JP2013213802A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013213802A5 JP2013213802A5 JP2012165139A JP2012165139A JP2013213802A5 JP 2013213802 A5 JP2013213802 A5 JP 2013213802A5 JP 2012165139 A JP2012165139 A JP 2012165139A JP 2012165139 A JP2012165139 A JP 2012165139A JP 2013213802 A5 JP2013213802 A5 JP 2013213802A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measurement
- optical system
- interference
- interference optical
- measurement surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 71
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 44
- 230000002452 interceptive Effects 0.000 claims 1
Description
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、計測面で反射した計測光と参照面で反射した参照光とを干渉させて得られる干渉信号から前記計測面を計測する計測装置であって、前記計測面に入射する光を集光する集光レンズを含み、前記計測光と前記参照光とを干渉させる第1干渉光学系と、前記集光レンズの焦点深度の範囲内に前記計測面の上の計測箇所が位置するように、前記集光レンズによって集光される光のフォーカス状態を調整する調整部と、前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で、前記集光レンズの光軸に沿った方向における前記第1干渉光学系の位置を計測するための第2干渉光学系と、を有し、前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で前記第1干渉光学系を介して得られた前記干渉信号と、前記第2干渉光学系を介して計測された前記第1干渉光学系の位置とに基づいて前記計測面を計測する、ことを特徴とする。
Claims (16)
- 計測面で反射した計測光と参照面で反射した参照光とを干渉させて得られる干渉信号から前記計測面を計測する計測装置であって、
前記計測面に入射する光を集光する集光レンズを含み、前記計測光と前記参照光とを干渉させる第1干渉光学系と、
前記集光レンズの焦点深度の範囲内に前記計測面の上の計測箇所が位置するように、前記集光レンズによって集光される光のフォーカス状態を調整する調整部と、
前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で、前記集光レンズの光軸に沿った方向における前記第1干渉光学系の位置を計測するための第2干渉光学系と、を有し、
前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で前記第1干渉光学系を介して得られた前記干渉信号と、前記第2干渉光学系を介して計測された前記第1干渉光学系の位置とに基づいて前記計測面を計測する、
ことを特徴とする計測装置。 - 計測面で反射した計測光と参照面で反射した参照光とを干渉させて得られる干渉信号から前記計測面を計測する計測装置であって、
前記計測面に入射する光を集光する集光レンズを含み、基準面および前記計測面により反射された前記計測光と前記参照光とを干渉させる第1干渉光学系と、
前記集光レンズの焦点深度の範囲内に前記計測面の上の計測箇所が位置するように、前記集光レンズによって集光させる光のフォーカス状態を調整する調整部と、
前記集光レンズによって集光された光が前記計測面の上の複数の計測箇所に順次入射するように、前記第1干渉光学系を位置決めする位置決め機構と、
前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で、前記集光レンズの光軸に沿った方向における前記第1干渉光学系の位置を計測するための第2干渉光学系と、を有し、
前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で前記第1干渉光学系を介して得られた前記干渉信号と、前記第2干渉光学系を介して計測された前記第1干渉光学系の位置とに基づいて前記計測面を計測する、
ことを特徴とする計測装置。 - 前記フォーカス状態を計測する計測部を更に有し、
前記調整部は、前記計測部で計測されたフォーカス状態に基づいて前記フォーカス状態を調整する、ことを特徴とする請求項1または2に記載の計測装置。 - 前記計測面の目標形状を表す形状情報を記憶する記憶部を更に有し、
前記調整部は、前記記憶部に記憶された形状情報に基づいて前記フォーカス状態を調整する、ことを特徴とする請求項1または2に記載の計測装置。 - 前記調整部は、前記集光レンズの光軸に沿った方向に前記集光レンズを移動する駆動部を含む、ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 前記第1干渉光学系を保持するステージを更に有し、
前記調整部は、前記集光レンズの光軸に沿った方向に前記ステージを移動する駆動部を含む、ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の計測装置。 - 前記第1干渉光学系において、光源からの光が基準面及び前記計測面のそれぞれで2回ずつ反射する、ことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 前記第1干渉光学系において、前記集光レンズを通過する光が前記集光レンズの中心部を往復する、ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 前記干渉信号としてのヘテロダイン干渉信号を得るための光源として、波長が互いに異なる2つの光を射出する光源を有する、ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 曲率を有する前記計測面を計測する、ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 前記第2干渉光学系において前記第1干渉光学系の第2計測面で反射された第2計測光と第2参照面で反射された第2参照光とを干渉させて得られる第2干渉信号に基づいて前記第1干渉光学系の位置を計測する、ことを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 前記基準面は、両面ミラー上にあり、
前記基準面とは反対の前記両面ミラー上の面を介して前記第1干渉光学系の位置を計測する、ことを特徴とする請求項2に記載の計測装置。 - 前記計測面の上の複数の計測箇所それぞれに関して得られた前記干渉信号と前記第1干渉光学系の位置とに基づいて前記計測面の形状を得る処理部を有することを特徴とする請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 計測面で反射した計測光と参照面で反射した参照光とを干渉させて得られる干渉信号から前記計測面を計測する計測装置であって、
前記計測面に入射する光を集光する集光レンズを含み、前記計測光と前記参照光とを干渉させる干渉光学系と、
前記集光レンズの焦点深度の範囲内に前記計測面の上の計測箇所が位置するように、前記集光レンズによって集光される光のフォーカス状態を調整する調整部と、
前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で、前記集光レンズの光軸に沿った方向における前記干渉光学系の位置を計測する計測部と、を有し、
前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で前記干渉光学系を介して得られた前記干渉信号と、前記計測部により計測された前記干渉光学系の位置とに基づいて前記計測面を計測する、
ことを特徴とする計測装置。 - 計測面で反射した計測光と参照面で反射した参照光とを干渉させて得られる干渉信号から前記計測面を計測する計測装置であって、
前記計測面に入射する光を集光する集光レンズを含み、基準面および前記計測面により反射された前記計測光と前記参照光とを干渉させる干渉光学系と、
前記集光レンズの焦点深度の範囲内に前記計測面の上の計測箇所が位置するように、前記集光レンズによって集光される光のフォーカス状態を調整する調整部と、
前記集光レンズによって集光された光が前記計測面の上の複数の計測箇所に順次入射するように、前記干渉光学系を位置決めする位置決め機構と、
前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で、前記集光レンズの光軸に沿った方向における前記干渉光学系の位置を計測する計測部と、を有し、
前記調整部により前記フォーカス状態が調整された状態で前記干渉光学系を介して得られた前記干渉信号と、前記計測部により計測された前記干渉光学系の位置とに基づいて前記計測面を計測する、
ことを特徴とする計測装置。 - 前記計測面の上の複数の計測箇所それぞれに関して得られた前記干渉信号と前記干渉光学系の位置とに基づいて前記計測面の形状を得る処理部を有することを特徴とする請求項14又は15に記載の計測装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012165139A JP2013213802A (ja) | 2012-03-09 | 2012-07-25 | 計測装置 |
US13/775,828 US9062967B2 (en) | 2012-03-09 | 2013-02-25 | Measurement apparatus for measuring a surface shape of an object based on an interference signal |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012053686 | 2012-03-09 | ||
JP2012053686 | 2012-03-09 | ||
JP2012165139A JP2013213802A (ja) | 2012-03-09 | 2012-07-25 | 計測装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013213802A JP2013213802A (ja) | 2013-10-17 |
JP2013213802A5 true JP2013213802A5 (ja) | 2015-09-10 |
Family
ID=49113868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012165139A Pending JP2013213802A (ja) | 2012-03-09 | 2012-07-25 | 計測装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9062967B2 (ja) |
JP (1) | JP2013213802A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103983205B (zh) * | 2014-04-30 | 2016-05-04 | 天津大学 | 微阵列型复杂曲面光学元件的复合测量系统与测量方法 |
CN104034264B (zh) * | 2014-06-14 | 2017-02-15 | 哈尔滨工业大学 | 基于可溯源精测尺的半导体激光器测距装置与方法 |
JP2019168339A (ja) * | 2018-03-23 | 2019-10-03 | 株式会社コベルコ科研 | 形状測定装置および該方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4353650A (en) | 1980-06-16 | 1982-10-12 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Laser heterodyne surface profiler |
US5122648A (en) * | 1990-06-01 | 1992-06-16 | Wyko Corporation | Apparatus and method for automatically focusing an interference microscope |
US5784164A (en) * | 1997-03-20 | 1998-07-21 | Zygo Corporation | Method and apparatus for automatically and simultaneously determining best focus and orientation of objects to be measured by broad-band interferometric means |
JP4536873B2 (ja) * | 2000-06-05 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | 三次元形状計測方法及び装置 |
EP1519144A1 (en) * | 2003-09-29 | 2005-03-30 | Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Free-form optical surface measuring apparatus and method |
DE502004002547D1 (de) * | 2004-06-22 | 2007-02-15 | Polytec Gmbh | Vorrichtung zum optischen Vermessen eines Objektes |
JP5025444B2 (ja) * | 2007-12-12 | 2012-09-12 | キヤノン株式会社 | 三次元形状測定装置 |
-
2012
- 2012-07-25 JP JP2012165139A patent/JP2013213802A/ja active Pending
-
2013
- 2013-02-25 US US13/775,828 patent/US9062967B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6044315B2 (ja) | 変位計測方法および変位計測装置 | |
RU2015117776A (ru) | Спектроскопическое измерительное устройство | |
WO2012096847A3 (en) | Apparatus for euv imaging and methods of using same | |
JP2013003333A5 (ja) | ||
JP2010169496A5 (ja) | ||
WO2012141544A3 (ko) | Tsv 측정용 간섭계 및 이를 이용한 측정방법 | |
JP2012058068A5 (ja) | ||
EP2048543A3 (en) | An optical focus sensor, an inspection apparatus and a lithographic apparatus | |
JP2013092402A5 (ja) | ||
EA201291288A1 (ru) | Способ и устройство измерения оптических характеристик оптически изменяемой маркировки, нанесенной на объект | |
TW201211497A (en) | Displacement detecting device | |
JP2015049204A5 (ja) | ||
JP2013213802A5 (ja) | ||
JP2011227372A5 (ja) | ||
JP2014509910A5 (ja) | ||
JP2015152405A5 (ja) | ||
JP2016512383A5 (ja) | ||
JP5133614B2 (ja) | 3次元形状測定システム | |
JP6485498B2 (ja) | 全反射顕微鏡及び全反射顕微鏡の調整方法 | |
JP2018533014A5 (ja) | ||
KR20170078200A (ko) | 높은 단차 측정을 위한 이중 가간섭 백색광 주사 간섭계 | |
RU2012135405A (ru) | Двухфотонный сканирующий микроскоп с автоматической точной фокусировкой изображения и способ автоматической точной фокусировки изображения | |
JP2013036991A5 (ja) | ||
RU2491504C2 (ru) | Способ определения радиуса кривизны вогнутой оптической сферической поверхности методом оптической дальнометрии | |
JP2018054454A5 (ja) |