JP2013182262A - 偏光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板上に、金属ハロゲン化物の粒状物を形成する工程と、粒状物を覆う保護膜を、非プラズマ環境下で形成する工程と、ガラス基板を加熱延伸することで粒状物を延伸させる工程と、延伸された金属ハロゲン化物を還元することで針状金属粒子を形成する工程と、を有する偏光素子の製造方法。
【選択図】図1
Description
(1)塩化物、臭化物、及びヨウ化物の群から選択した少なくとも1つのハロゲン化物及び銀を含有する組成物から、所望の形状のガラス製品を作製する。
(2)そのガラス製品を、該ガラス製品中にAgCl、AgBr、又はAgIの結晶を生成せしめるのに十分な期間にわたり、歪み点より高いが、ガラスの軟化点からは約50℃は高くない温度にまで加熱し、結晶含有製品を作製する。
(3)この結晶含有製品を、結晶が少なくとも5:1のアスペクト比に延伸されるように、アニール点より高いが、ガラスが約108ポアズの粘度を示す温度より低い温度において応力下で延伸せしめる。
(4)その製品を、該製品上に化学的な還元表面層を発達せしめるのに十分な期間にわたり、約250℃より高いが、ガラスのアニール点からは約25℃は高くない温度の還元雰囲気に暴露する。これにより、延伸ハロゲン化銀粒子の少なくとも一部が銀元素に還元される。
これらの製造方法によれば、非プラズマ環境下で保護膜を成膜できるので、上述した作用効果を容易に得ることができる。
この製造方法によれば、簡便な工程で粒状物を形成することができる。
なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。
図1は、本実施形態の偏光素子の製造方法を示す図である。図2は、本実施形態の製造工程における基板の平面構成を示す説明図である。
ガラス基板10としては、特に限定されず、公知のいかなるガラス基板も用いることができる。これは、本実施形態の偏光素子の製造方法では、ガラス基板中に金属ハロゲン化物を析出させたり、ガラス基板の表面にイオン交換により金属イオンを導入したりする必要がなく、金属ハロゲン化物の被膜11を形成可能なものであればよいからである。具体的には、石英ガラス、ソーダライムガラス、サファイアガラス、ホウ珪酸ガラス、アルミノホウ珪酸ガラス等、偏光素子の用途に応じて種々のガラス基板を用いることができる。
なお、上記スパッタ系の物理蒸着法に代えて、真空蒸着法、分子線蒸着法(MBE)、イオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法などの蒸発系の物理蒸着法を用いてもよいのはもちろんである。
また場合によっては、被膜11の加工のみを目的として、反応性ガス(Cl2、BCl3、HBr、CF4、SF6等)を用いた反応性ドライエッチング処理を実施してもよい。この場合の反応性ドライエッチング処理では、被膜11の金属をハロゲン化する必要はないため、島状粒子12aの全体がハロゲン化されない条件で加工したり、加工特性を優先して反応性ガスの種類を選択することができる。
保護膜13の材質は、透明な被膜を形成可能であり、後段の延伸工程S14における加熱温度に耐えるものあれば特に限定されない。例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物、チタン酸化物やジルコニウム酸化物などを用いることができる。本実施形態では、基材がガラス基板であるため、成分が共通するシリコン酸化物を用いることが好ましい。
以上の工程により、ガラス基板10上に、基板面内の一方向に配向した多数の針状金属粒子12cがスリット状の領域10b(図2参照)を介して配列された偏光素子100を製造することができる。
AgClx膜[A]は、反応性スパッタ法により形成したAgClx膜である。
熱処理AgClx膜[B]は、AgClx膜[A]に対して大気下で400℃、4時間の加熱を行ったものである。
プラズマ処理AgClx膜[C]は、AgClx膜[A]に対してArプラズマによる逆スパッタを15秒間施したものである。
積層膜[D]は、AgClx膜[A]上にスパッタ法によりSiO2膜を形成したものである。
以上の結果から、ガラス基板上に形成したAgClx膜をプラズマに曝すと、AgClxが還元されて金属Agが生成することが分かった。
図4には、以下の膜[A]、[E]、[F]について、波長350nm〜800nmにおける透過率が示されている。
積層膜[E]は、AgClx膜[A]上に加熱蒸着法を用いてSiO2膜(膜厚200nm)を形成したものである。
積層膜[F]は、AgClx膜[A]上にSOG(Spin On Glass)法を用いてSiO2膜を形成したものである。積層膜[F]の作製に際しては、SOG材料であるOCD T−2(東京応化工業社製)を、スピンコーター(700rpm)により膜厚250nmに塗布し、これを焼成することでSiO2膜を形成した。
よって本実施形態の製造方法によれば、島状膜12を構成する金属ハロゲン化物の還元を防止しつつ保護膜13を形成することができ、所望の形状の針状金属粒子12cを有する偏光素子100を製造することが可能である。
上記した第1実施形態では、ガラス基板10上に金属の被膜11を形成した後、この被膜11の構成金属をハロゲン化することとしたが、成膜工程S11において、金属ハロゲン化物からなる被膜21を形成し、その後のエッチング工程で被膜21を部分的に除去することで島状膜12を形成することもできる。
反応性物理蒸着法は、物理蒸着中の反応により化合物薄膜を形成する成膜法である。本実施形態の場合、物理蒸着法により飛散させた金属粒子と、反応ガスに含まれるハロゲンとの反応により、ガラス基板10上に金属ハロゲン化物を含む被膜21を形成する。
エッチング処理としては、ドライエッチング処理を用いることが好ましい。ただし、図3を参照して先に記載したように、Ar等の不活性ガスを用いたスパッタエッチング処理を行うと、被膜21を構成する金属ハロゲン化物が還元されてしまう。
Claims (4)
- ガラス基板上に、金属ハロゲン化物を含む粒状物を形成する工程と、
前記粒状物を覆う保護膜を、非プラズマ環境下で形成する工程と、
前記ガラス基板が軟化する温度において、前記ガラス基板を延伸することで前記粒状物を延伸させる工程と、
延伸された前記粒状物を構成する前記金属ハロゲン化物を還元することで針状金属粒子を形成する工程と、
を有する偏光素子の製造方法。 - 前記保護膜を真空蒸着法により形成する、請求項1に記載の偏光素子の製造方法。
- 前記保護膜を液相法により形成する、請求項1に記載の偏光素子の製造方法。
- 前記粒状物を形成する工程が、
前記ガラス基板上に金属の被膜を形成する工程と、
ハロゲンガス環境下で前記被膜をエッチング処理することにより前記粒状物を形成する工程と、
を含む、請求項1から3のいずれか1項に記載の偏光素子の製造方法。
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