JP2013192357A - 電気機器の巻線体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】鉄心11と鉄心11に素線2を巻き回して構成したコイル12とを備えた電気機器の巻線体1において、コイル12は、素線2が撥液剤により撥液加工された上層部と、撥液加工されていない下層部とを有し、コイル12全体が絶縁ワニス6によって含浸加工されている。
【選択図】図1
Description
一方、浸漬含浸法や、真空含浸法では、絶縁ワニスの表面張力による毛細管現象に加え、絶縁ワニスの静水圧がかかることによりコイル中への絶縁ワニスの浸透が促進されるのに対し、滴下含浸法では、主として毛細管現象のみにより絶縁ワニスをコイル中へ浸透させるため、前記2つの絶縁ワニス含浸法に比べて絶縁ワニスの浸透性が低くなる。
これにより、巻線間に空隙が残留することにより、絶縁性能の低下や放熱性能の低下が起こる場合がある。
そこで、コイルへ絶縁ワニスを滴下しているときに、固定子を振動子で加振して、コイル中の空気層を除去し絶縁ワニスの浸透を促進する方法(例えば、特許文献1)や滴下時に固定子をコアの中心軸を水平に対し5°〜20°傾けて保持し、傾斜上部のコイル端に絶縁ワニスを滴下して、絶縁ワニスを流動させて浸透を促進する方法(例えば、特許文献2)などが提案されている。
集中巻線法では分布巻線法より高密度な巻線が可能であり、回転電機の高効率化が可能である。
一方で、下層巻線とその上に順次巻かれる上層巻線の整列性に差を生じやすく、このようなコイルに絶縁ワニスを滴下した場合、上層巻線中の絶縁ワニスの浸透速度V1と下層巻線中の絶縁ワニスの浸透速度V2の間にV1>V2となる差を生じる。
この浸透速度の差によって、コイルの中心部まで絶縁ワニスが充分浸透する前に、上層の巻線部から絶縁ワニスが外部に溢れ出し、下層巻線に空隙が残留してコイルの絶縁性能や放熱性を低下させる課題があった。
このような課題に対し、特許文献1の絶縁ワニス含浸方法では、滴下中に固定子を加振しコイル中の空気層を除去するため空隙の残留の可能性は低くなるが、振動は絶縁ワニスの表面張力に影響を与えるわけではないので、V1とV2の速度均一化は見込めず、下層巻線中に空隙が残留する可能性がある。
また、特許文献2の絶縁ワニス含浸方法では、絶縁ワニスが流動することにより絶縁ワニスの浸透速度が増大するため、絶縁ワニスの浸透は促進されるが、やはりV1とV2の速度均一化は見込めず、下層巻線中に依然として空隙が残留する可能性がある。
鉄心と鉄心に巻装されたコイルとを備えた電気機器の巻線体において、
コイルは、素線が撥液剤により撥液加工された上層部と、撥液加工されていない下層部とを有し、
コイル全体が絶縁ワニスによって含浸加工されているものである。
鉄心に素線を巻き回してコイルを巻装するコイル巻装工程と、
コイルを巻装した巻線体を所定の温度に予熱する予熱工程と、
予熱工程を終えた巻線体のコイルの表層から所定の層まで撥液剤を含浸させる撥液剤含浸工程と、
撥液剤含浸工程の後、絶縁ワニスをコイル全体に含浸させる絶縁ワニス含浸工程とを備えたものである。
鉄心と鉄心に巻装されたコイルとを備えた電気機器の巻線体において、
コイルは、素線が撥液剤により撥液加工された上層部と、撥液加工されていない下層部とを有し、
コイル全体が絶縁ワニスによって含浸加工されているものなので、
十分な量の絶縁ワニスをコイルに均一に充填でき、絶縁性能、放熱性能に優れた電気機器の巻線体を提供できる。
鉄心に素線を巻き回してコイルを巻装するコイル巻装工程と、
コイルを巻装した巻線体を所定の温度に予熱する予熱工程と、
予熱工程を終えた巻線体のコイルの表層から所定の層まで撥液剤を含浸させる撥液剤含浸工程と、
撥液剤含浸工程の後、絶縁ワニスをコイル全体に含浸させる絶縁ワニス含浸工程とを備えたものなので、
上層巻線中の絶縁ワニスの浸透速度が低下し、下層巻線中の浸透速度との均一化が図れる。
これによりコイルの全体に絶縁ワニスを充分に浸透させることができ、絶縁性能、放熱性能に優れた電気機器の巻線体を提供できる。
以下、本発明の実施の形態1に係る電気器機の巻線体とその製造方法を、図を用いて説明する。
図1は、この発明の実施の形態1に係る電気器機の巻線体1の形成工程を示す模式図である。
巻線体1は、鉄心11とコイル12により構成されている。
コイル12は、エナメル線やポリエステルイミド銅線などからなる素線2を鉄心11に複数層巻き回して形成されている。
図1に示す方法によって形成されたコイル12は、素線2に吸着した水分及び素線2の巻回し時に発生した被覆層の歪を除去するために、摂氏100度以上の温度で予備加熱(予熱)された後、撥液剤含浸処理及び絶縁ワニス含浸処理を施される。
図に示すように、鉄心11の中心に近い側に巻き回された下層巻線12aは、俵積状に整列性良く巻線されているのに対し、上層巻線12bは、やや整列性が崩れている。
図3は、図2に示すコイル12に、絶縁ワニスを滴下した場合の浸透速度の上層巻線12bの部分と、下層巻線12aの部分による違いを示す模式図である。
l=(r×γ×cosθ×t/(2×η))0.5
l:浸透深さ、r:巻線間隙間、γ:絶縁ワニスの表面張力、θ:接触角、t:浸透時間、η:絶縁ワニスの粘度
図に示すように、コイル12内を下方に浸透する絶縁ワニス6の最下端部は、素線2との間で次々とメニスカス4を形成する。
図4(b)は、コイル12に浸透する絶縁ワニス6と素線2との接触角θ1の関係を示す図である。
ここで、接触角θ1は、絶縁ワニス6のメニスカス最下端部41での素線2の接線と、絶縁ワニス6のメニスカス4の最下端部の接線がなす角度となる。
従って、単位時間当たりの浸透深さlを比較すると、整列性の低い上層巻線12bに比べ、整列性の高い下層巻線12aの方がlは小さくなる。
即ち、上層巻線12b中の絶縁ワニス6の浸透速度V1と、下層巻線12a中の絶縁ワニス6の浸透速度V2の間にはV1>V2となる関係がある。
予熱工程において、100℃以上に昇温された巻線体1に対し、撥液剤滴下ノズル51を通して撥液剤5を滴下してコイル12の上層部に撥液剤5を浸透させた後、絶縁ワニス滴下ノズル61を通して絶縁ワニス6を滴下してコイル12の全体に浸透させる。
図6は、撥液剤5を滴下した後の撥液剤5の浸透範囲を示す図である。
図6では、撥液剤5が付着した上層巻線12bを示すために、素線2を細く示しているが実際には線径は変わらない。
図7は、絶縁ワニス6を滴下した後の絶縁ワニス6の浸透速度を示す模式図である。
図6に示すように、撥液剤5は、溶媒の沸点が予め温度調節されたコイル12の温度より低いため、下層巻線12aへ達する前に溶媒がすぐに蒸発する。
これにより、撥液成分が上層巻線12bの表面に固着し、上層巻線12bの表面のみを撥液処理する。
撥液処理された上層巻線12bでは、前述のルーカスウォッシュバーンの式中の接触角θが、絶縁ワニス6の濡れ性の低下によって増大してθ2となる。
これにより、単位時間当たりの浸透深さlが減少する。
この結果、図7に示すように、上層巻線12b中の絶縁ワニス6の浸透速度V1’は撥液処理しない場合の浸透速度V1より低下し、下層巻線12a中の絶縁ワニス6の浸透速度V2との差が小さくなって、V1、V1’、V2の間には、V1>V1’≒V2という関係が成立する。
これにより、下層巻線12aに絶縁ワニス6が充分浸透するまでに、上層巻線12bから絶縁ワニス6が溢れ出すようなことがなく、下層巻線12aにまで十分に絶縁ワニス6が浸透し、下層巻線12aの間に空隙が残留することを防止することができる。
この結果、コイル12の絶縁性能や放熱性を向上することができる。
まず、鉄心1に線径1.05mmの素線2を巻き回し、占積率87%のコイル12を形成する。
次に、巻線体1を素線2の被覆層のガラス転移温度以上である150℃の熱風乾燥炉内で2時間予熱し、130℃に温度調整したコイル12にシリコン系の撥液剤5Aを、1コイル当たり1g滴下(以下、撥液剤含浸工程と呼称する)する。
次に、撥液剤5Aの溶媒が蒸発した後、絶縁ワニス6を1コイルあたり2g滴下(以下、ワニス含浸工程と呼称する)する。
その後、170℃の熱風乾燥炉内で2時間加熱して絶縁ワニス6を硬化させ含浸処理されたコイル12を得る。
尚、使用したシリコン系の撥液剤5Aの沸点は60℃である。
撥液剤含浸工程において、撥液剤5としてフッ素系の撥液剤5Cを1g滴下した以外は、適用例Aと同じ工程を行って、絶縁ワニス6で含浸処理されたコイルを得た。尚、使用したフッ素系の撥液剤Cの沸点は45℃である。
撥液剤含浸工程を実施せず、絶縁ワニス含浸工程において、絶縁ワニス6を2g滴下したコイル12を用意した。
誘電正接の測定条件は、電源をAC2500V、60Hzとし、総研電気株式会社製のtanδ測定機であるDAC−ASM−7で測定した。
鉄心11にヒートシンク7を取り付けた状態で、コイル12に交流電源8よりAC100V、60Hzの電圧を印加し抵抗計9で初期及び1時間通電後のコイル12の抵抗測定を行い、JIS−C4203より下式に従って巻線の温度上昇を求めた。
T=T2−Tα=(R2/R1−1)×(235+T1)+(T1−Tα) [℃]
T:巻線の温度上昇値、T1:初期抵抗測定時の巻線温度、T2:試験後の巻線温度
Tα:試験後の室温、 R1:初期抵抗、 R2:試験後の抵抗
表1に各測定結果をまとめる。
これは、適用例A、適用例Bにおいては、絶縁ワニス6の滴下含浸時に絶縁ワニス6が下層巻線12aまで浸透し、コイル12の中心部まで絶縁ワニス6が充分充填されているのに対し、比較例においては、絶縁ワニス6が充分に浸透せず下層巻線12aの間に空隙が残留して、コイル12と鉄心11の間で漏れ電流が増大していることを示している。
これは、適用例A、適用例Bでは、コイル12の中心部まで絶縁ワニス6が充分充填され、コイル12で発生したジュール熱を鉄心11に効率良く熱伝達できているのに対し、比較例においては、下層巻線12aの間及び下層巻線12aと鉄心11の間に空隙があり、コイル12から鉄心11への熱伝達を阻害していることを示している。
V1,V1’,V2 浸透速度速度、2 素線、4 メニスカス、
5,5A,5C 撥液剤、51 撥液剤滴下ノズル、6 絶縁ワニス、
61 絶縁ワニス滴下ノズル、7 ヒートシンク、8 交流電源、9 抵抗計、
θ,θ2 接触角。
Claims (4)
- 鉄心と前記鉄心に巻装されたコイルとを備えた電気機器の巻線体において、
前記コイルは、素線が撥液剤により撥液加工された上層部と、撥液加工されていない下層部とを有し、
前記コイル全体が絶縁ワニスによって含浸加工されている電気機器の巻線体。 - 前記撥液剤は、シリコン系又はフッ素系の撥液剤である請求項1に記載の電気機器の巻線体。
- 鉄心に素線を巻き回してコイルを巻装するコイル巻装工程と、
前記コイルを巻装した巻線体を所定の温度に予熱する予熱工程と、
予熱工程を終えた前記巻線体の前記コイルの表層から所定の層まで撥液剤を含浸させる撥液剤含浸工程と、
前記撥液剤含浸工程の後、絶縁ワニスを前記コイル全体に含浸させる絶縁ワニス含浸工程とを備えた電気機器の巻線体の製造方法。 - 前記予熱工程における予熱温度は、前記撥液剤含浸工程で使用する前記撥液剤の溶媒の沸点より高く設定されている請求項3に記載の電気機器の巻線体の製造方法。
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