JP2013185232A - 銅合金材及び銅合金材の製造方法 - Google Patents

銅合金材及び銅合金材の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】導電性を維持しつつ、良好な耐軟化特性を安定して実現できるとともに、高い強度を有する銅合金材及び銅合金材の製造方法を得る。
【解決手段】少なくとも、Feを0.05〜0.5質量%、Niを0.05〜0.5質量%、及びPを0.02〜0.2質量%含有し、Fe及びNiの合計とPとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10であり、FeとNiとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2である。
【選択図】なし

Description

本発明は、銅合金材及び銅合金材の製造方法に関し、特に優れた耐軟化特性を有するとともに、高強度及び高導電性を有する銅合金材及び銅合金材の製造方法に関する。
従来より、例えば半導体リードフレームやコネクタ端子等の電気・電子部品の材料等として、銅合金材が幅広く用いられている。特に、半導体リードフレームの材料として、銅合金材は有効性が高い材料である。従って、以下では、銅合金材が半導体リードフレーム材料に用いられる場合について説明する。
半導体リードフレーム(以下、リードフレームとも言う。)に用いられる銅合金材として、例えばFeとPとを含有するCu−Fe−P系の銅合金が広く一般的に用いられている。代表的(標準的)なCu−Fe−P系の銅合金として、例えば、Feを0.05〜0.15質量%、Pを0.025〜0.04質量%含有する銅合金(C19210)や、Feを2.1〜2.6質量%、Pを0.015〜0.15質量%、Znを0.05〜0.20質量%含有する銅合金(C19400)等が広く知られている。これらの銅合金を用いて形成された銅合金材は、熱処理を施し、銅(Cu)の母相中にFeあるいはFe−P化合物を析出させることで、強度及び導電性が同時に向上するという特徴を有する。なお、これらのCu−Fe−P系の銅合金の引張強さは、400〜500MPa程度である。
近年、ICチップ等の半導体素子を搭載した半導体パッケージ(半導体装置)の小型化・薄型化が進んでおり、リードフレームにも薄型化が要求されている。従って、リードフレームの材料として用いられる銅合金材には、より厚さが薄く、より高い強度を有することが要求されている。
また、上述のような銅合金材を用いたリードフレームは、一般的に、銅合金材に金型を用いた打ち抜き加工を施すことで製造される。近年、半導体素子の多ピン化が進んでいるため、打ち抜き加工後の銅合金材(リードフレーム)に歪みが生じやすく、また、ピンに反り等が生じることでピンが不揃いになりやすい傾向がある。すなわち、ピンの変形が生じやすい場合がある。従って、打ち抜き加工で生じた歪み等を改善する目的で、打ち抜き加工後の銅合金材(リードフレーム)に熱処理(歪み取り焼鈍)を施して歪みを除去することが行われている。
しかしながら、打ち抜き加工後に熱処理(歪み取り焼鈍)が行われると、銅合金材の強度が熱処理前に比べて低下する場合がある。このため、例えば、半導体パッケージの組立工程や、半導体素子の実装工程等において、リードフレームのピンの変形が生じる場合がある。このような打ち抜き加工後の熱処理による銅合金材の強度の低下は、回復と再結晶とにより進行する。回復による強度の低下は、加熱前(歪み取り焼鈍前)の強度に対して10%程度であり、その他の強度の低下は、主に再結晶によって進行する。ここで、回復とは、材料(銅合金)中の転位が合体消滅および再配列することで歪みが軽減する現象であり、比較的低温の熱処理でも進行する。再結晶とは、歪みが残っている元の結晶組織から歪みのない新しい結晶組織へと置き換わっていく現象であり、回復よりも高い温度で進行するため、再結晶は回復よりも大きな強度低下を伴う。ちなみに、本発明で目的とする耐軟化特性は、再結晶が進行しにくい特性ということができる。
また、このような打ち抜き加工後の熱処理(歪み取り焼鈍)は、生産性向上の観点から、高温・短時間で行われることが要求されている。熱処理温度が高くなると、転位を含ま
ない新たな結晶組織が生じる再結晶が進行し、銅合金材の強度が大きく低下する。このため、熱処理が高温で行われる場合にも、耐軟化特性に優れ、高い強度を維持できる銅合金材が強く求められている。
そこで、銅合金材の耐軟化特性を向上させ、熱処理後の銅合金材の強度の低下を抑制するために、例えば、銅合金の材料中に析出する析出物の大きさ及び個数を制御したり、熱処理後の銅合金材の結晶方位を制御したり、Snを多く添加したりすることが提案されている(例えば特許文献1〜3参照)。
特開2002−285261号公報 特開2007−113121号公報 特開2008−31525号公報
しかしながら、Cu−Fe−P系の銅合金を用い、銅合金中に析出する析出物や、銅合金中の結晶方位を制御するだけでは、例えばリードフレームに用いられる銅合金材に要求される耐軟化特性を得ることは難しく、また高い耐軟化特性が得られた場合であっても、高い耐軟化特性を安定して得ることが難しい場合があった。また、Sn等の元素を多量に添加すると、銅合金材の導電性が低下する場合があった。
そこで、本発明は、上述の課題を解決し、導電性を維持しつつ、良好な耐軟化特性を安定して実現できるとともに、高い強度を有する銅合金材及び銅合金材の製造方法を提供することを目的とする。
上述の課題を解決するために、本発明は次のように構成されている。
本発明の第1の態様によれば、少なくとも、Feを0.05〜0.5質量%、Niを0.05〜0.5質量%、及びPを0.02〜0.2質量%含有し、前記Fe及び前記Niの合計と前記Pとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10であり、前記Feと前記Niとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2である銅合金材が提供される。
本発明の第2の態様によれば、前記Fe及び前記Niの合計と前記Pとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜6である第1の態様に記載の銅合金材が提供される。
本発明の第3の態様によれば、Sn、Zn、Ag、Mg、Zrの少なくとも1種の元素を総量で0.03〜1.0質量%含有する第1又は第2の態様に記載の銅合金材が提供される。
本発明の第4の態様によれば、450℃で5分間加熱した後のビッカース硬さが、加熱前のビッカース硬さの90%以上である第1〜第3の態様のいずれかに記載の銅合金材が提供される。
本発明の第5の態様によれば、打ち抜き加工が施された後、前記打ち抜き加工により生じた歪みが加熱して除去される第1〜第4の態様のいずれかに記載の銅合金材が提供される。
本発明の第6の態様によれば、0.05〜0.5質量%のFeと、0.05〜0.5質
量%のNiと、0.02〜0.2質量%のPとを少なくとも含有し、前記Fe及び前記Niの合計と前記Pとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10であり、前記Feと前記Niとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2である銅合金に、熱間圧延を施して板材を形成する工程と、前記板材に冷間圧延を施して生地を形成する工程と、前記生地を加熱して熱処理を行う工程と、を有する銅合金材の製造方法が提供される。
本発明の第7の態様によれば、前記熱処理を行う工程は、550℃以下の温度で行う第6の態様に記載の銅合金材の製造方法が提供される。
本発明によれば、導電性を維持しつつ、良好な耐軟化特性を安定して実現できるとともに、高い強度を有する銅合金材及び銅合金材の製造方法を得ることが可能となる。
以下に、本発明にかかる銅合金材の一実施形態について説明する。
<銅合金材の組成>
本実施形態に係る銅合金材は、銅(Cu)を母材とし、その母材中に、少なくとも、鉄(Fe)を0.05〜0.5質量%、ニッケル(Ni)を0.05〜0.5質量%、及び燐(P)を0.02〜0.2質量%含有し、さらにFe及びNiの合計とPとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10となり、FeとNiとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2なるように、FeとNiとPとが添加された銅合金を用いて形成される。これにより、本実施形態に係る銅合金材は、従来のCu−Fe−P系の銅合金を用いた銅合金材に比べ、導電性(導電率)を維持しながら、優れた耐軟化特性及び高い強度を有する。すなわち、本実施形態に係る銅合金材は、導電性を低下させる銅合金中の固溶元素量を抑えながら、特にNi−P化合物等の析出物の分散による耐軟化特性の向上を効果的に利用することで、良好な耐軟化特性を安定して実現でき、さらに高い強度と良好な導電性とがバランス良く両立したものとなる。
(P、Fe、Ni)
Fe及びNiはそれぞれ、Pと共に母材のCu中に添加することによって、銅合金中で、例えばFeP等のFe−P化合物と、例えばNi等のNi−P化合物とを形成し、分散析出する。Fe−P化合物及びNi−P化合物は、銅合金の良好な導電率を維持しながら、耐軟化特性及び強度を著しく向上させる働きをする。Cu中にFe及びPのみを添加したCu−Fe−P系の銅合金では、良好な耐軟化特性を安定して得ることが難しい場合があり、また、高い強度を得ることが難しい場合がある。Cu中にNi及びPのみを添加したCu−Ni−P系の銅合金では、銅合金材の導電率が低下する場合がある。これに対し、本実施形態のように、Cu中にPと共にFe及びNiを添加することで、銅合金中にFe−P化合物及びNi−P化合物を析出させることができ、良好な耐軟化特性を安定して実現できると共に、高い強度と導電率とをバランス良く両立させることができる。
特に、Ni−P化合物は、銅合金中の転位や格子欠陥の移動等に対する障害物となるため、再結晶の進行を抑制する。従って、銅合金中にNiを添加し、Ni−P化合物を析出させることで、大きな強度低下を伴う再結晶が進行しにくくなり、良好な耐軟化特性を安定して得ることができる。また、銅合金中にNi−P化合物を析出させることで、銅合金材は高い強度を得ることができる。
具体的には、母材のCu中に、Pを0.02〜0.2質量%添加する。Pの添加量が0.02質量%未満であると、銅合金中に、十分な量のFe−P化合物及びNi−P化合物
を析出させることが難しくなり、所望とする耐軟化特性、強度及び導電率を得ることが難しくなる。一方、Pの添加量が0.2質量%を超えると、例えば、銅合金を鋳造する際や、鋳造した材料に熱間圧延等を施し板状に加工する際に、Fe−P化合物やNi−P化合物等のP化合物の偏析に起因する割れが発生しやすくなる。
上述のPの添加量に対して、Fe−P化合物及びNi−P化合物を銅合金中に効果的に析出させるために、母材のCu中に、Feを0.05〜0.5質量%、Niを0.05〜0.5質量%添加する。銅合金中にFe−P化合物を析出させることで、銅合金材の良好な導電率を維持できる。また、Ni−P化合物を析出させることで、良好な耐軟化特性を安定して実現することができるとともに、高い強度を付与することができる。
なお、Feの添加量が0.05質量%未満であると、Fe−P化合物の形成量(析出量)が不十分となり、所望とする導電性を維持することが難しくなる。また、Niの添加量が0.05質量%未満であると、Ni−P化合物の形成量(析出量)が不十分となり、良好な耐軟化特性を安定して実現することが難しく、また所望とする強度を得ることが難しくなる。一方で、Fe及びNiの添加量が0.5質量%を超えると、Fe及びNiの添加量が過剰となり、銅合金中でFe及びNiが余る。このような余剰のFeやNiは、Pとの化合物を形成できず、銅合金中に固溶状態で存在することになり、銅合金材の導電率を低下させる場合がある。
そして、Fe及びNiの合計とPとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10になるように、Fe、Ni、及びPの添加量を調整する。銅合金中のFe及びNiの合計質量がPの質量の3倍未満であると、Pの添加量が過剰となり、銅合金中にPが固溶状態で存在する。一方で、Fe及びNiの合計質量がPの質量の10倍を超えると、Fe及びNiの添加量が過剰となり、銅合金中でFe及びNiが固溶状態で存在する。このように、P、Fe、Ni等の元素が銅合金中に固溶状態で存在すると、銅合金材の導電率が低下する場合がある。好ましくは、(Fe+Ni)/Pが3〜6になるように、Fe、Ni、及びPの添加量を調整すると、銅合金中に固溶状態で存在する元素をより低減でき、銅合金材の導電率の低下をより抑制できる。
さらに、FeとNiとの質量比がFe/Ni=0.8〜1.2になるように、Fe及びNiの添加量を調整する。このように、銅合金中に添加するFeとNiとの配合比率を、ほぼ1対1の比率とすることにより、良好な耐軟化特性をより安定して実現できると共に、高い強度と導電率とをよりバランス良く両立させることができる。
(Sn、Zn、Ag、Mg、Zr)
上述のP、Fe、Niに加えて、さらに錫(Sn)、亜鉛(Zn)、銀(Ag)、マグネシウム(Mg)、ジルコニウム(Zr)の少なくとも1種の元素を、副成分として総量で0.03〜1.0質量%、母材のCu中に添加してもよい。これらの元素は、耐軟化特性の向上に著しく寄与するとともに、銅合金材の強度向上にも寄与する。従って、母材のCu中に、これらの元素が単独もしくは組み合わせて添加されることで、良好な耐軟化特性をより安定して実現させ、さらに高い強度と良好な導電性とをよりバランス良く両立させることができる。これらの元素の総量が0.03質量%未満であると、これらの元素を母材のCu中に添加する効果を得ることが難しい場合がある。一方で、これらの元素の総量が1質量%を超えると、銅合金中に固溶状態で存在する元素が多くなるため、銅合金材の導電性(導電率)が著しく低下してしまう。さらに、鋳造性が悪化する等の問題が顕著になってしまう。
ここで、Snは、少量の添加でも耐軟化特性の向上及び強度の向上に大きく寄与する。Znは、耐軟化特性の向上に寄与するとともに、銅合金材が例えばリードフレームに使用
された場合、リードフレームに要求されるはんだ濡れ性やSnめっき密着性の改善にも大きく寄与する。ただし、Sn及びZnの添加量が多くなると、銅合金材の導電性を低下させてしまう。Ag、Mg、Zrは、耐軟化特性の向上に寄与するとともに、導電性への影響が比較的少なく、良好な導電性を維持できる。ただし、MgやZrの添加量が多すぎると、鋳造性が悪化してしまう。
少なくともFe、Ni及びPの添加量が上述したように設定されることにより、本実施形態に係る銅合金材は、450℃で5分間加熱した後も、加熱前のビッカース硬さの90%以上の硬さを維持できる。本実施形態では、この値を、本願発明が所望とする良好な耐軟化特性を安定して実現できる値とする。
ここで、銅合金材が例えばリードフレームに加工される際、銅合金材に金型を用いた打ち抜き加工が施される。そして、打ち抜き加工後には、打ち抜き加工で生じた歪みを除去する熱処理(歪み取り焼鈍)が行われる。この熱処理(歪み取り焼鈍)は、450℃程度の温度で実施されることが多い。このような熱処理(歪み取り焼鈍)が行われた場合であっても、本実施形態に係る銅合金材は、450℃で5分間加熱した後も、加熱前のビッカース硬さの90%以上を維持でき、大きな強度低下を伴う再結晶が進行しにくく、良好な耐軟化特性を安定して実現できる。その結果、例えば、本実施形態に係る銅合金材がリードフレームに用いられた場合、例えば半導体パッケージの組立工程や、半導体素子の実装工程等において、リードフレームのピンの変形が生じにくくなる。
また、本実施形態に係る銅合金材は、500℃で5分間加熱した後も、加熱前のビッカース硬さの90%以上を維持することも可能である。すなわち、さらに良好な耐軟化特性をより安定して実現することも可能である。
また、本実施形態に係る銅合金材は、上述のように良好な耐軟化特性を安定して実現できることに加え、高い強度と高い導電率とをバランス良く兼ね備えたものとすることができる。すなわち、従来のCu−Fe−P系銅合金材を上回る引張強さ530MPa以上、導電率60%IACS以上、ビッカース硬さHv160以上の特性をバランス良く兼ね備えた銅合金材を得ることが可能である。
<銅合金材の製造方法>
次に、本発明に係る銅合金材の製造方法の一実施形態について説明する。
(銅合金の鋳造工程)
本実施形態に係る銅合金材の製造方法では、まず、上述の組成を有する銅合金を鋳造する。すなわち、0.05〜0.5質量%のFeと、0.05〜0.5質量%のNiと、0.02〜0.2質量%のPとを少なくとも含有し、Fe及びNiの合計とPとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10であり、FeとNiとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2である銅合金を、高周波溶解炉等を用いて溶解し、所定形状のインゴットを鋳造する。このとき、銅合金中には、副成分として、Sn、Zn、Ag、Mg、Zrの少なくとも1種の元素を総量で0.03〜1.0質量%添加してもよい。
(熱間圧延工程)
その後、鋳造したインゴットを加熱して熱間圧延を行い、インゴットを板状に加工し、所定の厚さの銅合金の板材を形成する。ここで、熱間圧延工程では、上述の鋳造工程で析出した、例えばFe−P化合物及びNi−P化合物の析出物を一旦母相中に固溶させることも目的としている。従って、熱間圧延処理は、銅合金中に含まれる元素を固溶させることができるような、高温で行われる。また、熱間圧延終了後は、なるべく速やかに銅合金の板材を冷却するとよい。
(冷間圧延・熱処理工程)
上述の熱間圧延工程が終了した後、熱間圧延で形成された銅合金の板材に、冷間圧延を施して生地を形成する(冷間圧延工程)。そして、この生地を加熱して熱処理(焼鈍)を行う(熱処理工程)。
上述の熱処理工程で行われる熱処理は、550℃以下の温度で行うとよい。これにより、熱処理工程で、銅合金中に形成される例えばNi−P化合物及びFe−P化合物等の析出物の過剰成長を抑制できる。その結果、良好な耐軟化特性を安定して実現できるとともに、高い強度と良好な導電性とがバランスよく両立した銅合金材を得ることができる。
なお、熱処理工程での熱処理を550℃より高い温度で行うと、所望とする耐軟化特性を得難くなる。すなわち、熱処理工程での熱処理の温度が高くなるほど、銅合金中に析出するFe−P化合物及びNi−P化合物等の析出物は、より大きく成長する。Fe−P化合物及びNi−P化合物が過剰成長して数μm程度になると、銅合金中の転位や格子欠陥の移動を妨げる障害物としての効果を得ることが難しくなり、再結晶の進行を抑制することが難しくなる。さらに、そのような大きな析出物は、再結晶の起点になるおそれがあり、却って再結晶の進行を促進させてしまう場合がある。実際に、本発明者達の検討の結果、熱処理の温度を560℃前後にしたときから析出物の成長が進行しはじめ、熱処理の温度を600℃以上にすると、過剰成長した粗大な析出物が見られることが確認されている。
そして、上述の熱間圧延工程で形成した銅合金の板材が最終的に所望とする板厚となるまで、上述の冷間圧延工程と熱処理工程とを所定回数繰り返す。これにより、本実施形態に係る銅合金材が製造される。
(本実施形態にかかる効果)
本実施形態によれば、以下に示す1つまたは複数の効果を奏する。
(a)本実施形態によれば、母材のCu中は、少なくとも、Feを0.05〜0.5質量%、Niを0.05〜0.5質量%、及びPを0.02〜0.2質量%含有している。また、Fe及びNiの合計とPとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10となり、FeとNiとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2となるように、Fe、Ni、及びPの添加量が調整されている。従って、このような銅合金を用いた銅合金材は、良好な耐軟化特性を安定して実現でき、さらに高い強度と良好な導電性とがバランス良く両立したものとなる。
すなわち、母材のCu中に、Pと共にFe及びNiを添加することで、銅合金中に、Fe−P化合物及びNi−P化合物を析出させることができる。Fe−P化合物を析出させることで、銅合金材の良好な導電率を維持できる。また、Ni−P化合物を析出させることで、良好な耐軟化特性を安定して実現できるとともに、高い強度を付与することができる。これにより、良好な耐軟化特性を安定して実現できると共に、高い強度と導電率とをバランス良く両立させることができる。
(b)本実施形態によれば、P、Fe、Niに加えて、さらに副成分としてSn、Zn、Ag、Mg、Zrの少なくとも1種の元素を総量で0.03〜1.0質量%、母材のCu中に添加してもよい。これにより、耐軟化特性を著しく向上させるとともに、強度を向上させることができる。
(c)本実施形態によれば、熱間圧延工程より後の、例えば焼鈍等の熱処理工程では、550℃以下の温度で熱処理を行っている。これにより、銅合金中に形成される例えばNi
−P化合物及びFe−P化合物等の析出物の過剰成長を抑制できる。その結果、良好な耐軟化特性を安定して実現できるとともに、高い強度と良好な導電性とがバランスよく両立した銅合金材を得ることができる。
次に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例1)
実施例1では、無酸素銅(Cu)を母材にして、その母材中に、Feを0.2質量%、Niを0.2質量%、Pを0.1質量%含有した銅合金を用い、高周波溶解炉で溶解し、厚さが25mm、幅が30mm、長さが150mmのインゴットとして鋳造した。その後、インゴットを950℃に加熱して、厚さ8mmまで熱間圧延して板材を形成した。その後、板材を加工度75%で厚さ2mmまで冷間圧延して生地を作成した後、この生地を520℃で1分間焼鈍した。続いて、厚さ2mmの生地を加工度65%で厚さ0.7mmまで冷間圧延した後、520℃で1分間焼鈍した。さらにその後、厚さ0.7mmの生地を加工度64%で厚さ0.25mmまで冷間圧延した後、400℃で1分間焼鈍することにより、銅合金材を作成した。これを実施例1の試料とした。
(実施例2〜11、比較例1〜8)
実施例2〜11及び比較例1〜8では、表1に示す組成の銅合金を用いた。その他は、上述の実施例1と同様にして銅合金材を作製した。これらをそれぞれ、実施例2〜11、及び比較例1〜8の試料とした。
これらの実施例1〜11及び比較例1〜8の銅合金の組成を、まとめて表1に示す。
Figure 2013185232
以上のようにして作製した実施例1〜11及び比較例1〜8の各試料について、引張強さ、導電率、及びビッカース硬さをそれぞれ測定し、また耐軟化特性について評価した。
その結果をまとめて表2に示す。
Figure 2013185232
表2に示すように、実施例1の試料は、引張強さが560MPa、導電率が67%IACS、ビッカース硬さがHv170という、高い強度と高い導電性とがバランス良く両立した銅合金材であることが確認できた。
また、実施例1の試料の耐軟化特性を確認するために、試料を450℃および500℃で5分間加熱し、加熱後のビッカース硬さを測定した。その結果、450℃で5分間加熱した後のビッカース硬さはHv164であり、加熱前の試料のビッカース硬さの96%を維持していることが判った。また、500℃で5分間加熱した後のビッカース硬さはHv156であり、加熱前の試料のビッカース硬さの92%を維持していることが判った。すなわち、実施例1の試料は、450℃及び500℃でそれぞれ加熱した後も、加熱前の試料のビッカース硬さの90%以上であることが確認できた。また、加熱後の試料について結晶組織を確認したところ、加熱前の結晶組織が維持されており、軟化につながる再結晶が起こっていないことを確認した。これにより、実施例1の試料は、優れた耐軟化特性を有することが判った。
同様に、作製した実施例2〜11の各試料のいずれも、引張強さが530MPa以上、導電率が60%IACS以上、ビッカース硬さHv160以上と、高い強度と高い導電率とがバランス良く両立されていることが確認できた。ここで、目標値としては、引張強さは530MPa以上、導電率は60%IACS以上、ビッカース硬さはHv160以上とした。また、耐軟化特性についても、実施例2〜11の各試料は、450℃及び500℃でそれぞれ加熱した後も、加熱前のビッカース硬さの90%以上であることが確認できた。すなわち、実施例2〜11のいずれも、優れた耐軟化特性を有することが判った。ここで、耐軟化特性の目標値としては、450℃及び500℃で加熱した後の試料のビッカー
ス硬さが、加熱前の試料のビッカース硬さの90%以上とした。
他方、それとは対照的に、比較例1〜8の試料では、引張強さ、導電率、ビッカース硬さ、耐軟化特性のうちの、少なくともいずれか1種類の特性が、目標値未満の低いものとなった。
具体的には、Fe、Ni、Pの添加量を上述の実施形態で説明した規定範囲の下限値よりも少なくした比較例1の試料では、導電率は良好であったが、引張強さが458MPaと目標値の530MPaを下回り、ビッカース硬さもHv142と目標値のHv160を下回る結果となり、強度が確保できていないことが確認された。さらに、450℃及び500℃に加熱した後の試料のビッカース硬さが、加熱前の試料のビッカース硬さの90%以上を維持できず、耐軟化特性も不十分であることが確認された。
Fe、Ni、Pの添加量を上述の実施形態で説明した規定範囲の上限値よりも多くした比較例2の試料では、引張強さ及び耐軟化特性は良好であったが、導電率が58%IACSと、目標値の60%IACSを下回る結果となり、導電性が低いことが確認された。
Fe及びNiの合計とPとの質量比(Fe+Ni)/Pが、上述の実施形態で説明した規定範囲の上限値を超える比較例3の試料では、引張強さは目標値を確保することはできたが、比較的低い値となった。また、導電率が48%IACSと目標値を大きく下回る結果となった。また、耐軟化特性も目標値を下回る結果となり、さらに耐軟化特性を示す値は、他の実施例及び比較例と比較しても低い値となった。
Fe及びNiの合計とPとの質量比(Fe+Ni)/Pが、上述の実施形態で説明した規定範囲の下限値より低い比較例4の試料では、引張強さ及び導電率のいずれも目標値を下回る結果となった。また、500℃で加熱した後の試料のビッカース硬さが、加熱前の試料のビッカース硬さの90%以上を維持できず、耐軟化特性も不十分であることが判った。
FeとNiとの質量比(Fe/Ni)が、上述の実施形態で説明した規定範囲の上限値より高い(すなわちFeの比率が高い)比較例5の試料では、導電率は良好であったが、引張強さが520MPaと目標値を下回る結果となった。また、500℃で加熱した後のビッカース硬さが、加熱前の試料のビッカース硬さの90%以上を維持できず、耐軟化特性も不十分であることが判った。
FeとNiとの質量比(Fe/Ni)が、上述の実施形態で説明した規定範囲の下限値より低い比較例6の試料では、引張強さ及び耐軟化特性は良好であったが、導電率が47%IACSと、目標値を大幅に下回る結果となった。
副成分として添加したSnの添加量が上述の実施形態で説明した規定範囲の上限値より多い比較例7の試料、及び、副成分として添加したZnの添加量が上述の実施形態で説明した規定範囲の上限値より多い比較例8の試料ではいずれも、引張強さ及び耐軟化特性は良好であるが、導電率が35%IACS、39%IACSと、目標値の60%IACSを大幅に下回る結果となった。
このような結果から、本発明の実施例に係る銅合金材では、上述の実施形態で説明した組成の好適な設定を採用することにより、良好な耐軟化特性が安定して実現されるとともに、高い強度と良好な導電性とがバランスよく両立されることが確認された。
次に、熱間圧延より後の熱処理(例えば焼鈍等)の温度と、それによって得られる銅合
金材の耐軟化特性との関係について確認するため、実験的に熱処理(焼鈍)温度を種々変更して試料を製造し、それらの耐軟化特性を評価した。
まず、上述の実施例1の試料については、既述のように、鋳造されたインゴットを厚さ8mmまで熱間圧延した後、加工度75%で厚さ2mmまで冷間圧延し、520℃で1分間焼鈍した。その後、加工度65%で厚さ0.7mmまで冷間圧延した後、520℃で1分間焼鈍した。さらにその後、加工度64%で厚さ0.25mmまで冷間圧延した後、400℃で1分間焼鈍することにより、実施例1の試料を作製した。
(実施例12)
実施例1と同様の組成の銅合金を用い、実施例1と同様に、インゴットを鋳造した後、インゴットを950℃に加熱して厚さ8mmまで熱間圧延を行った。そして、加工度75%で厚さ2mmまで冷間圧延し、540℃で1分間焼鈍した。その後、加工度65%で厚さ0.7mmまで冷間圧延した後、540℃で1分間焼鈍した。さらにその後、加工度64%で厚さ0.25mmまで冷間圧延した後、400℃で1分間焼鈍することにより、その他は、上述の実施例1と同様にして銅合金材を作製した。実施例12の試料を作製した。
(比較例9〜11)
比較例9〜11では、表1に示す実施例1と同様の組成の銅合金を用い、実施例1と同様に、インゴットを鋳造した後、インゴットを950℃に加熱して厚さ8mmまで熱間圧延を行った。そして、加工度75%で厚さ2mmまで冷間圧延し、表3に示す熱処理(焼鈍)温度で1分間焼鈍した。その後、加工度65%で厚さ0.7mmまで冷間圧延した後、表3に示す熱処理温度で1分間焼鈍した。さらにその後、加工度64%で厚さ0.25mmまで冷間圧延した後、400℃で1分間焼鈍することにより、比較例9〜11の各試料を作製した。
以上のようにして作製したこれら実施例1、実施例12及び比較例9〜11について、熱処理温度及び、各試料の耐軟化特性を測定した結果を、まとめて表3に示す。
Figure 2013185232
表3に示すように、熱間圧延より後の熱処理(焼鈍)の温度が高くなるほど、耐軟化特性が低下する傾向にあることが判った。すなわち、より高い温度で熱処理(焼鈍)されて作製された試料ほど、450℃で加熱した後も、加熱前のビッカース硬さを維持できることが判った。また、加熱処理前のビッカース硬さも、熱処理(焼鈍)温度が上昇するにしたがって低下する傾向にあることが判った。
より詳細に検討すると、熱間圧延より後の熱処理(焼鈍)の温度を550℃以下とした実施例1及び実施例12の試料は、各試料を450℃で5分間加熱した後も、加熱前の各
試料のビッカース硬さの90%以上を維持していることが確認できた。また、加熱前の各試料のビッカース硬さもそれぞれHv170、Hv168と、高い値であることが確認できた。ここで、加熱前の各試料のビッカース硬さの目標値はHv160以上とした。
これに対し、熱間圧延より後の熱処理(焼鈍)の温度を550℃より高い温度とした比較例9〜11の試料では、ビッカース硬さ又は耐軟化特性の少なくともいずれかが、目標値未満の低いものとなった。
以上の結果から、少なくとも、Feを0.05〜0.5質量%、Niを0.05〜0.5質量%、及びPを0.02〜0.2質量%含有し、Fe及びNiの合計とPとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10であり、FeとNiとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2である銅合金を圧延加工して得た本実施例に係る銅合金材は、引張強さ530MPa以上、導電率60%IACS以上、ビッカース硬さHv160以上という、高い強度及び導電率がバランス良く両立されたものとなることが判った。さらに、このような本発明の実施例に係る銅合金材は、450℃及び500℃で5分間加熱した後も、加熱前のビッカース硬さの90%以上を維持でき、良好な耐軟化特性が得られることが判った。特に、熱間圧延より後の熱処理(例えば焼鈍等)を550℃以下の温度で行うと、より良好な耐軟化特性を安定して実現できることが判った。
このような本発明の実施形態に係る銅合金材は、例えば半導体リードフレームの用途で最適であり、特に薄型パッケージや多ピンパッケージ向けの用途での信頼性向上に大きく寄与することが可能なものである。また、半導体リードフレーム以外にも、例えばコネクタ端子等の電気・電子部品の材料全般において有効に活用でき、それぞれの用途での信頼性向上、製造コスト低減に効果が期待できるものである。

Claims (7)

  1. 少なくとも、Feを0.05〜0.5質量%、Niを0.05〜0.5質量%、及びPを0.02〜0.2質量%含有し、
    前記Fe及び前記Niの合計と前記Pとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10であり、
    前記Feと前記Niとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2である
    ことを特徴とする銅合金材。
  2. 前記Fe及び前記Niの合計と前記Pとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜6である
    ことを特徴とする請求項1に記載の銅合金材。
  3. Sn、Zn、Ag、Mg、Zrの少なくとも1種の元素を総量で0.03〜1.0質量%含有する
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の銅合金材。
  4. 450℃で5分間加熱した後のビッカース硬さが、加熱前のビッカース硬さの90%以上である
    ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の銅合金材。
  5. 打ち抜き加工が施された後、前記打ち抜き加工により生じた歪みが加熱して除去されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の銅合金材。
  6. 0.05〜0.5質量%のFeと、0.05〜0.5質量%のNiと、0.02〜0.2質量%のPとを少なくとも含有し、前記Fe及び前記Niの合計と前記Pとの質量比(Fe+Ni)/Pが3〜10であり、前記Feと前記Niとの質量比Fe/Niが0.8〜1.2である銅合金に、熱間圧延を施して板材を形成する工程と、
    前記板材に冷間圧延を施して生地を形成する工程と、
    前記生地を加熱して熱処理を行う工程と、を有する
    ことを特徴とする銅合金材の製造方法。
  7. 前記熱処理を行う工程は、550℃以下の温度で行う
    ことを特徴とする請求項6に記載の銅合金材の製造方法。
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