JP2013229470A - 半導体装置及びそのレイアウト方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】配線層L1においてY方向に延在する配線VL1と、配線層L2においてX方向に延在する配線VL2と、これらの交差領域VL1a,VL2aに設けられた複数の導体プラグTH1を備える。配線VL1の配線幅は交差領域VL1aにおいて局所的に拡大され、配線VL2の配線幅は交差領域VL2aにおいて局所的に拡大されている。これにより交差領域VL1a,VL2aの面積が拡大されることからより多くの導体プラグTH1を配置することができ、その結果、メッシュ状に構築された配線の抵抗を低減することが可能となる。
【選択図】図10
Description
c1=(a+b1)/2
に設定される。これにより、X方向に隣接する2つの拡幅パターンEP1が干渉することはなく、しかも、その間隔は第1のレイヤにおける最小間隔b1となる。次に、図25に示すように、第2のパターンP2と干渉する部分における第1の拡幅パターンEP1を削除し、これにより第1の拡幅パターンEP1を第2の拡幅パターンEP2に変形する(ステップS43)。本工程においては、第1の実施形態と同様、第2のパターンP2と直接干渉する部分のみならず、第2のパターンP2を最小間隔b1だけ拡大した領域と干渉する部分を第1の拡幅パターンEP1から削除する。
c2=(a+b2)/2
に設定される。次に、図27に示すように、第4のパターンP4と干渉する部分における第3の拡幅パターンEP3を削除し、これにより第3の拡幅パターンEP3を第4の拡幅パターンEP4に変形する(ステップS53)。第2のレイヤにおいても、第3のパターンP3から分離された孤立パターンPaや、線幅が最小線幅未満であるエラーパターンPbが発生した場合、除去される(ステップS54)。
10 パッド領域
12 配線部分
20 論理回路形成領域
30 半導体基板
31〜33 層間絶縁膜
B 境界線
EP1〜EP4 拡幅パターン
G ゲート配線層
L0〜L8 配線層
L10,L11,L20,L21 離間距離
Lmin1,Lmin2 最小加工寸法
P1〜P4 パターン
Pa 孤立パターン
Pb エラーパターン
R1〜R3 抵抗
RON オン抵抗
S1,S2 信号配線
SC,SC1,SC2 スタンダードセル
SD ソース/ドレイン領域
SL,SL1〜SL3,VL,VL1〜VL3 電源幹線
SL1a,SL2a,VL1a,VL2a 交差領域
SP,VP 電源パッド
STI 素子分離領域
TH1〜TH7,TH11〜TH17 導体プラグ
TR トランジスタ
VL1a1,VL2a1 主領域
VL1a2,VL2a2 拡幅領域
VL1b,VL2b 非交差領域
XA,XAS,XAS1,XAS2,XAV,XAV1,XAV2,XP 交差領域
x1,x2,y1,y2 辺
Claims (20)
- 半導体基板の主面上に形成された第1の配線層と、
前記第1の配線層において第1の方向に沿って延在する第1の配線と、
前記第1の配線層において前記第1の配線に沿って前記第1の配線の隣に延在する第2の配線と、
前記第1の配線層上に形成された第2の配線層と、
前記第2の配線層において前記第1の方向と交差する第2の方向に延在する第3の配線と、
前記第2の配線層において前記第3の配線に沿って前記第3の配線の隣に延在する第4の配線と、
前記第1の配線層と前記第2の配線層との間に形成された層間絶縁層と、
前記層間絶縁膜を貫通して設けられた導体プラグと、を備え、
前記第1の配線は、前記第3の配線と平面的に重なる第1の交差領域と、前記第3の配線と平面的に重ならない第1の非交差領域とを有し、
前記第3の配線は、前記第1の配線と平面的に重なる第2の交差領域と、前記第1の配線と平面的に重ならない第2の非交差領域とを有し、
前記導体プラグは、前記第1の交差領域と前記第2の交差領域との間に配置され、
前記第1の交差領域と前記第2の配線との離間距離は、前記第1の非交差領域と前記第2の配線との離間距離よりも小さく、
前記第2の交差領域と前記第4の配線との離間距離は、前記第2の非交差領域と前記第4の配線との離間距離よりも小さいことを特徴とする半導体装置。 - 前記第1の交差領域は、前記第1の非交差領域の前記第1の方向における延長線上に位置する第1の主領域と、前記第1の非交差領域の前記第1の方向における延長線上とは異なる部分に位置する第1の拡幅領域とを含み、
前記導体プラグの少なくとも一部は、前記第1の拡幅領域に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第2の交差領域は、前記第2の非交差領域の前記第2の方向における延長線上に位置する第2の主領域と、前記第2の非交差領域の前記第2の方向における延長線上とは異なる部分に位置する第2の拡幅領域とを含み、
前記導体プラグの少なくとも一部は、前記第1の拡幅領域と前記第2の拡幅領域とを接続することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。 - 前記第1の配線層に形成された複数の第5の配線をさらに備え、
前記第1の交差領域と前記第2の配線との離間距離は、前記複数の第5の配線間における最小離間距離と等しいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記第2の配線層に形成された複数の第6の配線をさらに備え、
前記第2の交差領域と前記第4の配線との離間距離は、前記複数の第6の配線間における最小離間距離と等しいことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。 - 前記第1及び第3の配線はいずれも電源幹線であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記第2及び第4の配線はいずれも信号配線であることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板上に形成された複数のスタンダードセルと、複数の前記第1の配線をさらに備え、
前記複数の第1の配線の前記第2の方向における配線ピッチは、前記複数のスタンダードセルの前記第2の方向における幅と等しいことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記導体プラグが複数個設けられていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 第1の配線層に形成され、第1の方向に延在する第1の配線と、
前記第1の配線層とは異なる第2の配線層に形成され、前記第1の方向と交差する第2の方向に延在する第3の配線と、
前記第1の配線と前記第3の配線を電気的に接続する複数の導体プラグと、を備え、
前記第1の配線は、前記第3の配線と平面的に重なる第1の交差領域と、前記第3の配線と平面的に重ならない第1の非交差領域とを有し、
前記第3の配線は、前記第1の配線と平面的に重なる第2の交差領域と、前記第1の配線と平面的に重ならない第2の非交差領域とを有し、
前記第1の交差領域は、前記第1の非交差領域の前記第1の方向における延長線上に位置する第1の主領域と、前記第1の非交差領域の前記第1の方向における延長線上とは異なる部分に位置する第1の拡幅領域とを含み、
前記第2の交差領域は、前記第2の非交差領域の前記第2の方向における延長線上に位置する第2の主領域と、前記第2の非交差領域の前記第2の方向における延長線上とは異なる部分に位置する第2の拡幅領域とを含み、
前記複数の導体プラグは、一端が前記第1の主領域に接続され他端が前記第2の主領域に接続された第1の導体プラグと、一端が前記第1の拡幅領域に接続され他端が前記第2の拡幅領域に接続された第2の導体プラグとを含むことを特徴とする半導体装置。 - 前記複数の導体プラグは、一端が前記第1の主領域に接続され他端が前記第2の拡幅領域に接続された第3の導体プラグをさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の半導体装置。
- 前記複数の導体プラグは、一端が前記第1の拡幅領域に接続され他端が前記第2の主幅領域に接続された第4の導体プラグをさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の半導体装置。
- 第1の方向に延在して配置される複数の第1のパターン、および、前記第1の方向に延在し、前記複数の第1のパターンの間に配置される複数の第2のパターンを第1のレイヤに配置する工程と、
前記第1の方向と交差する第2の方向に延在して配置される第3のパターンを第2のレイヤに配置する工程と、
前記第1および第2のレイヤを重ねた際に、前記複数の第1のパターンのうち前記第3のパターンと平面的に重なる領域である第1の交差領域を抽出する工程と、
前記第1の交差領域のうち前記第1の方向に沿う一辺を、それと最も近い他の前記第1のパターンの一辺から、前記複数の第2のパターンのうち最も近接した距離である最近接距離だけ後退させた位置まで広げることで、第1の拡幅パターンを規定する工程と、
前記第1の拡幅パターンから、前記複数の第2のパターンを前記最近接距離の分だけ拡げた領域と重なる領域を省くことで、第2の拡幅パターンを規定する工程と、
前記第1のレイヤにおいて、前記複数の第1のパターンに前記第2の拡幅パターンを追加する工程と、を有することを特徴とする半導体装置のレイアウト方法。 - 前記第2の方向に延在して配置される複数の前記第3のパターン、および、前記第2の方向に延在し、前記複数の第3のパターンの間に配置される複数の第4のパターンを前記第2のレイヤに配置する工程と、
前記第1および第2のレイヤを重ねた際に、前記複数の第3のパターンのうち前記第1のパターンと平面的に重なる領域である第2の交差領域を抽出する工程と、
前記第2の交差領域のうち前記第2の方向に沿う一辺を、それと最も近い他の前記第3のパターンの一辺から、前記複数の第4のパターンのうち最も近接した距離である最近接距離だけ後退させた位置まで広げることで、第3の拡幅パターンを規定する工程と、
前記第3の拡幅パターンから、前記複数の第4のパターンを前記最近接距離の分だけ拡げた領域と重なる領域を省くことで、第4の拡幅パターンを規定する工程と、
前記第2のレイヤにおいて、前記複数の第3のパターンに前記第4の拡幅パターンを追加する工程と、をさらに有することを特徴とする請求項13に記載の半導体装置のレイアウト方法。 - 前記複数の第1のパターンに前記第2の拡幅パターンを追加する工程においては、前記第2の拡幅パターンのうち、前記第4の拡幅パターンと平面的に重なる領域を前記第1のパターンに追加することを特徴とする請求項14に記載の半導体装置のレイアウト方法。
- 前記第1の拡幅パターンを規定する工程においては、前記第2の方向に沿う一辺を、前記第1の方向に沿う一辺と同じ距離だけ広げることを特徴とする請求項13乃至15のいずれか一項に記載の半導体装置のレイアウト方法。
- 前記第2の拡幅パターンを規定する工程においては、前記第1の交差領域から分離された孤立パターンを除去することを特徴とする請求項13乃至16のいずれか一項に記載の半導体装置のレイアウト方法。
- 前記第2の拡幅パターンと前記第4の拡幅パターンとを接続する複数の導体プラグパターンを配置する工程をさらに備えることを特徴とする請求項15に記載の半導体装置のレイアウト方法。
- 前記第1及び第3のパターンはいずれも電源幹線を構成するパターンであることを特徴とする請求項13乃至18のいずれか一項に記載の半導体装置のレイアウト方法。
- 前記第2のパターンは信号配線を構成するパターンであることを特徴とする請求項19に記載の半導体装置のレイアウト方法。
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