JP2013185986A - 蛍光x線分析装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】試料台に密着した試料の測定もプリント基板など試料台に密着が困難な試料の測定も測定条件にスペーサの有無あるいはスペーサの種類を設定するだけで簡略かつ正確に測定することが可能となる蛍光X線分析装置を提供する。
【解決手段】試料面が試料台11と平行にすべく試料と試料台11の間にスペーサ15を配置し、スペーサ15を使用したときのX線照射位置、X線強度と不使用時の照射位置、X線強度を記憶しておき、実際の分析時にスペーサ15の使用状況に対応した照射位置、X線強度を測定目標マーカの表示や定量計算時に利用する。
【選択図】図1

Description

本発明は、蛍光X線分析装置に関する。
汎用型の蛍光X線分析装置は試料を試料台上に密着した状態で、試料を観察するためのカメラの視野の中心に向けて斜め下方向からX線を試料に照射し、発生した蛍光X線を反対側に設置した検出器により測定する構造が知られている(特許文献1参照)。
近年の分析要求の多様性から試料中の異物など微小部分を測定する要求がある。その場合も通常、カメラ視野の中心に測定マーカを表示し、測定マーカに異物などの微小部分が一致するように試料を移動すればカメラ視野の中心とX線照射位置は一致しているので目的の測定が可能となる。
しかし、プリント基板に部品が実装されている試料を測定する場合は、試料台に試料の測定面を密着させることができないため、通常測定のX線管とカメラの位置設定ではカメラ視野の中心とX線照射位置が一致しなくなる。
また、プリント基板の測定面に部品が実装されている試料を試料台上に設置した場合は、プリント基板は試料台と平行でなく、測定場所によりカメラ視野の中心とX線照射位置とのずれ量が異なる。
特開2009−2795号公報
試料台に密着していない試料を測定するとき、X線照射位置と試料観察用カメラの中心がずれているので、実際の測定位置を誤認する問題がある。試料台と平行でない測定面では測定場所によりずれ量が異なり、さらに大きな問題となる。また、X線管から試料のX線照射位置までの距離が変われば試料への照射強度が変わり分析結果に影響を及ぼす。
X線を試料の斜め下方から照射し、試料台と試料の間にスペーサを配置することにより一次X線光路長を変化させることが可能な蛍光X線分析装置において、試料台と試料の間に設置するスペーサの種類あるいはスペーサの有無に対応した実際のX線照射位置をあらかじめ記憶しておく。
試料台とプリント基板が平行になるように試料台とプリント基板の間にスペーサを設置する。ユーザーは現在使用しているスペーサの種類を入力装置から入力する。その情報に従い、スペーサの種類あるいは有無に応じて実際のX線照射位置と一致するように測定マーカの位置を切り替えて表示させる。
前記のユーザーによる入力によらず、自動的にスペーサの種類を判別できる機構を設けてより簡便に、実際のX線照射位置と一致するように測定マーカの位置を切り替えて表示させてもよい。
試料台と試料の間に設置するスペーサの種類あるいは有無に対応した蛍光X線基準強度をあらかじめ記憶しておく。ユーザーは現在使用しているスペーサの種類を入力装置から入力する。その情報に従い、スペーサの種類に応じた蛍光X線基準強度とスペーサが無い時の蛍光X線基準強度の関係により補正して正確な定量結果を算出する。
前記のユーザーによる入力によらず、自動的にスペーサの種類を判別できる機構を設けてより簡便に、正確な定量計算してもよい。
本発明は通常の試料台に密着した試料の測定もプリント基板など試料台に密着が困難な試料の測定も測定条件にスペーサの有無あるいはスペーサの種類を設定するだけで簡略かつ正確に測定することが可能となる蛍光X線分析装置を提供できる。
本発明の一実施例に係る蛍光X線分析装置の概略構成図。 同実施例に係る蛍光X線分析装置の実際の使用状況を説明するための図。 同実施例に係る蛍光X線分析装置において試料画像上に測定目標マーカを重畳表示した状態を示す図。 同実施例に係る蛍光X線分析装置のスペーサ種類の認識機構を説明するための図。
X線を試料の斜め下方から照射し、X線源と試料の間にスペーサを配置することにより一次X線光路長を変化させることが可能な蛍光X線分析装置に係わる本発明の実施例を図を使用して以下に詳細に説明する。
図1は本実施例に係わる蛍光X線分析装置の概略構成図である。X線管12から放出されたX線をコリメータ30によって所定の径に絞って蛍光板40或いは標準試料板39または試料25(図2参照)に照射し、そこで発生した蛍光X線を検出器13で検出する。試料の下方に配置した試料観察カメラ14により測定部の撮像ができる。これらは通常X線遮蔽筐体10の内部に収容され、X線の外部への漏洩を防止している。
検出器13からの信号は信号処理部16でデジタル処理され中央制御部19に送られる。試料観察カメラ14からの信号は画像生成部17で画像処理され中央制御部19に送られる。入力部18は通常はキーボードでユーザーからの入力情報は中央制御部19に送られる。中央制御部19は各部からの情報を基に演算し、情報と演算結果を記憶部に記憶する。また、中央制御部19はあらかじめ作成してある測定目標マーカ31(図3参照)のグラフィック情報と画像生成部17からの試料画像情報をあわせて表示部20に表示する。
長さが異なる数種類のスペーサを用意し、その長さに対応してスペーサ番号を付しておく。たとえば、スペーサ長さが0mm(スペーサなし)をS0、長さが5mmのものをS1、10mmのものをS2と定めておく。
図1に示すように、X線遮蔽筐体10内の試料台11と蛍光板40の間に用意したスペーサ15を複数個挿入した状態で、X線管12から放出されたX線をコリメータ30によって所定の径に絞って照射し、蛍光板が蛍光発光した像を試料観察カメラで撮像し、使用したスペーサ長さが5mmなら蛍光位置をS1位置、10mmならS2位置の名称で記憶部21に記憶する。
試料台11に密着した状態の蛍光板40に、上記と同じ状態のX線を照射し、蛍光板が蛍光発光した像を試料観察カメラ14で撮像し蛍光位置をS0位置の名称で記憶部21に記憶する。
図2に示すとおり、実際の試料25たとえば部品実装されたプリント基板と試料台11との間に試料25と試料台11を平行にすべくスペーサ15を配置して、蛍光X線分析を実施する。その際、使用したスペーサの番号を分析条件として図1に示す入力部18から入力する。たとえば、使用したスペーサ長さが5mmならS1と入力する。
中央制御部19のソフトウエアにより、分析条件のスペーサ番号に応じてあらかじめ記憶部21に記憶していたスペーサ番号位置に測定目標マーカ31を試料画像に重畳して図3に示すように表示部20に表示させる。
図4はスペーサの種類を認識する機構の例を説明する図でスペーサの断面、試料台の断面と認識スイッチを示す。スペーサに種類により異なる位置の突起部を設け、スペーサの突起部が嵌め込めるように試料台に穴を穿っておく。スペーサが試料台に嵌め込まれたとき、スペーサの突起部により作動するように認識スイッチを試料台の下部に設置する。
たとえば、スペーサA41を嵌め込んだときは認識スイッチA43が、スペーサB42を嵌め込んだときは認識スイッチB44が作動する。スイッチの情報は中央制御部19に送られ、入力部からの入力情報と同様にスペーサの種類の情報として扱われる。前記スペーサ番号を入力する代わりに図4に示すようなスペーサの種類の認識機構を設置すればより簡便に目的を達成できる。
実施例1と同様に長さが異なる数種類のスペーサを用意し、その長さに対応してスペーサ番号を付しておく。
試料台11と標準試料板39の間に用意した長さのスペーサ15を挿入した状態で、X線管12から放出されたX線をコリメータ30によって所定の径に絞って照射し、そのとき検出器13で測定した蛍光X線基準強度を使用したスペーサ種類に対応させS1強度、S2強度の名称で記憶部21に記憶する。
試料台11に密着した状態の標準試料板に、上記と同じ状態のX線を照射し、その際検出器13で測定した蛍光X線基準強度をS0強度の名称で記憶部21に記憶する。
実際の試料25たとえば部品実装されたプリント基板と試料台11との間に試料25と試料台11を平行にすべくスペーサ15を配置して、蛍光X線分析を実施する。その際、使用したスペーサの番号を分析条件として入力部18から入力する。たとえば、使用したスペーサ長さが5mmならS1と入力する。
実際の試料の定量計算時には、中央制御部19のソフトウエアにより、スペーサ番号に応じてあらかじめ記憶部21に記憶していた蛍光X線基準強度とS0強度の関係によりスペーサ設置によるX線光路長変化の影響を補正し、正確な定量結果を算出する。たとえば、スペーサ番号1を使用している場合は、測定結果に(S0強度/S1強度)を乗じたものがスペーサ設置によるX線光路長変化の影響を補正した正確な定量結果となる。
前記スペーサ番号を入力する代わりに図4に示すようなスペーサの種類の認識機構を設置すればより簡便に目的を達成できる。
10 X線遮蔽筐体
11 試料台
12 X線管
13 検出器
14 試料観察カメラ
15 スペーサ
16 信号処理部
17 画像生成部
18 入力部
19 中央制御部
20 表示部
21 記憶部
25 試料(部品が実装されたプリント基板)
30 コリメータ
31 測定目標マーカ
39 標準試料板
40 蛍光板
41 スペーサA
42 スペーサB
43 認識スイッチA
44 認識スイッチB

Claims (4)

  1. X線を試料の斜め下方から照射し、試料台と試料の間にスペーサを配置することにより一次X線光路長を変化させることが可能な蛍光X線分析装置において、前記スペーサの種類に対応した一次X線の試料への照射位置を記憶する手段と、前記スペーサの種類をユーザーが指定するための入力手段と、前記試料の被分析面を撮像する撮像手段と、現在指定されているスペーサの種類に対応した一次X線の照射位置を示すマーカを前記撮像手段によって撮像された試料画像上に重畳して表示する表示手段を備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。
  2. X線を試料の斜め下方から照射し、試料台と試料の間にスペーサを配置することにより一次X線光路長を変化させることが可能な蛍光X線分析装置において、前記スペーサの種類を識別する手段と、前記スペーサの種類に対応した一次X線の照射位置を記憶する手段と、前記試料の被分析面を撮像する撮像手段と、現在使用されているスペーサの種類に対応した一次X線の照射位置を示すマーカを前記撮像手段によって撮像された試料画像上に重畳して表示する表示手段を備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。
  3. X線を試料の斜め下方から照射し、試料台と試料の間にスペーサを配置することにより一次X線光路長を変化させることが可能な蛍光X線分析装置において、前記スペーサの種類に対応した蛍光X線基準強度を記憶する手段と、前記スペーサの種類をユーザーが指定するための入力手段と、現在指定されているスペーサ種類に対応した蛍光X線基準強度に基づいて定量計算する演算手段を備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。
  4. X線を試料の斜め下方から照射し、試料台と試料の間にスペーサを配置することにより一次X線光路長を変化させることが可能な蛍光X線分析装置において、前記スペーサの種類を識別する手段と、前記スペーサの種類に対応した蛍光X線基準強度を記憶する手段と、現在使用されているスペーサの種類に対応した蛍光X線基準強度に基づいて定量計算する演算手段を備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106645231A (zh) * 2016-12-27 2017-05-10 中国科学院山西煤炭化学研究所 一种光程连续可调的催化剂动态结构原位表征装置及应用
WO2018110254A1 (ja) * 2016-12-15 2018-06-21 株式会社堀場製作所 放射線検出装置及びコンピュータプログラム
JP2018115921A (ja) * 2017-01-17 2018-07-26 東芝Itコントロールシステム株式会社 X線検査装置
JP2021012054A (ja) * 2019-07-04 2021-02-04 日本電子株式会社 蛍光x線分析装置及びその校正方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6459044A (en) * 1987-08-28 1989-03-06 Shimadzu Corp X-ray analyzer
JPH04331349A (ja) * 1991-05-03 1992-11-19 Horiba Ltd 蛍光x線分析装置
JP2000193615A (ja) * 1998-12-25 2000-07-14 Shimadzu Corp 蛍光x線分析装置
JP2006329944A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 蛍光x線分析装置
JP2009002795A (ja) * 2007-06-21 2009-01-08 Shimadzu Corp 蛍光x線分析装置
JP2010071969A (ja) * 2008-08-22 2010-04-02 Sii Nanotechnology Inc X線分析装置及びx線分析方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6459044A (en) * 1987-08-28 1989-03-06 Shimadzu Corp X-ray analyzer
JPH04331349A (ja) * 1991-05-03 1992-11-19 Horiba Ltd 蛍光x線分析装置
JP2000193615A (ja) * 1998-12-25 2000-07-14 Shimadzu Corp 蛍光x線分析装置
JP2006329944A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 蛍光x線分析装置
JP2009002795A (ja) * 2007-06-21 2009-01-08 Shimadzu Corp 蛍光x線分析装置
JP2010071969A (ja) * 2008-08-22 2010-04-02 Sii Nanotechnology Inc X線分析装置及びx線分析方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018110254A1 (ja) * 2016-12-15 2018-06-21 株式会社堀場製作所 放射線検出装置及びコンピュータプログラム
JPWO2018110254A1 (ja) * 2016-12-15 2019-10-24 株式会社堀場製作所 放射線検出装置及びコンピュータプログラム
US11125703B2 (en) 2016-12-15 2021-09-21 Horiba, Ltd. Radiation detection device and computer program
CN106645231A (zh) * 2016-12-27 2017-05-10 中国科学院山西煤炭化学研究所 一种光程连续可调的催化剂动态结构原位表征装置及应用
JP2018115921A (ja) * 2017-01-17 2018-07-26 東芝Itコントロールシステム株式会社 X線検査装置
JP2021012054A (ja) * 2019-07-04 2021-02-04 日本電子株式会社 蛍光x線分析装置及びその校正方法

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