JP2013157354A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
基板処理装置および基板処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013157354A JP2013157354A JP2012014546A JP2012014546A JP2013157354A JP 2013157354 A JP2013157354 A JP 2013157354A JP 2012014546 A JP2012014546 A JP 2012014546A JP 2012014546 A JP2012014546 A JP 2012014546A JP 2013157354 A JP2013157354 A JP 2013157354A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- guard
- gas
- suction ports
- nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】基板処理装置は、基板Wを水平に保持するスピンチャック3と、基板Wの上面に処理液を供給するノズルと、スピンチャック3を取り囲む筒状のガード54、55を含む。各ガード54、55の内周面59xには、ガード54、55の周方向に配列された複数の吸引口59aが形成されている。各ガード54、55は、複数の吸引口59aに気体を吸引して、放射状に広がる気流を基板W上に形成する。
【選択図】図2
Description
特許文献1に記載の枚葉式の基板処理装置は、処理室内に配置された基板載置プレートと、基板載置プレート上で基板の下面周縁部を支持する環状部材と、環状部材の内側で基板の下面を支持する複数の球体と、環状部材および球体に水平に支持された基板の上面に気化したHMDSを供給する供給装置とを備えている。
この構成によれば、複数の吸引口が、ガードの周方向に等間隔で配列されているので、放射状に広がる均一な気流が、基板上に形成される。したがって、雰囲気の滞留域が基板上に発生することを抑制または防止できる。そのため、汚染雰囲気を確実に排出できる。
この構成によれば、処理液供給手段から基板への処理液の供給が開始される前に、吸引口への気体の吸引が開始されるので、吸引口が気体を吸引している状態で、処理液供給手段からの処理液が基板に供給される。そのため、汚染雰囲気を確実に排出でき、基板の汚染を低減できる。
この構成によれば、処理液供給手段から基板への処理液の供給が終了した後に、吸引口への気体の吸引が終了されるので、処理液の供給終了後に汚染雰囲気が残留しているとしても、この汚染雰囲気を確実に排出できる。これにより、基板の汚染を低減できる。
この構成によれば、吸引装置からの吸引力が各吸引口に伝達され、基板上の気体が各吸引口に吸引される。すなわち、各吸引口が共通の吸引装置に接続されているので、複数の吸引装置を設けなくてもよい。そのため、基板処理装置の構成の複雑化を抑制または防止できる。
この構成によれば、対向部材の対向面が、基板の上方に配置されているので、汚染雰囲気の拡散が、対向部材によって抑制または防止される。さらに、ガードは、基板の上面と対向部材の対向面との間の気体を複数の吸引口に吸引するので、汚染雰囲気を確実に排出できる。そのため、汚染雰囲気との接触による基板の汚染をより確実に低減できる。
この構成によれば、対向面で開口する中心開口から気体が吐出される。中心開口は、基板の中央部に対向している。したがって、中心開口から吐出された気体は、基板と対向部材との間を放射状に広がる。そのため、基板と対向部材との間の気体は、複数の吸引口からの吸引力によって外方に引き寄せられるだけでなく、中心開口から吐出された気体によって外方に押し流される。これにより、基板と対向部材との間の気体が、基板の周囲に排出され、複数の吸引口に吸引される。したがって、汚染雰囲気を確実に排出でき、汚染雰囲気との接触による基板の汚染をより確実に低減できる。
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置1を水平な方向から見た模式図である。
基板処理装置1は、半導体ウエハなどの円板状の基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1は、処理室2と、基板Wを水平に保持して当該基板Wの中心を通る鉛直な基準線A1まわりに回転させるスピンチャック3(基板保持手段)と、基板Wの上面に対向する遮断板4(対向部材)とを含む。基板処理装置1は、さらに、液体や気体などの処理流体を基板Wに供給する複数本のノズル5〜10(処理液供給手段)と、スピンチャック3を取り囲む筒状のカップ11と、基板処理装置1に備えられた装置の動作やバルブの開閉を制御する制御装置12とを含む。複数本のノズルは、3本のスキャンノズル5〜7と、固定ノズル8と、二流体ノズル9と、中心軸ノズル10とを含む。
基板Wが処理されるときには、処理室2内に基板Wを搬入する搬入工程(S1)が行われる。具体的には、制御装置12は、スキャンノズル5〜7および二流体ノズル9を退避位置(基板Wの上方から離れた位置)に位置させる。さらに、制御装置12は、遮断板4を退避位置に位置させ、全てのガード54〜57を下位置に位置させる。この状態で、制御装置12は、図4に示す搬送ロボットRによって処理室2内に基板Wを搬入させる。その後、制御装置12は、搬送ロボットRによってスピンチャック3上に基板Wを載置させる。そして、制御装置12は、スピンチャック3によって基板Wを保持させる。制御装置12は、スピンチャック3上に基板Wが載置された後、搬送ロボットRを処理室2から退避させ、シャッター13を閉じる。
たとえば、前述の実施形態では、全てのガードに吸引口が形成されている場合について説明したが、一部のガードだけに吸引口が形成されていてもよい。
また、前述の実施形態では、カップが、複数のガードを備えている場合について説明したが、ガードの数は、1つであってもよい。
また、前述の実施形態では、ガードが気体の吸引を停止している状態で、SC1が基板に供給される場合について説明したが、ガードは、SC1の供給と並行して気体を吸引してもよい。たとえば、基板が処理室に搬入されてから搬出されるまで気体の吸引が継続されてもよい。
また、前述の実施形態では、基板処理装置が、円板状の基板を処理する装置である場合について説明したが、基板処理装置は、液晶表示装置用基板などの多角形の基板を処理する装置であってもよい。
3 :スピンチャック(基板保持手段)
4 :遮断板(対向部材)
4b :中心開口
4x :下面(対向面)
5 :第1スキャンノズル(処理液供給手段)
6 :第2スキャンノズル(処理液供給手段)
7 :第3スキャンノズル(処理液供給手段)
8 :固定ノズル(処理液供給手段)
9 :二流体ノズル(処理液供給手段)
10 :中心軸ノズル(処理液供給手段)
54 :第1ガード(内ガード)
55 :第2ガード(内ガード、外ガード)
56 :第3ガード(内ガード、外ガード)
57 :第4ガード(外ガード)
59 :傾斜部
59a :吸引口
59x :内周面
64 :吸引装置
W :基板
Claims (9)
- 基板を水平に保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持されている基板の上面に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記基板保持手段を取り囲んでおり、周方向に配列された複数の吸引口が内周面に形成されており、前記複数の吸引口に気体を吸引して、放射状に広がる気流を前記基板上に形成する筒状のガードとを含む、基板処理装置。 - 前記複数の吸引口は、前記ガードの前記周方向に等間隔で配列されている、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記ガードは、前記処理液供給手段から基板への処理液の供給が開始される前に前記複数の吸引口への気体の吸引を開始し、前記処理液供給手段から基板への処理液の供給と並行して前記複数の吸引口に気体を吸引する、請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記ガードは、前記処理液供給手段から基板への処理液の供給が終了した後に、前記複数の吸引口への気体の吸引を終了する、請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記ガードは、前記基板保持手段を取り囲む筒状の外ガードと、前記基板保持手段と前記外ガードとの間で前記基板保持手段を取り囲む筒状の内ガードとを含み、
前記外ガードは、前記基板より上方に配置された筒状の上端部を含み、前記外ガードの前記上端部の内周面に前記複数の吸引口が形成されており、
前記内ガードは、前記基板より下方に配置された筒状の上端部を含み、前記内ガードの前記上端部の内周面に前記複数の吸引口が形成されている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記複数の吸引口のそれぞれに接続された吸引装置をさらに含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板保持手段に保持されている基板の上面全域に対向する対向面を含む対向部材をさらに含み、
前記ガードは、前記基板と前記対向部材との間の気体を前記複数の吸引口に吸引する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記対向部材は、前記基板の中央部に対向する前記対向面内の位置で開口しており、前記基板の上面に向けて気体を吐出する中心開口をさらに含む、請求項7に記載の基板処理装置。
- 基板保持手段によって基板を水平に保持する保持工程と、
前記保持工程と並行して、前記基板の上面に処理液を供給する処理液供給工程と、
前記保持工程と並行して、前記基板保持手段を取り囲む筒状のガードの内周面に形成されており、前記ガードの周方向に配列された複数の吸引口に気体を吸引して、放射状に広がる気流を前記基板上に形成する吸引工程とを含む、基板処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012014546A JP5865093B2 (ja) | 2012-01-26 | 2012-01-26 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012014546A JP5865093B2 (ja) | 2012-01-26 | 2012-01-26 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013157354A true JP2013157354A (ja) | 2013-08-15 |
JP5865093B2 JP5865093B2 (ja) | 2016-02-17 |
Family
ID=49052281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012014546A Expired - Fee Related JP5865093B2 (ja) | 2012-01-26 | 2012-01-26 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5865093B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013157353A (ja) * | 2012-01-26 | 2013-08-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7113154B1 (ja) | 2022-03-03 | 2022-08-04 | 雅人 星 | グランドピアノ用大屋根支持具 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001189260A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及びその方法 |
JP2004223322A (ja) * | 2003-01-20 | 2004-08-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2008103611A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
-
2012
- 2012-01-26 JP JP2012014546A patent/JP5865093B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001189260A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及びその方法 |
JP2004223322A (ja) * | 2003-01-20 | 2004-08-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2008103611A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013157353A (ja) * | 2012-01-26 | 2013-08-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5865093B2 (ja) | 2016-02-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102102001B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP6229933B2 (ja) | 処理カップ洗浄方法、基板処理方法および基板処理装置 | |
TWI555585B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
JP6718714B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP6789038B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6363876B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
KR101035983B1 (ko) | 매엽식 기판 처리 장치 및 그 장치에서의 배기 방법 | |
WO2018037982A1 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2017092079A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2010093191A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2013207272A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5865093B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2013207265A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5308211B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6016096B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5967948B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
WO2017204088A1 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
TWI776063B (zh) | 基板處理方法及基板處理裝置 | |
KR102030038B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
TWI652763B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
JP5844092B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5824225B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6338275B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP7002605B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2013207266A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150924 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150924 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151210 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5865093 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |