JP2013166897A - オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】新規なオレフィン重合用触媒を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される錯体と活性化用助触媒成分を接触させてなるオレフィン重合用触媒。
【化１】

【選択図】なし

Description

本発明は、ハフニウム錯体を用いたオレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法に関するものである。

チーグラ・ナッタ型マグネシウム担持高活性チタン触媒により大いに発展したオレフィン重合の化学において、近年、メタロセン触媒の開発がトピックスの一つである。さらに、最近ではさらなる精密な重合プロセスを構築するための触媒として、いわゆるポストメタロセン系触媒の開発が注目されている。

２０００年にＫｏｌらは、４族金属元素と親和性の高いフェノキシ基と窒素原子とを有する四座配位子を用いて、Ｃ_２対称性を有するジルコニウム錯体を開発し、これを触媒とする１−ヘキセンの重合反応を報告した（非特許文献１〜３）。さらに、Ｋｏｌ（非特許文献４）やドイツのＯｋｕｄａら（非特許文献５，６）は、上記四座配位子の窒素原子を硫黄原子に置き換えた配位子を用いて４族金属錯体を合成し、α−オレフィンの立体選択的重合への展開をしている。

特許文献１では、エタン−１，２−ジチオールから誘導されるジフェノキシチタン、ジルコニムまたはハフニウム錯体を用いたプロピレン重合が報告されている。

本発明者らは、ｔｒａｎｓ−シクロオクタン−１，２−ジチオールから誘導されるジフェノキシチタン、ジルコニウムおよびハフニウム錯体を報告し（非特許文献７）、ジルコニウム錯体を触媒とした１−ヘキセンの重合について報告している（非特許文献８）。さらに、ハフニウム錯体を触媒としたプロピレン、１−ヘキセンの重合についても報告しているが（特許文献２）、得られる重合体の立体規則性は十分とは言えず、剛性などの機械強度の観点から更なる改善の余地がある。

ＷＯ２００７/０７５２９９ ＷＯ２０１１/０９９５８３

Journal of American Chemical Society, 2000, Volume 122, 10706-10707 Journal of American Chemical Society, 2006, Volume 128, 13062-13063 Journal of American Chemical Society, 2008, Volume 130, 2144-2145 Inorganic Chemistry, 2007, Volume 46, 8114-8116 Journal of American Chemical Society, 2003, Volume 125, 4964-4965 Angewandte Chemie International Edition, 2007, Volume 46, 4790-4793 戸田ら、第５８回錯体化学討論会、講演要旨集１Ａｂ−０７、２００８年９月２０日 Journal of American Chemical Society, 2009, Volume 131, 13566-13567

本発明の課題は、炭素原子数３〜１０のオレフィンを重合して得られる重合体を、優れた立体規則性で製造し得るオレフィン重合用触媒、および前記オレフィン重合用触媒を用いるオレフィン重合体の製造方法を提供することにある。

本発明者は、鋭意検討することにより上記課題を解決できることを見出した。

本発明は、下記一般式（１）で示される錯体と活性化用助触媒成分を接触させてなる、炭素原子数３〜１０のオレフィン重合用の触媒に関するものである。

（式中、ｎは２または３であり、
Ｒ^１〜Ｒ^３およびＲ^７〜Ｒ^９は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のアルキニル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜３０のアラルキルオキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜１０の置換シリル基、または、環を構成する炭素原子数３〜２０のヘテロ環式化合物残基を表す。
Ｒ^４〜Ｒ^６およびＲ^１０〜Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のアルキニル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜３０のアラルキルオキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０の置換シリル基、または、環を構成する炭素原子数３〜２０のヘテロ環式化合物残基を表す。
上記Ｒ^１〜Ｒ^１６の定義に関わらず、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^１とＲ^３、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ⁴とＲ⁵、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^７とＲ⁹、Ｒ^８とＲ^９、Ｒ^１０とＲ^１１、Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１３とＲ^１４、およびＲ^１５とＲ^１６は、それぞれ独立に、それぞれ相互に連結して環を形成してもよく、これらの環は置換基を有していてもよい。
Ｌは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜３０のアラルキルオキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０の置換シリル基、炭素原子数１〜２０の置換アミノ基、炭素原子数１〜２０の置換チオラート基、または炭素原子数１〜２０のカルボキシラート基を表す。
隣接するＬ同士は、相互に連結して環を形成してもよい。）
また、本発明は上記触媒を用いたオレフィン単独重合体または共重合体の製造方法に関する。

本発明によれば、炭素原子数３〜１０のオレフィンを重合して得られる重合体を、優れた立体規則性で製造することができる。

式（１）で表される錯体について説明する。

ｎは２または３であり、好ましくは３である。

Ｒ^１〜Ｒ^３およびＲ^７〜Ｒ^９として、好ましくは、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のアルキニル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜１０の置換シリル基、または、環を構成する炭素原子数３〜２０のヘテロ環式化合物残基であり、
より好ましくは、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数が３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、または炭素原子数１〜１０の置換シリル基であり、
さらに好ましくは、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数が３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、または炭素原子数１〜１０の置換シリル基である。
Ｒ^１〜Ｒ^３およびＲ^７〜Ｒ^９の最も好ましい形態は、Ｒ^１とＲ^７、Ｒ^２とＲ^８およびＲ^３とＲ^９とが同一であって、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数が３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、または炭素原子数１〜１０の置換シリル基である。ただし、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は互いに異なる基であってよい。

Ｒ^４〜Ｒ^６およびＲ^１０〜Ｒ^１６として好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数が３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、または炭素原子数１〜２０の置換シリル基であり、
Ｒ^４〜Ｒ^６およびＲ^１０〜Ｒ^１６としてより好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数が３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、または炭素原子数１〜２０の置換シリル基である。
Ｒ^４、Ｒ^６、Ｒ^１０およびＲ^１２〜Ｒ^１６として、さらに好ましくは、水素原子である。
Ｒ^５およびＲ^１１としてさらに好ましくは、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数が３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、または炭素原子数１〜２０の置換シリル基であり、
Ｒ^５およびＲ^１１として最も好ましくは、炭素原子数１〜２０のアルキル基である。
Ｒ^５およびＲ^１１の組み合わせとして特に好ましい形態は、Ｒ^５とＲ^１１とが同一であって、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数が３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、または炭素原子数１〜２０の置換シリル基であり、最も好ましくは、Ｒ^５とＲ^１１とが同一であって、炭素原子数１〜２０のアルキル基である。

上記した、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、およびヘテロ環式化合物残基は置換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル基、トリメチルシリル基、フルオロ基、クロロ基、トリフルオロメチル基などが挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、フルオロ基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における炭素原子数１〜２０の置換または無置換のアルキル基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロ−ｎ−プロピル基、パーフルオロイソプロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブチル基、パーフルオロイソブチル基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基、パーフルオロイソペンチル基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ペンチル基、パーフルオロネオペンチル基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシル基、パーフルオロ−ｎ−ヘプチル基、パーフルオロ−ｎ−オクチル基、パーフルオロ−ｎ−デシル基、パーフルオロ−ｎ−ドデシル基、パーフルオロ−ｎ−ペンタデシル基、パーフルオロ−ｎ−エイコシル基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、テキシル基、ネオヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における炭素原子数１〜２０の置換または無置換のアルキル基として好ましくは、パーフルオロメチル基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、テキシル基、ネオヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数４〜１０のアルキル基であり、より好ましくは、パーフルオロメチル基、メチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、テキシル基などの炭素原子数１〜８のアルキル基であり、さらに好ましくは、パーフルオロメチル基、メチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基といった炭素原子数１〜４のアルキル基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における環を構成する炭素原子数が３〜１０の置換または無置換のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、１−メチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−フェニルシクロヘキシル基、１−インダニル基、２−インダニル基、ノルボルニル基、ボルニル基、メンチル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、３，５、７−トリメチルアダマンチル基、３，５−ジエチルアダマンチル基、３，５、７−トリエチルアダマンチル基、３，５−ジイソプロピルアダマンチル基、３，５、７−トリイソプロピルアダマンチル基、３，５−ジイソブチルアダマンチル基、３，５、７−トリイソブチルアダマンチル基、３，５−ジフェニルアダマンチル基、３，５、７−トリフェニルアダマンチル基、３，５−ジ（ｐ−トルイル）アダマンチル基、３，５、７−トリ（ｐ−トルイル）アダマンチル基、３，５−ジ（３，５−キシリル）アダマンチル基、３，５、７−トリ（３，５−キシリル）アダマンチル基が挙げられ、好ましくは、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、１−メチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−インダニル基、２−インダニル基、ノルボルニル基、ボルニル基、メンチル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、３，５−ジエチルアダマンチル基、３，５−ジフェニルアダマンチル基、３，５−ジ（ｐ−トルイル）アダマンチル基、３，５−ジ（３，５−キシリル）アダマンチル基などの炭素原子数３〜２６（環を構成する炭素原子以外の炭素原子も含む総数）のシクロアルキル基であり、より好ましくは、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、３，５−ジエチルアダマンチル基などの炭素原子数３〜１４（環を構成する炭素原子以外の炭素原子も含む総数）のシクロアルキル基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における炭素原子数２〜２０の置換または無置換のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、ホモアリル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基などが挙げられ、好ましくは炭素原子数３〜６のアルケニル基であり、より好ましくはアリル基、ホモアリル基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における炭素原子数２〜２０の置換または無置換のアルキニル基としては、例えばエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、３−メチル−１−ブチニル基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、４−メチル−１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、４−メチル−１−ペンテニル基、１−ヘキシニル基、１−オクチニル基、フェニルエチニル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数３〜８のアルキニル基であり、より好ましくは３−メチル−１−ブチニル基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、４−メチル−１−ペンテニル基またはフェニルエチニル基である。

Ｒ¹〜Ｒ^３およびＲ^７〜Ｒ^９における炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（イソブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジメチル（フェニル）メチル基、ジメチル（４−メチルフェニル）メチル基、ジメチル（１−ナフチル）メチル基、ジメチル（２−ナフチル）メチル基、メチル（エチル）（フェニル）メチル基、メチル（ジフェニル）メチル基、メチルビス（４−メチルフェニル）メチル基が挙げられ、好ましくはベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（イソブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などの炭素原子数７〜２０の第１級アラルキル基である。

Ｒ^４〜Ｒ^６およびＲ^１０〜Ｒ^１６における炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（イソブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジメチル（フェニル）メチル基、ジメチル（４−メチルフェニル）メチル基、ジメチル（１−ナフチル）メチル基、ジメチル（２−ナフチル）メチル基、メチル（エチル）（フェニル）メチル基、メチル（ジフェニル）メチル基、メチルビス（４−メチルフェニル）メチル基、トリフェニルメチル基が挙げられ、好ましくはベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジメチル（フェニル）メチル基、ジメチル（４−メチルフェニル）メチル基、ジメチル（１−ナフチル）メチル基、ジメチル（２−ナフチル）メチル基、メチル（エチル）（フェニル）メチル基、メチル（ジフェニル）メチル基、メチルビス（４−メチルフェニル）メチル基、トリフェニルメチル基であり、より好ましくは、ジメチル（フェニル）メチル基、ジメチル（４−メチルフェニル）メチル基、ジメチル（１−ナフチル）メチル基、ジメチル（２−ナフチル）メチル基、メチル（エチル）（フェニル）メチル基、メチル（ジフェニル）メチル基、メチルビス（４−メチルフェニル）メチル基、トリフェニルメチル基などの炭素原子数９〜２０の第３級アラルキル基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリール基としては、例えば、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、３，５−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２，３−ジブロモフェニル基、２，４−ジブロモフェニル基、あるいは２，５−ジブロモフェニル基が挙げられ、好ましくは、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、３，５−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル基などの炭素原子数６〜２０のフェニル基；２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基などのフッ素化フェニル基；２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基などのフッ素化アルキルフェニル基であり、より好ましくは、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，６−キシリル基、３，５−キシリル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，５−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における炭素原子数１〜２０の置換または無置換のアルコキシ基としては、例えば、パーフルオロメトキシ基、パーフルオロエトキシ基、パーフルオロ−ｎ−プロポキシ基、パーフルオロイソプロポキシ基、パーフルオロ−ｎ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブトキシ基、パーフルオロイソブトキシ基、パーフルオロ−ｎ−ペンチルオキシ基、パーフルオロネオペンチルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−ヘプチルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−オクチルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−デシルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−ドデシルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−ペンタデシルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−エイコシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基が挙げられ、好ましくは炭素原子数１〜４のアルコキシ基であり、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、２，６−ジイソプロピルフェノキシ基、２−フルオロフェノキシ基、３−フルオロフェノキシ基、４−フルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、２−トリフルオロメチルフェノキシ基、３−トリフルオロメチルフェノキシ基、４−トリフルオロメチルフェノキシ基、２，３−ジフルオロフェノキシ基、２，４−フルオロフェノキシ基、２，５−ジフルオロフェノキシ基、２−クロロフェノキシ基、２，３−ジクロロフェノキシ基、２，４−ジクロロフェノキシ基、２，５−ジクロロフェノキシ基、２−ブロモフェノキシ基、３−ブロモフェノキシ基、４−ブロモフェノキシ基、２，３−ジブロモフェノキシ基、２，４−ジブロモフェノキシ基、あるいは２，５−ジブロモフェノキシ基が挙げられ、好ましくは炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基であり、より好ましくは２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，６−ジイソプロピルフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基が挙げられ、好ましくは炭素原子数７〜１２のアラルキルオキシ基であり、より好ましくはベンジルオキシ基である。

Ｒ¹〜Ｒ^３およびＲ^７〜Ｒ^９における炭素原子数１〜１０の置換シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基が挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基である。

Ｒ^４〜Ｒ^６およびＲ^１０〜Ｒ^１６における炭素原子数１〜２０の置換シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリイソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、メチルジフェニルシリル基、ジメチル（フェニル）シリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、メチルビス（トリメチルシリル）シリル基、ジメチル（トリメチルシリル）シリル基、トリス（トリメチルシリル）シリル基が挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基などの炭素原子数３〜２０のトリアルキルシリル基；メチルビス（トリメチルシリル）シリル基、ジメチル（トリメチルシリル）シリル基、トリス（トリメチルシリル）シリル基などの炭素原子数３〜２０のハイドロカルビルシリル基を置換基として有するシリル基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^１６における環を構成する炭素原子数が３〜２０の置換または無置換のヘテロ環式化合物残基としては、例えば、チエニル基、フリル基、１−ピロリル基、１−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、２−イソインドリル基、１−インドリル基、キノリル基、ジベンゾ−１Ｈ−ピロール−１−イル基が挙げられ、好ましくはチエニル基、フリル基、１−ピロリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、２−イソインドリル基、１−インドリル基、キノリル基、ジベンゾ−１Ｈ−ピロール−１−イル基である。

上記Ｒ^１〜Ｒ^１６の定義に関わらず、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^１とＲ^３、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^４とＲ^５、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^７とＲ⁹、Ｒ^８とＲ^９、Ｒ^１０とＲ^１１、Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１３とＲ^１４、およびＲ^１５とＲ^１６は、それぞれ独立に、互いに連結して環を形成してもよく、該環は置換基を有していてもよく、好ましくは、ベンゼン環上の２つの炭素原子を含む４〜１０員環のハイドロカルビル環または複素環であり、該環は置換基を有していてもよい。

該環として具体的には、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環、ベンゼン環またはナフタレン環、フラン環、２，５−ジメチルフラン環、チオフェン環、２，５−ジメチルチオフェン環、ピリジン環などが挙げられ、好ましくは、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環またはナフタレン環である。

Ｌにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数が３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜３０のアラルキルオキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０の置換シリル基は、Ｒ^４〜Ｒ^６およびＲ^１０〜Ｒ^１６における前記の基と同様である。

Ｌにおける炭素原子数１〜２０の置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ−ブチルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジベンジルアミノ基またはジフェニルアミノ基といった炭素原子数２〜１４のハイドロカルビルアミノ基が挙げられ、好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基またはジベンジルアミノ基である。

Ｌにおける炭素原子数１〜２０の置換チオラート基としては、例えば、チオフェノキシ基、２，３，４−トリメチルチオフェノキシ基、２，３，５−トリメチルチオフェノキシ基、２，３，６−トリメチルチオフェノキシ基、２，４，６−トリメチルチオフェノキシ基、３，４，５−トリメチルチオフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルチオフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルチオフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルチオフェノキシ基、ペンタメチルチオフェノキシ基、２−フルオロチオフェノキシ基、３−フルオロチオフェノキシ基、４−フルオロチオフェノキシ基、ペンタフルオロチオフェノキシ基、２−トリフルオロメチルチオフェノキシ基、３−トリフルオロメチルチオフェノキシ基、４−トリフルオロメチルチオフェノキシ基、２，３−ジフルオロチオフェノキシ基、２，４−フルオロチオフェノキシ基、２，５−ジフルオロチオフェノキシ基、２−クロロチオフェノキシ基、２，３−ジクロロチオフェノキシ基、２，４−ジクロロチオフェノキシ基、２，５−ジクロロチオフェノキシ基、２−ブロモチオフェノキシ基、３−ブロモチオフェノキシ基、４−ブロモチオフェノキシ基、２，３−ジブロモチオフェノキシ基、２，４−ジブロモチオフェノキシ基、あるいは２，５−ジブロモチオフェノキシ基といった炭素原子数６〜１２のハイドロカルビルチオラート基が挙げられ、好ましくはチオフェノキシ基、２，４，６−トリメチルチオフェノキシ基、３，４，５−トリメチルチオフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルチオフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルチオフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルチオフェノキシ基、ペンタメチルチオフェノキシ基、ペンタフルオロチオフェノキシ基である。

Ｌにおける炭素原子数１〜２０の置換または無置換のカルボキシラート基としては、例えば、アセテート基、プロピオネート基、ブチレート基、ペンタネート基、ヘキサノエート基、２−エチルヘキサノエート基またはトリフルオロアセテート基が挙げられ、好ましくは炭素原子数２〜１０ハイドロカルビルカルボキシラート基であり、より好ましくは、アセテート基、プロピオネート基、２−エチルヘキサノエート基またはトリフルオロアセテート基である。

Ｌは、好ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、または炭素原子数１〜２０のハイドロカルビルアミノ基であり、より好ましくは、塩素原子、臭素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数７〜１０のアラルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基、炭素原子数２〜１０のハイドロカルビルアミノ基であり、さらに好ましくは、塩素原子、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、フェノキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基であり、特に好ましくは、塩素原子、メチル基、ベンジル基、イソプロポキシ基、フェノキシ基、ジメチルアミノ基であり、最も好ましくは、塩素原子、ベンジル基である。

Ｒ^１〜Ｒ^１６およびＬは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、酸素原子、ケイ素原子、窒素原子、リン原子、硫黄原子を含む置換基を有していてもよい。

式（１）で表される錯体の具体例としては、例えば、下記の化合物が挙げられる。

また、これらの他にも、例えば、これらの化合物のハフニウム原子に直接結合しているベンジル基を、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、またはｔ−ブトキシ基に変更した化合物も挙げることができる。

さらには、例えば、上記それぞれの化合物のＲ^５およびＲ^１１に相当する基を水素原子またはメチル基に変更した化合物も挙げることができる。

上記それぞれの化合物におけるＲ^１３〜Ｒ^１６に相当する基をメチル基、エチル基で置換した化合物も挙げることができる。

さらには、例えば、硫黄原子間を架橋している８員環部分を７員環に変更した化合物も挙げることができる。

式（１）で表される錯体の好ましい例としては、下記の化合物が挙げられる。

上記一般式（１）で表される錯体は、下記一般式（２）で表される化合物（以下、化合物（２）と称する）および下記一般式（３）で表される化合物（以下、化合物（３）と称する）を出発原料として下記の反応スキーム１により製造することができるが、本方法に限定されるものではない。

（反応スキーム１）

化合物（２）中のｎおよびＲ^１〜Ｒ^１６は、それぞれ上記一般式（１）におけるｎおよびＲ^１〜Ｒ^１２と同様である。

化合物（３）中のＬは、上記一般式（１）におけるＬと同様である。化合物（３）は、例えば、Ｈｆ（ＣＨ_２Ｐｈ）_４、ＨｆＣｌ_２(ＣＨ_２Ｐｈ)_２、Ｈｆ（ＣＨ_２ＳｉＭｅ_３）_４、ＨｆＦ_４、ＨｆＣｌ_４、ＨｆＢｒ_４、ＨｆＩ_４、Ｈｆ（ＯＭｅ）_４、Ｈｆ（ＯＥｔ）_４、Ｈｆ（Ｏｉ−Ｐｒ）_４、ＨｆＣｌ_２(Ｏ−ｉ−Ｐｒ)_２、Ｈｆ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）_４、Ｈｆ（Ｏ−ｉ−Ｂｕ）_４、Ｈｆ（Ｏ−ｔ−Ｂｕ）_４、Ｈｆ（ＮＭｅ_２）_４、ＨｆＣｌ_２（ＮＭｅ_２）_２およびＨｆ（ＮＥｔ_２）_４等が挙げられる。好ましくは、Ｈｆ（ＣＨ_２Ｐｈ）_４、ＨｆＣｌ_２(ＣＨ_２Ｐｈ)_２、Ｈｆ（ＣＨ_２ＳｉＭｅ_３）_４、ＨｆＣｌ_４、ＨｆＢｒ_４、Ｈｆ（ＯＭｅ）_４、Ｈｆ（ＯＥｔ）_４、Ｈｆ（Ｏｉ−Ｐｒ）_４、Ｈｆ（Ｏ−ｉ−Ｂｕ）_４、Ｈｆ（Ｏ−ｔ−Ｂｕ）_４、Ｈｆ（ＮＭｅ_２）_４、ＨｆＣｌ_２（ＮＭｅ_２）_２またはＨｆ（ＮＥｔ_２）_４である。

上記反応スキーム１においては、溶媒中で、化合物（２）と化合物（３）とをそのまま反応させてもよく、必要に応じて化合物（２）を塩基と反応させた後に化合物（３）を反応させてもよい。化合物（２）に反応させる塩基としては、例えば、有機リチウム試薬、Ｇｒｉｇｎａｒｄ試薬および金属水素化物が挙げられる。具体的には、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラザン、カリウムヘキサメチルジシラザン、水素化ナトリウムおよび水素化カリウムを挙げることができる。なかでも、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシラザン、水素化ナトリウムおよび水素化カリウムが好ましい。

上記一般式（１）で表される錯体、化合物（３）、および、化合物（２）と塩基とを反応させて得られる化合物は、空気および湿気に対して不安定である。そのため、反応スキーム１における反応は脱水脱酸素下で行うことが好ましい。具体的には、乾燥ヘリウム、乾燥アルゴンまたは乾燥窒素下であり、乾燥アルゴン下または乾燥窒素下がより好ましい。

上記反応スキーム１において、化合物（２）の使用量は、化合物（３）に対して１モル当量以上であればよく、好ましくは、１．０〜１．５の範囲で用いればよい。また、反応の過程で化合物（２）が残存する場合は、反応の途中で化合物（３）を追加してもよい。

化合物（２）と化合物（３）とを反応させる温度は、好適には−１００℃〜１５０℃の温度範囲であり、より好適には−８０℃〜５０℃の温度範囲である。ただし、この範囲に限定される意図ではない。

化合物（２）と化合物（３）との反応は、生成物の収率が最も高くなる時間まで行えばよく、好ましくは５分間〜４８時間であり、より好ましくは１０分間〜２４時間であり、さらに好ましくは３０分間〜１８時間である。

化合物（２）と塩基とを反応させる場合、化合物（３）と塩基とを反応させる温度は、好適には−１００℃〜１５０℃の温度範囲であり、より好適には−８０℃〜５０℃の温度範囲である。ただし、この範囲に限定される意図ではない。

また、化合物（２）と塩基とを反応させる時間は、生成物の収率が最も高くなる時間まで行えばよく、好ましくは５分間〜２４時間であり、より好ましくは１０分間〜１２時間、さらに好ましくは３０分間〜３時間である。

化合物（２）と塩基とを反応させる場合に、化合物（２）と塩基とを反応させて生じた化合物と、化合物（３）とを反応させる温度は、好適には−１００℃〜１５０℃の温度範囲であり、より好適には−８０℃〜５０℃の温度範囲ある。ただし、この範囲に限定される意図ではない。

また、化合物（２）と塩基とを反応させて生じた化合物と、化合物（３）とを反応させる時間は、生成物の収率が最も高くなる時間まで行えばよく、好ましくは５分間〜４８時間であり、より好ましくは１０分間〜２４時間であり、さらに好ましくは、３０分間〜３時間である。

反応スキーム１に示す反応の際に用いる溶媒は、類似の反応で一般的に用いられる溶媒であれば特に制限されるものではなく、ハイドロカーボン溶媒およびエーテル系溶媒が挙げられる。好ましくは、トルエン、ベンゼン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、ジエチルエーテルおよびテトラヒドロフランであり、より好ましくは、ジエチルエーテル、トルエン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、ペンタン、ヘプタンおよびシクロヘキサンである。

本発明に係るオレフィン重合用触媒としては、式（１）で示される錯体および助触媒成分（Ａ）を接触させて得られる触媒が挙げられる。かかる助触媒成分としては、周期律表第１３族元素を含む活性化助触媒成分が挙げられ、例えば、
（Ａ−１）有機アルミニウム化合物
（Ａ−２）ホウ素化合物
よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を挙げることができる。

〔有機アルミニウム化合物（Ａ−１）〕
本発明において用いる有機アルミニウム化合物（Ａ−１）としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用できる。好ましくは、
（Ａ−１−１）一般式Ｅ¹ _aＡｌＹ¹ _3-aで表される有機アルミニウム化合物、
（Ａ−１−２）一般式｛−Ａｌ（Ｅ²）−Ｏ−｝_bで表される構造を有する環状のアルミノキサン、および、
（Ａ−１−３）一般式Ｅ³｛−Ａｌ（Ｅ³）−Ｏ−｝_cＡｌＥ³ ₂で表される構造を有する線状のアルミノキサン、
のうちのいずれか、あるいはそれらの２〜３種の混合物を例示することができる。
但し、上記一般式における、Ｅ¹、Ｅ²、Ｅ³は、炭素数１〜８のハイドロカルビル基であり、全てのＥ^１、全てのＥ²及び全てのＥ^３は同じであっても異なっていてもよい。Ｙ¹は水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのＹ¹は同じであっても異なっていてもよい。ａは０＜ａ≦３の整数で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。

一般式Ｅ¹ _aＡｌＹ¹ _3-aで表される有機アルミニウム化合物（Ａ−１−１）の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示することができる。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムである。

一般式｛−Ａｌ（Ｅ²）−Ｏ−｝_bで表される構造を有する環状のアルミノキサン（Ａ−１−２）、一般式 Ｅ³｛−Ａｌ（Ｅ³）−Ｏ−｝_cＡｌＥ³ _２で表される構造を有する線状のアルミノキサン（Ａ−１−３）における、Ｅ²、Ｅ³の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ²及びＥ³はメチル基、またはイソブチル基であり、ｂは２〜４０の整数、ｃは１〜４０の整数である。

上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、トルエン、脂肪族ハイドロカーボンなど）に溶かした溶液を、水と接触させてアルミノキサンを作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を、結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させてアルミノキサンを作る方法が例示できる。

また、上記の方法で得られる（Ａ−１−２）一般式｛−Ａｌ（Ｅ²）−Ｏ−｝_bで表される構造を有する環状のアルミノキサン、及び（Ａ−１−３）一般式 Ｅ³｛−Ａｌ（Ｅ³）−Ｏ−｝_cＡｌＥ³ ₂で表される構造を有する線状のアルミノキサンは、必要に応じて、揮発成分を留去して乾燥して用いてもよい。さらに、揮発成分を留去して乾燥して得られた化合物を適当な有機溶剤（ベンゼン、トルエン、脂肪族ハイドロカーボンなど）で洗浄して、再度乾燥し用いてもよい。

〔ホウ素化合物（Ａ−２）〕
本発明においてホウ素化合物（Ａ−２）としては、
（Ａ−２−１） 一般式ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３で表されるホウ素化合物、
（Ａ−２−２） 一般式Ｗ⁺（ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３Ｒ^4４）⁻で表されるホウ素化合物、
（Ａ−２−３） 一般式（Ｖ−Ｈ）⁺（ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３Ｒ^4４）⁻で表されるホウ素化合物、
のいずれかを用いる。

一般式ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３で表されるホウ素化合物（Ａ−２−１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｒ^4１〜Ｒ^4３はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含むハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化ハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基または２〜２０個の炭素原子を含む２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。好ましいＲ^4１〜Ｒ^4３はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含むハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化ハイドロカルビル基である。

ホウ素化合物（Ａ−２−１）の具体例としては、トリフェニルボラン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等が挙げられるが、最も好ましくは、トリフェニルボラン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランである。

一般式Ｗ⁺（ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３Ｒ^4４）⁻で表されるホウ素化合物（Ａ−２−２）において、Ｗ⁺は無機または有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｒ^4１〜Ｒ^4４は上記のホウ素化合物（Ａ−２−１）におけるＲ^4１〜Ｒ^4３と同様である。即ち、Ｒ^4１〜Ｒ^4４はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含むハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化ハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基または２〜２０個の炭素原子を含む２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。好ましいＲ^4１〜Ｒ^4４はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含むハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化ハイドロカルビル基である。

無機のカチオンであるＷ⁺としては、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが挙げられる。有機のカチオンであるＷ⁺としては、トリフェニルカルベニウムカチオンなどが挙げられる。（ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３Ｒ^4４）⁻には、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４ートリフルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。

一般式Ｗ⁺（ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３Ｒ^4４）⁻で表される化合物の具体例としては、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、最も好ましくは、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。

また、一般式（Ｖ−Ｈ）⁺（ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３Ｒ^4４）⁻で表されるホウ素化合物（Ａ−２−３）おいては、Ｖは中性ルイス塩基であり、（Ｖ−Ｈ）⁺はブレンステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｒ^4１〜Ｒ^4４は上記のホウ素化合物（Ａ−２−３）におけるＲ^4１〜Ｒ^4３と同様である。即ち、Ｒ^4１〜Ｒ^4４はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含むハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化ハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基または２〜２０個の炭素原子を含む２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。好ましいＲ^4１〜Ｒ^4４はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含むハイドロカルビル基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化ハイドロカルビル基である。

ブレンステッド酸である（Ｖ−Ｈ）⁺としては、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられ、（ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３Ｒ^4４）⁻としては、前述と同様のものが挙げられる。

一般式（Ｖ−Ｈ）⁺（ＢＲ^4１Ｒ^4２Ｒ^4３Ｒ^4４）⁻で表される化合物の具体例としては、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、最も好ましくは、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、もしくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。

上記一般式（１）で表される錯体と助触媒成分（Ａ）とを接触させて得られる触媒を製造する際の接触は、一般式（１）で表される錯体と助触媒成分（Ａ）とが接触し、触媒が形成されるならどのような手段によってもよい。例えば、あらかじめ溶媒で希釈して、もしくは希釈せずに一般式（１）で表される錯体と助触媒成分（Ａ）とを混合して接触させる方法、および一般式（１）で表される錯体と助触媒成分（Ａ）とを別々に重合槽に供給して重合槽の中でこれらを接触させる方法等を採用することができる。ここで、助触媒成分（Ａ）としては複数種類を組み合わせて使用する場合があるが、それらのうちの一部をあらかじめ混合して使用してもよいし、別々に重合槽に供給して使用してもよい。

助触媒成分（Ａ）として有機アルミニウム化合物（Ａ−１）を使用する場合の使用量は、一般式（１）で表される錯体に対する有機アルミニウム化合物（Ａ−１）のモル比が例えば０．０１〜１０，０００の範囲であり、好ましくは１〜５，０００の範囲である。また、助触媒成分（Ａ）としてホウ素化合物（Ａ−２）を使用する場合の使用量は、一般式（１）で表される錯体に対するホウ素化合物（Ａ−２）のモル比が例えば０．０１〜１００の範囲であり、好ましくは１．０〜５０の範囲である。

重合反応器において重合反応前に触媒を製造する場合、各成分を溶液状態または溶媒に懸濁もしくはスラリー化した状態で供給する際の各成分の濃度は、重合反応器に各成分を供給する装置の性能などの条件により、適宜選択されるが、一般に、一般式（１）で表される錯体の濃度が、例えば０．０００１〜１０，０００ｍｍｏｌ／Ｌ、より好ましくは、０．００１〜１，０００ｍｍｏｌ／Ｌ、さらに好ましくは、０．０１〜１００ｍｍｏｌ／Ｌの範囲であり、有機アルミニウム化合物（Ａ−１）の濃度が、Ａｌ原子換算で、例えば０．０１〜１０，０００ｍｍｏｌ／Ｌ、より好ましくは、０．０５〜５，０００ｍｍｏｌ／Ｌ、さらに好ましくは、０．１〜２，０００ｍｍｏｌ／Ｌの範囲であり、ホウ素化合物（Ａ−２）の濃度が、例えば０．００１〜５００ｍｍｏｌ／Ｌ、より好ましくは、０．０１〜２５０ｍｍｏｌ／Ｌ、さらに好ましくは、０．０５〜１００ｍｍｏｌ／Ｌの範囲となるように各成分を用いることが望ましい。

上記一般式（１）で表される錯体と、上記有機アルミニウム化合物（Ａ−１）および上記ホウ素化合物（Ａ−２）の少なくとも一方とを接触させて得られる重合用触媒として、一般式（１）で表される錯体と有機アルミニウム化合物（Ａ−１）とを接触させて得られる触媒を用いる際は、有機アルミニウム化合物（Ａ−１）としては、上記の環状のアルミノキサン（Ａ−１−２）および線状のアルミノキサン（Ａ−１−３）の少なくとも一方を用いることが好ましい。また他に好ましい重合用触媒の態様としては、一般式（１）で表される錯体、有機アルミニウム化合物（Ａ−１）およびホウ素化合物（Ａ−２）を接触させて得られる触媒が挙げられ、その際の有機アルミニウム化合物（Ａ−１）としては上記の有機アルミニウム化合物（Ａ−１−１）が使用しやすく、ホウ素化合物（Ａ−２）としては、ホウ素化合物（Ａ−２−１）またはホウ素化合物（Ａ−２−２）が好ましい。

〔オレフィン重合体の製造方法〕
本発明におけるオレフィン重合体の製造方法は、上記重合用触媒の存在下に炭素原子数３〜１０のオレフィンを単独で重合させるか、また２種以上のオレフィンを共重合させることを含む方法である。

オレフィンは、モノオレフィンまたはジオレフィンであることができる。

モノオレフィンの例としては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、４−メチル−１−ペンテンおよびビニルシクロヘキサンなどの炭素原子数３〜１０の１−アルケン（枝分かれしていてもよい）、または、シクロペンテン、シクロヘキセン、５−メチルノルボルネン、５−エチルノルボルネンなどの環状アルケンを挙げることができる。また、本明細書におけるモノオレフィンには、モノオレフィン（例えば、エチレン）の一部の水素原子が芳香族基で置換されているスチレン等も含まれる。

モノオレフィンとして、好ましくは、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、４−メチル−１−ペンテン、またはビニルシクロヘキサンであり、より好ましくはプロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、４−メチル−１−ペンテン、またはビニルシクロヘキサンであり、さらに好ましくはプロピレン、または１−ブテンである。

ジオレフィンとしては、例えば、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，６−ヘプタジエン、１，４−ペンタジエン、１，７−オクタジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、ブタジエン、およびイソプレンを挙げることができる。

ジオレフィンとして、好ましくは、１，５−ヘキサジエン、１，６−ヘプタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、ブタジエン、またはイソプレンであり、より好ましくは、１，５−ヘキサジエン、１，６−ヘプタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、またはブタジエンである。

重合方法も、特に限定されるべきものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカーボン、ベンゼン、トルエン等の芳香族ハイドロカーボン、またはメチレンジクロライド等のハロゲン化ハイドロカーボンを溶媒として用いる溶媒重合、またはスラリー重合等が可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。

重合反応の温度および時間は、所望の重合平均分子量、ならびに触媒の活性度および使用量を考慮して決定することができる。重合温度は通常、−５０℃〜２００℃の範囲をとり得るが、特に、−２０℃〜１００℃の範囲が好ましい。重合圧力は通常、常圧〜５０ＭＰａが好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリマーの種類、および反応装置により適宜決定されるが通常、１分間〜２０時間の範囲、好ましくは５分間〜１８時間の範囲をとることができる。但し、これらの範囲に制限される意図ではない。また、本発明は共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。

重合反応に溶媒を使用する場合、溶媒中の各化合物の濃度は、特に制限はない。溶媒中の上記一般式（１）で表される錯体の濃度は、例えば、１×１０^−８ｍｍｏｌ／Ｌ〜１０ｍｏｌ／Ｌの範囲を選択でき、助触媒成分の濃度は、例えば、１×１０^−８ｍｍｏｌ／Ｌ〜１０ｍｏｌ／Ｌの範囲を選択することができる。また、オレフィン：溶媒は体積比で１００：０〜１：１，０００の範囲を選択することができる。但し、これらの範囲は例示であって、それらに限定される意図ではない。また、溶媒を使用しない場合も、上記の範囲を参考に適宜濃度の設定をすることができる。

本発明により得られるオレフィン重合体は、比較的高い立体規則性を示しうる。当該オレフィン重合体の一例は、アイソタクチックなオレフィン重合体である。

アイソタクチックなオレフィン重合体の場合、そのアイソタクチシティは例えば９１．１以上であり、９４．５以上であることが好ましく、９５．０以上であることがより好ましい。

以下、実施例および比較例によって本発明をさらに詳細に説明する。実施例中の各項目の測定値は、下記の方法で測定した。

（１）融点
熱分析装置 示差走査熱量計（Ｄｉａｍｏｎｄ ＤＳＣ Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製）を用いて下記の方法で測定した。

１）サンプル約１０ｍｇを窒素雰囲気下、２２０℃ ５分間保持
２）冷却 ２２０℃〜２０℃（５℃／分）２分間保持
３）測定 ２０℃〜２２０℃（５℃／分）
（２）分子量および分子量分布
各重合体のポリスチレン換算重量平均分子鎖長（Ａｗ）およびポリスチレン換算数平均分子鎖長（Ａｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記条件で算出した。検量線は、標準ポリスチレンを用いて作成し、ポリスチレンのＱファクター（／Å）として４１．３を用いた。
<測定条件>
装置： ＴＳＫ ＨＬＣ−８１２１ＧＰＣ／ＨＴ （東ソー社製）
カラム： ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ‐Ｈ(２０) ２本
測定温度： １５２℃
溶媒： ｏ-ジクロロベンゼン（０．０５% ＢＨＴ添加）
溶媒流量： １ｍｌ／ｍｉｎ
試料濃度： ０．０５%
カラム・装置校正用試料： ＴＳＫ標準ポリスチレンＦ−２０００〜Ａ−１０００（東ソー製）
ポリプロピレンの重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）は、上記条件により算出したポリスチレン換算重量平均分子鎖長（Ａｗ） 、ポリスチレン換算数平均分子鎖長（Ａｎ）をもとに、ポリプロピレンのＱファクター（／Å）を２６．４として算出した。
分子量（Ｍｗ, Ｍｎ）＝分子鎖長（Ａｗ, Ａｎ）×Ｑファクター
（３）ポリプロピレンのアイソタクチック・ペンタッド分率（［ｍｍｍｍ］(％）)
ポリプロピレンの[ｍｍｍｍ]分率は下記条件で測定した¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルにおける、１９．４〜２２．２ｐｐｍのメチル炭素に帰属されるピーク面積（Ｉ（ＣＨ_３））に対する２１．６４〜２２．０２ｐｐｍのｍｍｍｍペンタッドのメチル炭素に帰属されるピーク面積（Ｉ（ｍｍｍｍ））の割合として求めた。
＜測定条件＞
装置 ：Ｂｒｕｋｅｒ社製 ＡＶＡＮＣＥ６００ １０ｍｍクライオプローブ
測定溶媒：１，２−ジクロロベンゼン／１，２−ジクロロベンゼン−ｄ_４＝７５／２５（容積比）の混合液
測定温度：１３０℃
測定方法：プロトンデカップリング法
パルス幅：４５度
パルス繰り返し時間：４秒
化学シフト値基準：テトラメチルシラン
（４）ポリプロピレン２，１−挿入率、１，３−挿入率（％）
上記条件により測定した^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルおいて、以下のように定義する範囲のピーク面積から、２，１−挿入率、１，３−挿入率（％）を求めた。
＜算出方法＞
ピーク面積の定義
Ｉ(ＣＨ_３)：１９．４〜２２．２ｐｐｍのピーク面積の合計
Ｉ(２，１)：１６．４〜１８．８ｐｐｍと１４．５〜１５．８ｐｐｍのピーク面積の合計Ｉ(１，３)：２７．６〜２７．８ｐｐｍのピーク面積
２，１％算出式
２，１％ ＝ ０．５×Ｉ(２，１)/(Ｉ(ＣＨ_３)＋Ｉ(２，１)＋Ｉ(１，３))×１００
１，３％算出式
１，３％ ＝Ｉ(１，３)/(Ｉ(ＣＨ_３)＋Ｉ(２，１)＋Ｉ(１，３))×１００
（５）固有粘度（［η］）（単位：ｄｌ／ｇ）
ウベローデ型粘度計を用い、測定温度１３５℃にて溶媒にテトラリンを用いて測定した。

（参考例１）
trans-1,2-ビス（2-ヒドロキシ-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）シクロオクタンの合成
（１）3-トリメチルシリル-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコールの合成
2-ヒドロキソ-5-メチル-3- (トリメチルシリル)ベンズアルデヒド9.57 g（45.9 mmol）をジエチルエーテル70 mLに溶解し、０℃に冷却した。そこに、水素化アルミニウムリチウム2.27 g（59.8 mmol）を加えた後、０℃で２時間攪拌した。希塩酸およびジエチルエーテルを加え、エーテル層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去し、無色結晶として3-トリメチルシリル-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコール9.57 g（収率98％）を得た。
¹H NMR (500 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
0.30 (s, 9H), 2.03 (br s, 1H), 2.25 (s, 3H), 4.83 (br s, 1H), 6.84 (d, J = 2 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 2 Hz, 1H), 7.39 (s, 1H).
（２）trans-1,2-ビス（2-ヒドロキシ-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）シクロオクタンの合成
アルゴン雰囲気下、3-トリメチルシリル-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコール1.03 g（4.87 mmol）をジエチルエーテル30 mLに溶解し、０℃に冷却した。そこに、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン6.2 mL（44.5 mmol）を加えた後、三臭化リン0.35 mL（3.69 mmol）を加え、２５℃で２時間攪拌した。そこに、アルゴン雰囲気下、trans-シクロオクタン-1,2-ジチオール289.2 mg（1.64 mmol）をジエチルエーテル20 mLに溶解した溶液をチューブトランスファーし、加熱還流下で１３時間攪拌した。希塩化アンモニウム水溶液およびジエチルエーテルを加え、エーテル層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ジクロロメタン）で精製し、無色オイルとしてtrans-1,2-ビス（2-ヒドロキシ-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）シクロオクタン672.9 mg（収率73％）を得た。
¹H NMR (500 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
0.29 (s, 18H), 1.15-1.96 (m, 12H), 2.25 (s, 6H), 2.65 (br s, 2H), 3.73-3.85 (m, 4H), 6.85 (d, J = 2 Hz, 2H), 6.90 (s, 2H), 7.10 (d, J = 2 Hz, 2H).
¹³C NMR (125.7 MHz, δ, ppm, CDCl₃₎
-0.88, 20.5, 25.7, 26.0, 30.9, 34.5, 49.9, 120.8, 127.7, 129.1, 132.4, 135.2, 158.4.

（参考例２）
[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムの合成
窒素雰囲気下のグローブボックス中、50 mLシュレンク管でtrans-1,2-ビス（2-ヒドロキシ-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）シクロオクタン300mg（0.53mmol）のトルエン（5 mL）溶液に、ジクロロ［1,1’-オキシビス［エタン］］［ビス（フェニルメチル）ハフニウム］］0.27 g（0.53 mmol）のトルエン（5 mL）溶液を室温で滴下した。1.5時間後、反応溶液を濾過し、濾液から減圧下揮発成分を留去した。得られた残渣をペンタンで洗浄し、減圧下乾燥させることで[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウム300 mg（収率69％）白色粉末として得た。
¹H NMR (500 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
0.425 (s, 18H), 0.70〜2.0 (m, 12H), 2.27(s, 6H), 2.63 (brs, 2H), 3.82 (d, J = 14 Hz, 2H), 4.42 (d, J = 14 Hz, 2H), 6.83 (s, 2H), 7.23 (s, 1H).

（参考例３）
[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3,5-ジ-tert-ブチルベンジルスルファニル）]ジベンジルハフニウム
以下の実験はアルゴン雰囲気のグローブボックス中で行った。50mLのシュレンク管中、trans-1,2-ビス（2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルベンジルスルファニル）シクロオクタン 192mg（0.313mmol）をトルエン10mLに溶かし、この溶液に室温でテトラベンジルジルコニウム170mg（0.313mmol）のトルエン溶液10mLを滴下し、さらに1時間攪拌した。トルエンを減圧下留去し、残渣をヘキサン2mLで洗浄後乾燥し、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3,5-ジ-tert-ブチルベンジルスルファニル）]ジベンジルハフニウム209mg（収率69％）を無色結晶として得た。
融点：203℃ 分解
¹H-NMR (400 MHz,δ, ppm, C₆D₆)
1.18-1.94 (m, 48H), 2.35 (m, 2H), 2.61 (d, J = 12Hz, 2H), 2.88 (d, J = 12Hz, 2H), 3.13 (d, J = 14Hz, 2 H), 3.41 (d, J = 14Hz, 2 H), 6.62 (d, J = 2Hz, 2H), 6.78 (t, J = 8Hz, 2H), 7.10 (t, J = 8Hz, 4H), 7.29 (t, J = 8Hz, 4H), 7.57 (d, J = 2Hz, 2H)
¹³C-NMR (100.4 MHz, δ, ppm, C₆D₆)
25.1, 26.2, 28.8, 30.5, 31.8, 32.1, 34.2, 35.6, 49.1, 77.2, 121.4, 121.8, 124.6, 125.6, 126.0, 129.3, 138.5, 141.1, 148.4, 157.9.
元素分析：計算値（C₅₂H₇₂O₂S₂Hf）C, 64.27%; H, 7.47%.
実測値：C, 63.87%; H, 7.59%.

（参考例４）
trans-1,2-ビス[2-ヒドロキシ-3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル]シクロオクタンの合成
（１）3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコールの合成
2-ヒドロキシ-5-メチル-3-(トリイソプロピルシリル)ベンズアルデヒド（文献既知）1.38 g（4.71 mmol）をジエチルエーテル20 mLに溶かし０℃に冷却した。そこに、水素化アルミニウムリチウム232.3 mg （6.12 mmol）を加えた後、０℃で２１時間攪拌した。希塩酸とジエチルエーテルを加え、エーテル層を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、無色結晶として定量的に3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコール（1.41 g、少量の溶媒を含む）を得た。
¹H NMR (500 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
1.09 (d, J = 8 Hz, 18H), 1.50 (sept, J = 8 Hz, 3H), 2.02 (br s, 1H), 2.26 (s, 3H), 4.81 (d, J = 5 Hz, 1H), 6.84 (d, J = 2 Hz, 1H), 7.14 (d, J = 2 Hz, 1H), 7.34 (s, 1H).
¹³C NMR (125.7 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
11.9, 19.1, 20.8, 65.5, 122.3, 123.4, 128.2, 129.7, 137.6, 159.7.
（２）trans-1,2-ビス(2-ヒドロキシ-3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル)シクロオクタンの合成
アルゴン雰囲気下、3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコール1.01 g（3.42 mmol）をテトラヒドロフラン10 mLに溶かし０℃に冷却した。そこに、トリエチルアミン0.8 mL（5.74 mmol）を加えた後、塩化メタンスルホニル0.26 mL（3.35 mmol）を加え、２５℃で２１時間攪拌した。そこに、アルゴン雰囲気下、trans-シクロオクタン-1,2-ジチオール（文献既知）201.7 mg（1.14 mmol）をテトラヒドロフラン10 mLに溶かした溶液をチューブトランスファーし、加熱還流下で２０時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液とジエチルエーテルを加え、エーテル層を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン）で精製し淡黄色オイルとして定量的にtrans-1,2-ビス(2-ヒドロキシ-3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル)シクロオクタン（1.01 g、少量の溶媒を含む）を得た。
¹H NMR (500 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
1.12 (d, J = 8 Hz, 36H), 1.16-2.00 (m, 12H), 1.51 (sept, J = Hz, 6H), 2.28 (s, 6H), 2.75 (br s, 2H), 3.77-3.88 (m, 4H), 6.79 (s, 2H), 6.89 (d, J = 2 Hz, 2H), 7.16 (d, J = 2 Hz, 2H).
¹³C NMR (125.7 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
11.9, 19.1, 19.2, 20.8, 25.9, 26.1, 31.3, 35.3, 50.3, 121.1, 123.2, 128.8, 132.3, 137.3, 158.8.

（参考例５）
[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムの合成
窒素雰囲気下のグローブボックス中、50 mLシュレンク管でtrans-1,2-ビス（2-ヒドロキシ-3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）シクロオクタン 150 mg（0.20 mmol）のトルエン（1 mL）溶液に、ジクロロ［1,1’-オキシビス［エタン］］［ビス（フェニルメチル）ハフニウム］］100 mg（0.20 mmol）のトルエン（1 mL）溶液を室温で滴下した。1時間攪拌後、減圧下で揮発成分を留去した。得られた残渣をペンタンで洗浄し、減圧下で乾燥することで、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウム 74 mg (収率 38%)を白色粉末として得た。
¹H-NMR (400 MHz,δ, ppm, CDCl₃)
0.80〜2.0 (m, 54H), 2.36 (s, 6H), 2.70 (brs, 2H), 3.80 (d, J = 14 Hz, 2H), 4.41 (d, J = 14 Hz, 2H), 6.80 (s, 2H), 7.27 (s, 2H).

（参考例６）
trans-1,2-ビス[2-ヒドロキシ-3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル]シクロオクタンの合成
（１）3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコールの合成
2-ヒドロキシ-5-メチル-3-(tert-ブチルジメチルシリル)ベンズアルデヒド（文献既知）6.64 g（25.0 mmol）をジエチルエーテル60 mLに溶かし０℃に冷却した。そこに、水素化アルミニウムリチウム1.32 g（34.8 mmol）を加えた後、０℃で１７時間攪拌した。希塩酸とジエチルエーテルを加え、エーテル層を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、淡黄色結晶として3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコール6.57 g（収率98％）を得た。
¹H NMR (500 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
0.31 (s, 6H), 0.91 (s, 9H), 2.03 (br s, 1H), 2.25 (s, 3H), 4.80 (d, J = 9 Hz, 1H), 6.85 (d, J = 3 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 3 Hz, 1H), 7.27 (s, 1H).
（２）trans-1,2-ビス[2-ヒドロキシ-3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル]シクロオクタンの合成
アルゴン雰囲気下、3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチル-2-ヒドロキシベンジルアルコール461.9 mg（1.72 mmol）をテトラヒドロフラン5 mLに溶かし０℃に冷却した。そこに、トリエチルアミン0.4 mL（2.87 mmol）を加えた後、塩化メタンスルホニル0.13 mL（1.68 mmol）を加え、２５℃で２１時間攪拌した。そこに、アルゴン雰囲気下、trans-シクロオクタン-1,2-ジチオール（文献既知）104.2 mg（0.591 mmol）をテトラヒドロフラン5 mLに溶かした溶液をチューブトランスファーし、加熱還流下で２０時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液とジエチルエーテルを加え、エーテル層を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン）で精製し淡黄色オイルとして定量的にtrans-1,2-ビス[2-ヒドロキシ-3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル]シクロオクタン（424.4 mg、少量の溶媒を含む）を得た。
¹H NMR (500 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
0.30(d, J = 4 Hz, 12H), 0.91 (s, 18H), 1.17-1.96 (m, 12H), 2.24 (s, 6H), 2.69 (br s, 2H), 3.73-3.85 (m, 4H), 6.75 (s, 2H), 6.86 (d, J = 2 Hz, 2H), 7.09 (d, J = 2 Hz, 2H).
¹³C NMR (125.7 MHz, δ, ppm, CDCl₃)
-4.39, -4.32, 17.8, 20.7, 25.9, 26.1, 27.3, 31.2, 35.0, 50.2, 121.2, 125.4, 128.9, 132.5, 136.9, 158.6.

（参考例７）
[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムの合成
窒素雰囲気下のグローブボックス中、50 mLシュレンク管でtrans-1,2-ビス（2-ヒドロキシ-3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）シクロオクタン 150 mg（0.20 mmol）のトルエン（1 mL）溶液に、ジクロロ［1,1’-オキシビス［エタン］］［ビス（フェニルメチル）ハフニウム］］100 mg（0.20 mmol）のトルエン（1 mL）溶液を室温で滴下した。1時間攪拌後、減圧下で揮発成分を留去した。得られた残渣をペンタンで洗浄し、減圧下で乾燥することで、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウム 10 mg (収率 6%)を白色粉末として得た。
¹H-NMR (400 MHz,δ, ppm, CDCl₃)
0.381(s,6H), 0.494 (s, 6H), 0.70-2.0 (m, 30H), 2.26 (s, 6H), 2.69 (br s, 2H), 3.81 (d, J = 14 Hz, 2H), 4.46 (d, J = 14 Hz, 2H), 6.82 (d, J = 2 Hz, 2H), 7.25 (d, J = 2 Hz, 2H).

（参考例８）
ｄ−ＭＡＯ（乾燥メチルアルミノキサン）の調製方法
３方コックを取り付けた撹拌子入りの２００ｍＬ二口フラスコを窒素置換し、東ソー・ファインケム社製ＰＭＡＯ−Ｓトルエン溶液（アルミニウム含量６．１ｗｔ％）１００ｍＬをシリンジで測り取り、フラスコに投入した。この溶液を減圧し揮発成分を除去した。
得られた白色固体を脱水トルエン１００ｍＬに再溶解した後、揮発成分を減圧除去した。
この操作を更に２回繰り返し、白色粉末１４．１ｇを得た。

（参考例９）
ｄ−ＭＭＡＯ３Ａの調製方法
東ソー・ファインケム社製ＰＭＡＯ−Ｓトルエン溶液（アルミニウム含量６．１ｗｔ％）を東ソー・ファインケム社製ＭＭＡＯ３Ａトルエン溶液（アルミニウム含量７．０ｗｔ％）にしたこと以外は参考例８と同様に実施した。

＜プロピレン単独重合＞
（実施例１）
内容積４００ｍＬの撹拌機付きオートクレーブを真空乾燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン４０ ｍＬ、モノマーとしてプロピレン８０ ｇを仕込み、反応器を４０℃まで昇温した。昇温後、ｄ−ＭＡＯ １２６ ｍｇを投入し、続いて参考例２で合成した[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウム（０．５０ ｍｍｏｌ／Ｌ、トルエン溶液）１．０ ｍＬ（０．５０μｍｏｌ）を投入して重合を開始した。温度を４０℃に保ちながら、６０分間重合を行った。結果を表１に示した。

（実施例２）
ｄ−ＭＡＯ投入量を１２８ ｍｇとし、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムの代わりに参考例５で合成した[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施した。結果を表１に示した。

（実施例３）
ｄ−ＭＡＯ投入量を１２３ ｍｇとし、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムの代わりに参考例７で合成した[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施した。結果を表１に示した。

（比較例１）
ｄ−ＭＡＯ投入量を１２４ ｍｇとし、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウム（０．５０ ｍｍｏｌ／Ｌ、トルエン溶液）１．０ ｍＬ（０．５０μｍｏｌ）の代わりに参考例３で合成した[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3,5-ジ-tert-ブチルベンジルスルファニル）]ジベンジルハフニウム（１．０ ｍｍｏｌ／Ｌ、トルエン溶液）１．０ｍＬ（１．０μｍｏｌ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施した。結果を表１に示した。

（実施例４）
ｄ−ＭＡＯの代わりに、ｄ−ＭＭＡＯ３Ａを用い、投入量を１２１ｍｇとしたこと以外は、実施例１と同様にして実施した。結果を表１に示した。

（実施例５）
ｄ−ＭＡＯの代わりに、ｄ−ＭＭＡＯ３Ａを用い、投入量を１０６ｍｇとし、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムの代わりに参考例５で合成した[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-(トリイソプロピルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施した。結果を表１に示した。

（実施例６）
ｄ−ＭＡＯの代わりに、ｄ−ＭＭＡＯ３Ａを用い、投入量を１２２ｍｇとし、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムの代わりに参考例７で合成した[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-(tert-ブチルジメチルシリル)-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施した。結果を表１に示した。

（比較例２）
ｄ−ＭＡＯの代わりに、ｄ−ＭＭＡＯ３Ａを用い、投入量を１２６ ｍｇとし、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジルスルファニル）]ジクロロハフニウム（０．５０ ｍｍｏｌ／Ｌ、トルエン溶液）１．０ ｍＬ（０．５０μｍｏｌ）の代わりに参考例３で合成した[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス（2-オキソイル-3,5-ジ-tert-ブチルベンジルスルファニル）]ジベンジルハフニウム（１．０ ｍｍｏｌ／Ｌ、トルエン溶液）２．０ｍＬ（２．０μｍｏｌ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施した。結果を表１に示した。

本発明は、炭素原子数３〜１０のオレフィンの重合に関する分野に有用である。

Claims (6)

1. 一般式（１）で表される錯体と活性化用助触媒成分を接触させてなる、炭素原子数３〜１０のオレフィン重合用触媒。
   

   

   （式中、ｎは２または３であり、
   Ｒ^１〜Ｒ^３およびＲ^７〜Ｒ^９は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のアルキニル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜３０のアラルキルオキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜１０の置換シリル基、または、環を構成する炭素原子数３〜２０のヘテロ環式化合物残基を表す。
   Ｒ^４〜Ｒ^６およびＲ^１０〜Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のアルキニル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜３０のアラルキルオキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０の置換シリル基、または、環を構成する炭素原子数３〜２０のヘテロ環式化合物残基を表す。
   上記Ｒ^１〜Ｒ^１６の定義に関わらず、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^１とＲ^３、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ⁴とＲ⁵、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^７とＲ⁹、Ｒ^８とＲ^９、Ｒ^１０とＲ^１１、Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１３とＲ^１４、およびＲ^１５とＲ^１６は、それぞれ独立に、それぞれ相互に連結して環を形成してもよく、これらの環は置換基を有していてもよい。
   Ｌは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、環を構成する炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜３０のアラルキルオキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０の置換シリル基、炭素原子数１〜２０の置換アミノ基、炭素原子数１〜２０の置換チオラート基、または炭素原子数１〜２０のカルボキシラート基を表す。
   隣接するＬ同士は、相互に連結して環を形成してもよい。）
2. Ｒ^１３〜Ｒ^１６が水素原子である請求項１に記載のオレフィン重合用触媒。
3. Ｒ^４、Ｒ^６、Ｒ^１０およびＲ^１２が水素原子である請求項１または２に記載のオレフィン重合用触媒。
4. Ｌが、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数７〜３０のアラルキル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜３０のアラルキルオキシ基、炭素原子数６〜３０のアリールオキシ基、または置換アミノ基、である請求項１〜３のいずれか一項に記載のオレフィン重合用触媒。
5. 活性化用助触媒成分がホウ素化合物および/または有機アルミニウム化合物である請求項１〜４のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒を用いてオレフィンを単独重合または共重合する、オレフィン単独重合体またはオレフィン共重合体の製造方法。