JP2013251542A - 製造ツールのレシピを生成する方法及びそのシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本方法は、1つ又はそれ以上のダイの内部の周期的サブアレイを特徴付けるデータを取得すると候補ステッチを生成することと、少なくとも周期性基準を満たす周期性特性によって特徴付けられる1つ又はそれ以上の候補ステッチを識別し、それにより候補ステッチの中で周期的ステッチを識別することと、識別された周期的ステッチと周期的サブアレイとを、自動レシピ作成に用いるための周期的アレイに統合することと、を含む。
【選択図】図4
Description
−1つ又はそれ以上のダイの内部の周期的サブアレイを特徴付けるデータを取得すると候補ステッチを生成することと、
−少なくとも周期性基準を満たす周期性特徴によって特徴付けられる1つ又はそれ以上の候補ステッチを識別して、それにより候補ステッチの中で周期的ステッチを識別することと、
−識別された周期的ステッチと周期的サブアレイとを、自動レシピ生成のために用いられる周期的アレイに統合することと、
を実行させる機械命令を格納する。
(Xm,Yn)=(Xo,Yo)+(m*StepX,n*StepY)、ここで、(Xm,Yn)及び(Xo,Yo)は、上記の矩形区域の座標系におけるそれぞれのアンカー点の座標であり、m=0,1,...,M−1、n=0,1,...,N−1であり、反復度パラメータStepX及びStepYは正の定数であり、対応してX及びY方向における周期性値を表す。
−それぞれの隣接する矩形間のX方向の距離(520)が距離閾値より小さいこと、
−共通長さ(521)と、それぞれの隣接する矩形(513、514)のどちらの長さ(523、522)との間の比も、ステッチ方向の隣接するサブアレイ間の重なりを特徴付ける共通比の閾値を越えること、
−それぞれの隣接する矩形のどちらの長さと共通長さとの間の差も、不整合閾値より小さくなること、である。ここで不整合閾値は、ステッチ方向において隣接する2つのサブアレイの座標の最大許容差を特徴付ける。
−周期的ステッチ内部の周期的断片の数が、断片化閾値(特定の実施形態においては3に等しく設定される)より小さく、
−各断片のY方向のサイズが断片サイズ閾値より小さくない。
Claims (15)
- 製造ツールのためのレシピを作成するコンピュータ実施の方法であって、
1つ又はそれ以上のダイの内部の周期的サブアレイを特徴付けるデータを取得すると、候補ステッチを生成するステップと、
少なくとも周期性基準を満たす周期性特性によって特徴付けられる1つ又はそれ以上の候補ステッチを識別し、それにより前記候補ステッチの中で周期的ステッチを識別するステップと、
前記識別された周期的ステッチと前記周期的サブアレイとを、自動レシピ作成に用いるための周期的アレイに統合するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記候補ステッチを生成するステップは、
近接基準に適合し、かつ、選択された方向における両立可能な周期性によって特徴付けられる、隣接する周期的サブアレイの対を識別するステップと、
前記識別された隣接する周期的サブアレイの各々の対に対して、それぞれの候補ステッチ区域を定める矩形を生成するステップと、
を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 周期的サブアレイの対は、C1及びC2をそれぞれ所与の方向における前記周期的サブアレイを特徴付ける周期性値として、max{C1,C2}がmin{C1,C2}で割り切れる場合に、前記所与の方向における両立可能な周期性によって特徴付けられることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 周期的サブアレイの対は、所与の方向における前記サブアレイを特徴付ける周期性値の最小公倍数が所定の閾値より小さい場合に、前記所与の方向において両立可能な周期性によって特徴付けられることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 候補ステッチは、乗数Kを正の整数とし、LCMを所与の方向おけるそれぞれの隣接する周期的サブアレイを特徴付ける周期性値の最小公倍数として、周期性値Cs=K*LCMによって前記所与の方向において特徴付けられる場合に、前記周期性基準を満たすことを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記候補ステッチの中で周期的ステッチを識別するステップは、前記候補ステッチ区域内で、前記周期性基準を満たす1つ又はそれ以上の周期的断片を識別するステップを含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記候補ステッチの中で周期的ステッチを識別するステップは、断片化基準を満たす周期的ステッチを識別するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前記周期的アレイに統合するステップは、
前記識別された各々の対の中の前記サブアレイを連結して、連結サブアレイにするステップと、
1つ又はそれ以上のサブアレイ及びそれらの間のステッチを含む最大周期的グループであって、前記グループ内の隣接するサブアレイのあらゆる対がそれらの間に周期的ステッチを有する連結されたサブアレイであり、それらすべてのサブアレイが前記グループに含まれることで特徴付けられる最大周期的グループを生成するステップと、
1つ又はそれ以上の重ならない均一化最大周期的グループを取得するステップと、
同じ前記均一化最大周期的グループに属するサブアレイ及び周期的ステッチを単一の統合周期的アレイに統合し、このアレイに、それぞれの前記グループを特徴付ける前記周期性値を割り当てるステップと、
を含むことを特徴とする、請求項2に記載の方法。 - 製造ツールのためのレシピの作成に関連して用いるためのコンピュータ化システムであって、
プロセッサと、
前記プロセッサによってアクセス可能なメモリと、
を備え、
前記メモリは、前記プロセッサに、以下の機能、即ち
1つ又はそれ以上のダイの内部の周期的サブアレイを特徴付けるデータを取得すると、候補ステッチを生成することと、
少なくとも周期性基準を満たす周期性特性によって特徴付けられる1つ又はそれ以上の候補ステッチを識別し、それにより前記候補ステッチの中で周期的ステッチを識別することと、
前記識別された周期的ステッチと前記周期的サブアレイとを、自動レシピ作成に用いるための周期的アレイに統合することと、
を実行させる機械命令を格納する、
ことを特徴とするシステム。 - 前記候補ステッチを生成することは、
近接基準に適合し、かつ、選択された方向における両立可能な周期性によって特徴付けられる、隣接する周期的サブアレイの対を識別することと、
前記識別された隣接する周期的サブアレイの各々の対に対して、それぞれの候補ステッチ区域を定める矩形を生成することと、
を含むことを特徴とする、請求項9に記載のシステム。 - 前記候補ステッチの中で周期的ステッチを識別することは、前記候補ステッチ区域内で、前記周期性基準を満たす1つ又はそれ以上の周期的断片を識別することを含むことを特徴とする、請求項9に記載のシステム。
- 前記候補ステッチの中で周期的ステッチを識別することは、断片化基準を満たす周期的ステッチを識別することをさらに含むことを特徴とする、請求項12に記載のシステム。
- 周期的ステッチは、前記周期的ステッチ内の周期的断片の数が断片化閾値より小さく、各断片のそれぞれの方向におけるサイズが断片サイズ閾値より小さくない場合に、断片化基準を満たすことを特徴とする、請求項17に記載のシステム。
- 前記周期的アレイに統合することは、
前記識別された各々の対の中の前記サブアレイを連結して、連結サブアレイにすることと、
1つ又はそれ以上のサブアレイ及びそれらの間のステッチを含む最大周期的グループであって、前記グループ内の隣接するサブアレイのあらゆる対がそれらに間に周期的ステッチを有する連結されたサブアレイであり、それらすべてのサブアレイが前記グループに含まれることを特徴とする最大周期的グループを生成することと、
1つ又はそれ以上の重ならない均一化最大周期的グループを取得することと、
同じ前記均一化最大周期的グループに属するサブアレイ及び周期的ステッチを単一の統合周期的アレイに統合し、このアレイに、それぞれの前記グループを特徴付ける前記周期性値を割り当てることと、
を含むことを特徴とする、請求項10に記載のシステム。 - 処理システムによって実行されるとき、前記処理システムに、
1つ又はそれ以上のダイの内部の周期的サブアレイを特徴付けるデータを取得したときに、候補ステッチを生成するステップと、
少なくとも周期性基準を満たす周期性特性によって特徴付けられる1つ又はそれ以上の候補ステッチを識別し、それにより前記候補ステッチの中で周期的ステッチを識別するステップと、
前記識別された周期的ステッチと前記周期的サブアレイとを、自動レシピ作成に用いるための周期的アレイに統合するステップと、
を含む方法を実行させる命令を含むことを特徴とする、非一時的コンピュータ可読媒体。
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Families Citing this family (6)
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US20220230314A1 (en) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Intelligent pattern recognition systems for wire bonding and other electronic component packaging equipment, and related methods |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013062508A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Applied Materials Israel Ltd | 製造ツールのレシピを生成する方法及びそのシステム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US6486066B2 (en) * | 2001-02-02 | 2002-11-26 | Matrix Semiconductor, Inc. | Method of generating integrated circuit feature layout for improved chemical mechanical polishing |
US6886153B1 (en) * | 2001-12-21 | 2005-04-26 | Kla-Tencor Corporation | Design driven inspection or measurement for semiconductor using recipe |
JP4868727B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2012-02-01 | 株式会社東芝 | 自動検査レシピ作成装置及び作成方法 |
US7869643B2 (en) * | 2007-01-31 | 2011-01-11 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Advanced cell-to-cell inspection |
KR100924338B1 (ko) * | 2007-06-25 | 2009-11-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | 선형 패턴 어레이 형성 방법, 이에 따른 반도체 소자 및이에 사용되는 포토 마스크 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013062508A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Applied Materials Israel Ltd | 製造ツールのレシピを生成する方法及びそのシステム |
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