JP2013190268A5 - Ｘ線光学装置の調整方法 - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、本発明は、Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置の調整方法であって、
前記Ｘ線源が、前記入口にＸ線が入射するときの視射角が臨界角を超える位置にあるときに、前記各Ｘ線通路から出射されたＸ線の強度を検出し、前記検出されたＸ線の強度に基づいて、前記Ｘ線源と前記Ｘ線反射構造体の相対位置を調整することを特徴とするＸ線光学装置の調整方法を提供するものである。

本発明における平行化原理の概念図である。 本発明に用いるＸ線反射構造体の一例を示す図である。 石英基板のＸ線反射率を示すグラフである。 本発明に用いるＸ線反射構造体の他の一例を示す図である。 本発明のＸ線光学装置の調整方法のフローチャートである。 本発明に係るＸ線光学装置の一例を示す図である。 光源中心位置とＸ線強度との関係、光源中心位置と半影量との関係を示すグラフである。 光源中心位置とＸ線強度の一次微分係数との関係を示すグラフである。 光源中心位置とＸ線強度の二次微分係数との関係を示すグラフである。 従来技術の光学素子を示す図である。

まず、本発明に用いるＸ線反射構造体（以下、「スリットレンズ」という。）によるＸ線の平行化原理について、本発明をＸ線撮影装置に適用した場合で説明する。

次に、本発明のＸ線光学装置の調整方法の好適な実施形態を示す。

ここで、光源サイズｓを１００μｍとした場合のＸ線源１とスリットレンズ３の相対位置のアライメントについて考える。図５に本発明のＸ線光学装置の調整方法のフローチャートを、図６（ａ）に本発明に係るＸ線光学装置の一例を、図６（ｂ）に図６（ａ）の光源位置駆動機構２１の一例を示す。１はＸ線源、２１は光源位置駆動機構、３はスリットレンズ、４はＸ線検出器である。光源位置駆動機構２１は図６（ｂ）に示すように、透過型ターゲット２５に照射する電子線２３を電場により偏向することで光源位置２８を変化させる。電子線源２２、電子線２３を収束させる電子レンズ２４（レンズ電極）、Ｘ線発生用の透過型ターゲット２５、電子線２３を偏向する偏向器２６、これらが真空容器２７の中に配置されている。電子線源２２から引き出された電子は電子レンズ２４により収束され、電子線２３として透過型ターゲット２５に入射する。透過型ターゲット２５に電子線２３が入射すると、電子線２３が入射した面の反対側の面からＸ線が放射される。よって、透過型ターゲット２５に電子線２３が入射した位置が光源位置２８となる。この際、偏向器２６により、ｙ方向に電子線２３を曲げることで、透過型ターゲット２５に入射する電子線２３の位置がｙ方向に移動し、光源位置２８をｙ方向に移動させることができる。このようなＸ線源１を使用することで、偏向器２６への電気的な操作で光源位置２８をスキャンすることができる。

Claims (7)

1. Ｘ線源と、
   間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、を備え、
   前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置の調整方法であって、
   前記Ｘ線源が、前記入口にＸ線が入射するときの視射角が臨界角を超える位置にあるときに、前記各Ｘ線通路から出射されたＸ線の強度を検出し、前記検出されたＸ線の強度に基づいて、前記Ｘ線源と前記Ｘ線反射構造体の相対位置を調整することを特徴とするＸ線光学装置の調整方法。
2. 前記Ｘ線反射構造体の位置を固定し、前記Ｘ線の強度を前記Ｘ線源の位置の関数としたとき、前記Ｘ線の強度が等しくなるときの前記Ｘ線源の位置をそれぞれ、ｙ１、ｙ２とすると、ｙ１とｙ２の平均位置に前記Ｘ線源の位置を移動させることを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置の調整方法。
3. 前記Ｘ線反射構造体の位置を固定し、前記Ｘ線の強度を前記Ｘ線源の位置の関数としたとき、前記関数の一次微分係数を求め、前記一次微分係数が最大、最小となるときの前記Ｘ線源の位置をそれぞれ、ｙ１、ｙ２とすると、ｙ１とｙ２の平均位置に前記Ｘ線源の位置を移動させることを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置の調整方法。
4. 前記Ｘ線反射構造体の位置を固定し、前記Ｘ線の強度を前記Ｘ線源の位置の関数としたとき、前記関数の二次微分係数を求め、前記二次微分係数がピークとなるときの前記Ｘ線源の位置をそれぞれ、ｙ１、ｙ２とすると、ｙ１とｙ２の平均位置に前記Ｘ線源の位置を移動させることを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置の調整方法。
5. 前記Ｘ線源内の電子線を偏向することで前記相対位置を変化させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＸ線光学装置の調整方法。
6. 前記Ｘ線源を移動させることで前記相対位置を変化させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＸ線光学装置の調整方法。
7. 前記Ｘ線反射構造体を移動させることで前記相対位置を変化させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＸ線光学装置の調整方法。