rsは入射面での偏光(p偏光、s偏光)に対する測定試料の反射係数である。分光エリプソメトリーは、この複素比ρを波長の関数として測定する。
ここで、φは光の入射角である。入射角を変えて何点か(例えば3点)の測定を行い、入射角の変化によって光路長が変わっても同時に関係式を満足するようにフィッティングを行うことにより、膜厚に依存することなく、測定試料の屈折率n、消衰係数kを精度良く求めることができる。
nd=qλ/4 (q=1,3,5,…)
n=(n0nm)1/2
となる。この2式はそれぞれ、波長と膜厚の関係、及び屈折率の関係を示している。
1C〜1E…量子カスケードレーザ、20c…反射防止膜、30c…高反射膜、20d…反射防止膜、30d…反射防止膜、20e…反射防止膜、30e…高反射膜、21c、21d、21e、31c、31d、31e…絶縁膜、61…回折格子ミラー、62…反射ミラー、71…下部クラッド層、72…下部ガイド層、73…上部ガイド層、74…上部クラッド層、75…回折格子構造、
50…InP基板、51…InP下部クラッド層、52…InGaAs下部ガイド層、53…InGaAs上部ガイド層、54…InP上部クラッド層、55…InGaAsコンタクト層。
Claims (8)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられ、量子井戸発光層及び注入層からなる単位積層体が多段に積層されることで前記量子井戸発光層と前記注入層とが交互に積層されたカスケード構造を有し、量子井戸構造でのサブバンド間遷移によって光を生成する活性層とを備え、
前記活性層で生成される所定波長の光に対するレーザ共振器構造において、互いに対向する第1端面及び第2端面の少なくとも一方の面上に、CeO2絶縁膜、及び反射制御膜が順に形成されていることを特徴とする量子カスケードレーザ。 - 前記反射制御膜は、それぞれ所定の材料からなる低屈折率膜と、高屈折率膜とが積層された多層膜であることを特徴とする請求項1記載の量子カスケードレーザ。
- 前記CeO2絶縁膜は、前記反射制御膜に含まれており、前記多層膜における前記低屈折率膜として機能することを特徴とする請求項2記載の量子カスケードレーザ。
- 前記多層膜における前記高屈折率膜は、Ge膜であることを特徴とする請求項2または3記載の量子カスケードレーザ。
- 前記反射制御膜は、金属膜を含んで構成されていることを特徴とする請求項1記載の量子カスケードレーザ。
- 前記反射制御膜は、前記所定波長の光に対する反射防止膜、または前記所定波長の光を所定の反射率で反射する反射膜であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載の量子カスケードレーザ。
- 前記レーザ共振器構造は、前記第1端面に第1反射制御膜として前記反射防止膜が形成され、前記第2端面に第2反射制御膜として前記反射膜が形成されて、外部共振器型に構成されていることを特徴とする請求項6記載の量子カスケードレーザ。
- 前記レーザ共振器構造は、前記第1端面に第1反射制御膜として前記反射防止膜が形成され、前記第2端面に第2反射制御膜として前記反射防止膜が形成されて、分布帰還型に構成されていることを特徴とする請求項6記載の量子カスケードレーザ。
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