JP2013165134A - 瞳輝度分布の最適化方法、照明光学系およびその調整方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基準的な瞳輝度分布について変調パラメータの微小変化に応じたOPE値の変化をパラメータ毎に求める第1工程と、基準的な瞳輝度分布をターゲットとして得られるOPE値を得る第2工程と、第2工程で得られたOPE値が目標OPE値に近づくように変調された瞳輝度分布を求める第3工程と、第3工程で求めた変調された瞳輝度分布により得られるOPE値を予測する第4工程と、予測したOPE値が目標OPE値に近づくように変調された瞳輝度分布を求める第5工程と、第5工程で求めた変調された瞳輝度分布により得られるOPE値を予測する第6工程とを含み、予測したOPE値と目標OPE値との差が許容範囲に収まるまで第5工程および第6工程を繰り返す。
【選択図】 図6
Description
基準的な瞳輝度分布について、変調パラメータの微小変化に応じたOPE値の変化をパラメータ毎に求める第1工程と、
前記基準的な瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成された瞳輝度分布により得られるOPE値を得る第2工程と、
前記パラメータ毎のOPE値の変化を用いる最適化手法により、前記得られたOPE値が目標OPE値に近づくように変調された瞳輝度分布を求める第3工程と、
前記第3工程で求めた前記変調された瞳輝度分布により得られるOPE値を予測する第4工程と、
前記パラメータ毎のOPE値の変化を用いる最適化手法により、前記予測したOPE値が前記目標OPE値に近づくように変調された瞳輝度分布を求める第5工程と、
前記第5工程で求めた前記変調された瞳輝度分布により得られるOPE値を予測する第6工程とを含み、
前記予測したOPE値と前記目標OPE値との差が許容範囲に収まるまで前記第5工程および前記第6工程を繰り返すことにより、前記照明瞳に形成すべき瞳輝度分布を最適化することを特徴とする瞳輝度分布の最適化方法を提供する。
第1形態の最適化方法を用いて、前記照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳輝度分布を最適化することと、
前記最適化された瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成される瞳輝度分布を調整することとを含むことを特徴とする調整方法を提供する。
前記照明光学系の照明瞳に形成された瞳輝度分布を計測する瞳分布計測装置と、
前記照明瞳に形成される瞳輝度分布を調整する瞳調整装置と、
第1形態の最適化方法を用いて最適化された瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成される瞳輝度分布を調整するために前記瞳調整装置を制御する制御部とを備えることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
基準状態における調整量の微小変化に応じた前記像の形成状態の変化を、前記調整量毎に求める第1工程と、
前記基準状態での前記像の形成状態を得る第2工程と、
前記調整量毎の前記像の形成状態の変化を用いる最適化手法により、前記得られた像の形成状態が目標とする像の形成状態に近づくような調整量を求める第3工程と、
前記第3工程で求めた前記調整量を前記調整装置に適用したときに得られる像の形成状態を予測する第4工程と、
前記調整量毎の前記像の形成状態の変化を用いる最適化手法により、前記予測した像の形成状態が前記目標とする像の形成状態に近づくような調整量を求める第5工程と、
前記第5工程で求めた前記調整量を前記調整装置に適用したときに得られる像の形成状態を予測する第6工程とを含み、
前記予測した像の形成状態と前記目標とする像の形成状態との差が許容範囲に収まるまで前記第5工程および前記第6工程を繰り返すことにより、調整量を求めることを特徴とする算出方法を提供する。
Ψm(x,y)=Q[Ψo(x,y),Q1,Q2,・・・,Qi] (1)
Ψm(x,y)=T(x,y)Ψo(x,y) (2)
ここで、T(x,y)≡exp[ΣQi×fi(x,y)]
x’≡x+Dx(x,y) (3a)
y’≡y+Dy(x,y) (3b)
Dx(x,y)=Q4×{f2(x,y)} (4a)
Dy(x,y)=Q4×{−f3(x,y)} (4b)
Dist-1 F1*DX
Dist-2 F1*DY
Dist-3 F2*DX+F3*DY
Dist-4 F2*DX−F3*DY
Dist-5 F3*DX+F2*DY
Dist-6 F4*DX
Dist-7 F4*DY
Dist-8 F5*DX+F6*DY
Dist-9 F6*DX−F5*DY
Dist-10 F5*DX−F6*DY
Dist-11 F6*DX+F5*DY
Dist-12 F7*DX+F8*DY
Dist-13 F7*DX−F8*DY
Dist-14 F8*DX+F7*DY
Dist-15 F10*DX+F11*DY
Dist-16 F11*DX−F10*DY
Dist-17 F10*DX−F11*DY
Dist-18 F11*DX+F10*DY
Dist-19 F9*DX
Dist-20 F9*DY
Dist-21 F12*DX+F13*DY
Dist-22 F13*DX−F12*DY
Dist-23 F12*DX−F13*DY
Dist-24 F13*DX+F12*DY
Dist-25 F17*DX+F18*DY
Dist-26 F18*DX−F17*DY
Dist-27 FI7*DX−F18*DY
Dist-28 F18*DX+F17*DY
Dist-29 F14*DX+F15*DY
Dist-30 F14*DX−F15*DY
Dist-31 F15*DX+F14*DY
Dist-32 F19*DX+F20*DY
Dist-33 F20*DX−F19*DY
Dist-34 F19*DX−F20*DY
Dist-35 F20*DX+F19*DY
Dist-36 F26*DX+F27*DY
Dist-37 F27*DX−F26*DY
Dist-38 F16*DX
Dist-39 F16*DY
Dist-40 F21*DX+F22*DY
Dist-41 F22*DX−F21*DY
Dist-42 F21*DX−F22*DY
Dist-43 F22*DX+F21*DY
Dist-44 F28*DX+F29*DY
Dist-45 F29*DX−F28*DY
Dist-46 F23*DX+F24*DY
Dist-47 F23*DX−F24*DY
Dist-48 F24*DX+F23*DY
Dist-49 F30*DX+F31*DY
Dist-50 F31*DX−F30*DY
Dist-51 F25*DX
Dist-52 F25*DY
Dist-53 F32*DX+F33*DY
Dist-54 F33*DX−F32*DY
Dist-55 F34*DX+F35*DY
x’=ΣQi×{Di(x,y)・DX} (5a)
y’=ΣQi×{Di(x,y)・DY} (5b)
Ψm(x,y)=T(x,y)[Ψo{x+Dx(x,y),y+Dy(x,y)}
*PSF]+F (6)
Δ≡OPEr−OPEd (7)
Δ=Δ[Ψd(x,y),Q1,Q2,・・・,Qi] (8)
∂Δ/∂Q1,∂Δ/∂Q2,・・・,∂Δ/∂Qi (9)
Δ≒C1(∂Δ/∂Q1)+C2(∂Δ/∂Q2)
+・・・+Ci(∂Δ/∂Qi) (10)
2 ビーム送光部
3 空間光変調ユニット
30 空間光変調器
30a ミラー要素
30c 駆動部
32 Kプリズム
4 リレー光学系
5 マイクロフライアイレンズ
6 コンデンサー光学系
7 照明視野絞り(マスクブラインド)
8 結像光学系
IL 照明光学系
CR 制御部
DT 瞳分布計測装置
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (36)
- 第1面に配置されるパターンの像を第2面上に形成する結像光学系に照明光を供給する照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳輝度分布を最適化する方法であって、
基準的な瞳輝度分布について、変調パラメータの微小変化に応じたOPE値の変化をパラメータ毎に求める第1工程と、
前記基準的な瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成された瞳輝度分布により得られるOPE値を得る第2工程と、
前記パラメータ毎のOPE値の変化を用いる最適化手法により、前記得られたOPE値が目標OPE値に近づくように変調された瞳輝度分布を求める第3工程と、
前記第3工程で求めた前記変調された瞳輝度分布により得られるOPE値を予測する第4工程と、
前記パラメータ毎のOPE値の変化を用いる最適化手法により、前記予測したOPE値が前記目標OPE値に近づくように変調された瞳輝度分布を求める第5工程と、
前記第5工程で求めた前記変調された瞳輝度分布により得られるOPE値を予測する第6工程とを含み、
前記予測したOPE値と前記目標OPE値との差が許容範囲に収まるまで前記第5工程および前記第6工程を繰り返すことにより、前記照明瞳に形成すべき瞳輝度分布を最適化することを特徴とする瞳輝度分布の最適化方法。 - 前記第3工程は、前記得られたOPE値と前記目標OPE値との差を前記パラメータ毎の変化を用いた関数で近似することを含むことを特徴とする請求項1に記載の最適化方法。
- 前記第5工程は、前記予測したOPE値と前記目標OPE値との差を前記パラメータ毎の変化を用いた関数で近似することを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の最適化方法。
- 前記関数として、複数の前記パラメータ毎の変化を線形結合した関数を用いることを特徴とする請求項2または3に記載の最適化方法。
- 前記第3工程は、前記パラメータ毎の変化を用いて近似される関数が表す変調作用に対応する変調作用を前記基準的な瞳輝度分布に及ぼして前記変調された瞳輝度分布を求めることを含むことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記第5工程は、前記パラメータ毎の変化を用いて近似される関数が表す変調作用に対応する変調作用を前回の変調された瞳輝度分布に及ぼして今回の変調された瞳輝度分布を求めることを含むことを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記第2工程は、前記基準的な瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成された瞳輝度分布のもとで、前記第1面に配置される所定のパターンの像を前記第2面に設定された感光性基板に露光し、露光された結果から前記OPE値を得ることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記第2工程は、前記第2面に設定された感光性基板に形成されたレジストパターンの線幅を実測し、実測した線幅を前記OPE値として検出することを含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記第2工程は、前記第2面に形成されたパターン像の線幅を光学的に計測し、計測した線幅を前記OPE値として検出することを含むことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記第4工程および前記第6工程は、前記変調された瞳輝度分布により前記第2面に形成されるパターン空間像のシミュレーション結果に基づいて前記OPE値を予測することを含むことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記変調パラメータとして、透過率分布に対応する変調パラメータを用いることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記変調パラメータとして、収差に対応する変調パラメータを用いることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記収差に対応する変調パラメータとして、瞳輝度分布の変形に対応する変調パラメータを用いることを特徴とする請求項12に記載の最適化方法。
- 前記変調パラメータとして、ぼけ効果に対応する変調パラメータを用いることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記変調パラメータとして、フレア光に対応する変調パラメータを用いることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記変調パラメータの変化範囲がパラメータ毎に設定されていることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 前記変調パラメータとして、前記結像光学系のNAに対応する変調パラメータ、前記結像光学系に対する前記第2面のデフォーカスに対応する変調パラメータ、または球面収差に対応する変調パラメータを含むことを特徴とする請求項1乃至16のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 複数のNA値、複数のデフォーカス量、または複数の球面収差量について、他の変調パラメータの微小変化に応じたOPE値の変化をパラメータ毎に求めることを特徴とする請求項17に記載の最適化方法。
- 前記第2工程において前記基準的な瞳輝度分布をターゲットとした瞳輝度分布を前記照明瞳に形成する際に、前記第1面または前記第2面を通過した光に基づいて前記照明瞳と光学的に共役な面における光強度分布を計測することを特徴とする請求項1乃至18のいずれか1項に記載の最適化方法。
- 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系の調整方法において、
請求項1乃至19のいずれか1項に記載の最適化方法を用いて、前記照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳輝度分布を最適化することと、
前記最適化された瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成される瞳輝度分布を調整することとを含むことを特徴とする調整方法。 - 前記最適化された瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成される瞳輝度分布を調整する際に、前記被照射面を通過した光に基づいて前記照明瞳と光学的に共役な面における光強度分布を計測することを特徴とする請求項20に記載の調整方法。
- 前記照明光学系が備える空間光変調器であって且つ前記照明瞳に瞳輝度分布を形成するための空間光変調器を制御することによって、前記最適化された瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成される瞳輝度分布を調整することを特徴とする請求項20または21に記載の調整方法。
- 請求項20乃至22のいずれか1項に記載の調整方法により調整されたことを特徴とする照明光学系。
- 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
前記照明光学系の照明瞳に形成された瞳輝度分布を計測する瞳分布計測装置と、
前記照明瞳に形成される瞳輝度分布を調整する瞳調整装置と、
請求項1乃至19のいずれか1項に記載の最適化方法を用いて最適化された瞳輝度分布をターゲットとして前記照明瞳に形成される瞳輝度分布を調整するために前記瞳調整装置を制御する制御部とを備えることを特徴とする照明光学系。 - 前記瞳分布計測装置は、前記被照射面を通過した光に基づいて前記照明瞳と光学的に共役な面における光強度分布を計測することを特徴とする請求項24に記載の照明光学系。
- 前記瞳分布計測装置は、前記被照射面へ向かう光に基づいて前記照明瞳と光学的に共役な面における光強度分布を計測することを特徴とする請求項24に記載の照明光学系。
- 前記瞳調整装置は、所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明瞳に瞳輝度分布を可変的に形成する空間光変調器を備え、
前記制御部は、前記空間光変調器の前記複数の光学要素を制御することを特徴とする請求項24乃至26のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記空間光変調器は、前記所定面内で二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項27に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項20乃至28のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項29に記載の露光装置。
- 前記基準的な瞳輝度分布は設計上の瞳輝度分布であり、前記目標OPE値は前記設計上の瞳輝度分布により達成すべきOPE値であることを特徴とする請求項30に記載の露光装置。
- 前記基準的な瞳輝度分布は別の露光装置で用いられている瞳輝度分布であり、前記目標OPE値は前記別の露光装置において前記基準的な瞳輝度分布により得られているOPE値であることを特徴とする請求項30に記載の露光装置。
- 請求項29乃至32のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 第1面に配置されるパターンに照明光を供給する照明光学系と該パターンの像を第2面上に形成する結像光学系と組合せられる調整装置であって、前記第2面上での前記像の形成状態を調整する調整装置で用いられる調整量を算出する方法であって、
基準状態における調整量の微小変化に応じた前記像の形成状態の変化を、前記調整量毎に求める第1工程と、
前記基準状態での前記像の形成状態を得る第2工程と、
前記調整量毎の前記像の形成状態の変化を用いる最適化手法により、前記得られた像の形成状態が目標とする像の形成状態に近づくような調整量を求める第3工程と、
前記第3工程で求めた前記調整量を前記調整装置に適用したときに得られる像の形成状態を予測する第4工程と、
前記調整量毎の前記像の形成状態の変化を用いる最適化手法により、前記予測した像の形成状態が前記目標とする像の形成状態に近づくような調整量を求める第5工程と、
前記第5工程で求めた前記調整量を前記調整装置に適用したときに得られる像の形成状態を予測する第6工程とを含み、
前記予測した像の形成状態と前記目標とする像の形成状態との差が許容範囲に収まるまで前記第5工程および前記第6工程を繰り返すことにより、調整量を求めることを特徴とする算出方法。 - 前記調整装置は、前記照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳輝度分布を調整するものであって、
前記基準状態は、基準的な瞳輝度分布であって、
前記調整量は、瞳輝度分布の変調量であることを特徴とする請求項34に記載の算出方法。 - 前記像の形成状態は、OPE値であることを特徴とする請求項35に記載の算出方法。
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