JP2013150958A - ハニカムフィルタの封孔セル特定方法、製造方法、封孔セル特定装置、製造装置、プログラムおよびその記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】ハニカムフィルタの開孔セルと封孔セルとを容易に設定する。
【解決手段】Ａ面解析部３２は、ハニカムフィルタのＡ面の撮像データに基づいて各セルの重心位置を算出し、重心間の距離が所定距離以内であるセル同士の一方を開孔セルとし、他方を封孔セルとする。
【選択図】図１

Description

本発明は、所定方向に延伸するセルを多数備え、延伸方向の両端面において端部が開孔した開孔セルと端部が封孔された封孔セルとが互い違いに配置されている構成を有するハニカムフィルタを製造する際に端部を封孔するセルを特定するための技術に関するものである。

従来、例えば内燃機関等の排気ガス中に含まれる固体微粒子を捕捉するためのフィルタなどとして、所定方向に延伸するセルを多数備えたハニカムフィルタが用いられている。

この種のハニカムフィルタは、一般に、多孔質材料によって形成されており、各セルは延伸方向の一端側が開孔され、他端側が封孔（封止）されている。また、各セルは、延伸方向の各端部において、当該端部が開孔した開孔セルと当該端部が封孔された封孔セルとが互い違いになるように配置されている。すなわち、各セルは、延伸方向の各端部において開孔セルと封孔セルとが市松模様を成し、一端側の市松模様における開孔セルおよび封孔セルの位置と他端側の市松模様における開孔セルおよび封孔セルの位置とが反転するように配置されている。

この種のハニカムフィルタを製造する際には、まず、全てのセルが開孔した状態のハニカムフィルタの端面にフィルムを貼り付け、フィルムにおける封孔セルに対応する位置にレーザ等により孔（封孔剤注入孔）を開け、この封孔剤注入孔を介して封孔剤をセルの端部に注入することにより、当該セルの端部を封孔する方法が用いられている。

このため、開孔セルと封孔セルとが適切に配置されたハニカムフィルタを効率的に製造するためには、上記フィルムに対する孔開け位置（封孔セルの位置）を精度良くかつ効率的に特定する必要がある。また、ハニカムフィルタの端部における各セルの孔の形状が変形していたり、各セルの配列が歪んだりしている場合であっても、上記フィルムに対する孔開け位置を高精度に特定する必要がある。

そこで、例えば、特許文献１には、封孔すべきセルを選定するための技術として、所定のセル開口穴を基準として当該セル開口穴に隣接するセル仕切壁の方向を検出し、検出したセル仕切壁に基づいて栓詰め用穴とするか栓詰め不要穴とするかの識別対象とするセル開口穴を抽出する技術が記載されている。

特許第３７０５４８９号公報

しかしながら、上記特許文献１の技術では、セル仕切壁の検出に手間がかかるという問題、およびセル仕切壁の向きを精度良く検出することが困難であるという問題がある。

すなわち、セル仕切壁の向きはハニカムフィルタの設置位置によって変動するので、セル仕切壁の向きを精度良く検出することは容易ではない。また、実際の製造工程においては、ワークの周辺部あるいはセル仕切壁の変形等によって各セルの開口部の形状が正確な矩形形状ではなくなっている場合があり、そのような場合には特にセル仕切壁の向きを正確に検出することが困難になる。

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、封孔セルと開孔セルとが互い違いに配置されたハニカムフィルタの製造過程において、封孔セルの位置を容易かつ適切に設定することにある。

本発明の封孔セル特定方法は、所定方向に延伸するセルがセル仕切壁を介して互いに隣接するように多数配置され、上記各セルが延伸方向に貫通しているハニカム体における一部のセルのセル端部を封孔してハニカムフィルタを製造する際に上記セル端部を封孔するセルを特定するための封孔セル特定方法であって、上記ハニカム体における上記延伸方向の一端面を撮像して当該一端面の撮像データである第１撮像データを取得する第１撮像工程と、上記第１撮像データに基づいて上記一端面における各セルの重心位置を算出する第１重心算出工程と、上記重心位置間が所定距離以内であるセル同士の一方を上記一端面側の端部を開孔させる一端面側開孔セルとし、他方を上記一端面側の端部を封孔する一端面側封孔セルとして設定する第１封孔セル特定工程とを含むことを特徴としている。

上記の方法によれば、上記ハニカム体における上記延伸方向の一端面を撮像して当該一端面の撮像データである第１撮像データを取得し、上記第１撮像データに基づいて上記一端面における各セルの重心位置を算出する。この際、例えば、第１撮像データにおける撮像範囲を座標化し、上記重心位置を上記第１撮像データの座標系で示すようにしてもよい。そして、重心位置間が所定距離以内であるセル同士の一方を上記一端面側の端部を開孔させる一端面側開孔セルとし、他方を上記一端面側の端部を封孔する一端面側封孔セルとして設定する。これにより、各セルの重心位置に基づいて封孔セルの位置を特定することができるので、上述した従来技術のようにセル仕切壁の向きを検出する必要がなく、一端面側開孔セルと一端面側封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。また、ハニカムフィルタにおける各セルの配列方向と、撮像データの座標系の軸方向とが一致していない場合であっても、開孔セルと封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。

また、上記第１封孔セル特定工程において、基準セルを選定し、上記基準セルの重心位置から所定距離以内に重心位置を有するセルを対象セルとして選定し、上記基準セルを一端面側封孔セルおよび一端面側開孔セルのうちの一方に設定し、上記対象セルを一端面側封孔セルおよび一端面側開孔セルのうちの他方に設定するようにしてもよい。

上記の方法によれば、一端面側開孔セルと一端面側封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。

また、上記一端面側封孔セルの端部を封孔した後、上記一端面側開孔セルに入射した光が当該セルにおける上記ハニカム体の他端面側の端部から出射するように光を照射した状態で上記他端面を撮像して当該他端面の撮像データである第２撮像データを取得する第２撮像工程と、上記第２撮像データに基づいて上記他端面における上記一端面側開孔セルの位置を検出する一端面側開孔セル検出工程と、上記一端面側開孔セル検出工程で検出した位置に対応するセルを上記他端面側の端部を封孔する他端面側封孔セルとして設定する第２封孔セル特定工程とを含んでいてもよい。

上記の方法によれば、一端面側開孔セルから入射した光が当該セルにおける上記他端面側の端部から出射することを利用して、他端面の撮像データにおける一端面側開孔セルの位置（一端面側開孔セルの他端面における位置）を容易かつ適切に検出することができる。そして、その検出結果に応じて一端面側開孔セルを他端面側封孔セルとして設定し、一端面側封孔セルを他端面側開孔セルとして設定することができる。これにより、各セルの両端部の一方を開孔させ、他方を封孔させるとともに、各セルの延伸方向の両端面において開孔セルと封孔セルとが互い違いに配置された構成を有するハニカムフィルタを実現するように、他端面側開孔セルおよび他端面側封孔セルの位置を適切に設定することができる。

また、上記一端面側封孔セルの端部を封孔したハニカム体の上記他端面を、上記一端面に対して上記第２撮像工程で照射した上記光を照射していない状態で撮像した当該他端面の撮像データである第３撮像データを取得する第３撮像工程と、上記第３撮像データに基づいて上記他端面における各セルの重心位置を算出する第３重心算出工程と、上記他端面における上記第３重心算出工程で算出した重心位置間が上記所定距離以内であるセル同士の一方を上記他端面側の端部を開孔させる他端面側開孔セルとして仮設定し、他方を上記他端面側の端部を封孔する他端面側封孔セルとして仮設定した仮設定データを生成する封孔セル仮設定工程と、上記一端面側開孔セル検出工程で検出した各一端面側開孔セルの中から選択される判定基準セルの重心位置を算出する第２重心算出工程と、上記第３重心算出工程で重心位置を算出した各セルのうち、重心位置が上記判定基準セルの重心位置に最も近いセルを判定対象セルとして選択する判定対象セル選択工程とを含み、上記第２封孔セル特定工程では、上記判定対象セルを他端面側封孔セルにするように上記仮設定データを補正することにより、他端面側開孔セルおよび他端面側封孔セルの位置を特定する方法としてもよい。

上記の方法によれば、第３撮像工程で撮像した他端面の画像データに基づいて他端面における各セルの重心位置を適切に検出するとともに、一端面側開孔セルから入射した光が当該セルにおける上記他端面側の端部から出射することを利用して、他端面の撮像データにおける一端面側開孔セルの位置（一端面側開孔セルの他端面における位置）を容易かつ適切に検出することができる。これにより、各セルの両端部の一方を開孔させ、他方を封孔させるとともに、各セルの延伸方向の両端面において開孔セルと封孔セルとが互い違いに配置された構成を有するハニカムフィルタを実現するように、他端面側開孔セルおよび他端面側封孔セルの位置を適切に設定することができる。

また、上記ハニカムフィルタは、上記延伸方向の両端面において上記各セルが第１方向および第１方向と交差する第２方向に沿って並べて配置されており、かつ上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが第１方向および第２方向について互い違いに配置されている構成を有し、上記所定距離は、上記第１方向および上記第２方向に隣接して配置されたセル同士の重心間の距離以上、かつ上記第１方向および上記第２方向とは異なる方向に隣接して配置されたセル同士の距離未満に設定されている構成としてもよい。

上記の方法によれば、各セルの延伸方向の両端面において各セルが第１方向および第１方向と交差する第２方向に沿って並べて配置されており、かつ上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが第１方向および第２方向について互い違いに配置されている構成を有するハニカムフィルタを実現するように、開孔セルおよび封孔セルの位置を適切に設定することができる。

本発明のハニカムフィルタの製造方法は、所定方向に延伸するセルがセル仕切壁を介して互いに隣接するように多数配置され、上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが互い違いに配置されている構成を有するハニカムフィルタの製造方法であって、上記ハニカム体における上記延伸方向の一端面に第１フィルム部材を貼り付ける工程と、上述した封孔セル特定方法を用いて一端面側封孔セルを特定する工程と、上記第１フィルム部材における上記一端面側封孔セルに対応する位置に封孔材料を注入するための封孔材料注入孔を穿孔する工程と、上記一端面側封孔セルにおける上記一端面側の端部に上記封孔材料注入孔を介して封孔材料を注入することにより当該一端面側封孔セルにおける上記一端面側の端部を封孔する工程と、上記各セルにおける上記他端側の端部を封孔する前のハニカムフィルタにおける上記他端面に第２フィルム部材を貼り付ける工程と、上述した封孔セル特定方法を用いて他端面側封孔セルを特定する工程と、上記第２フィルム部材における上記他端面側封孔セルに対応する位置に封孔材料を注入するための封孔材料注入孔を穿孔する工程と、上記他端面側の端部に上記封孔材料注入孔を介して封孔材料を注入することにより当該他端面側封孔セルにおける上記他端面側の端部を封孔する工程とを含むことを特徴としている。

上記の方法によれば、開孔セルの位置と封孔セルの位置とを容易かつ適切に設定するとともに、封孔セルを適切に封孔することができる。

本発明の封孔セル特定装置は、所定方向に延伸するセルがセル仕切壁を介して互いに隣接するように多数配置され、上記各セルが延伸方向に貫通しているハニカム体における一部のセルのセル端部を封孔してハニカムフィルタを製造する際に上記端部を封孔するセルを特定する封孔位置特定部を備えた封孔セル特定装置であって、上記封孔位置特定部は、上記ハニカム体における上記延伸方向の一端面の撮像データである第１撮像データを取得し、上記第１撮像データに基づいて上記一端面における各セルの重心位置を算出し、上記重心位置間が所定距離以内であるセル同士の一方を上記一端面側の端部を開孔させる一端面側開孔セルとし、他方を上記一端面側の端部を封孔する一端面側封孔セルとして設定する第１封孔位置特定部を備えていることを特徴としている。

上記の構成によれば、上記各セルの端部を封孔する前のハニカムフィルタにおける上記延伸方向の一端面を撮像して当該一端面の撮像データを取得し、上記撮像データに基づいて上記一端面における各セルの重心位置を算出する。そして、上記一端面における重心間の距離が所定距離以内であるセル同士の一方を上記一端面側の端部を開孔させる一端面側開孔セルとし、他方を上記一端面側の端部を封孔する一端面側封孔セルとして設定する。これにより、各セルの重心位置に基づいて封孔セルの位置を特定することができるので、上述した従来技術のようにセル仕切壁の向きを検出する必要がなく、開孔セルと封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。また、ハニカムフィルタにおける各セルの配列方向と、撮像データの座標系の軸方向とが一致していない場合であっても、開孔セルと封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。

また、上記ハニカムフィルタは、上記延伸方向の両端面において上記各セルが第１方向および第１方向と交差する第２方向に沿って並べて配置されており、かつ上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが第１方向および第２方向について互い違いに配置されている構成を有し、上記所定距離は、上記第１方向および上記第２方向に隣接して配置されたセル同士の重心間の距離以上、かつ上記第１方向および上記第２方向とは異なる方向に隣接して配置されたセル同士の距離未満に設定されている構成としてもよい。

上記の構成によれば、各セルの延伸方向の両端面において各セルが第１方向および第１方向と交差する第２方向に沿って並べて配置されており、かつ上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが第１方向および第２方向について互い違いに配置されている構成を有するハニカムフィルタを実現するように、開孔セルおよび封孔セルの位置を適切に設定することができる。

また、上記封孔位置特定部は、上記一端面側封孔セルの端部を封孔したハニカム体の上記一端面側開孔セルに入射した光が当該セルにおける上記他端面側の端部から出射するように光を照射した状態で上記他端面を撮像した当該他端面の撮像データに基づいて上記他端面における上記一端面側開孔セルの位置を検出し、検出した上記一端面側開孔セルの位置に対応するセルを上記他端面側の端部を封孔する他端面側封孔セルとして設定する第２封孔位置特定部を備えている構成としてもよい。

上記の構成によれば、一端面側開孔セルから入射した光が当該セルにおける上記他端面側の端部から出射することを利用して、他端面の撮像データにおける一端面側開孔セルの位置（一端面側開孔セルの他端面における位置）を容易かつ適切に検出することができる。そして、その検出結果に応じて一端面側開孔セルを他端面側封孔セルとして設定することにより、各セルの両端部の一方を開孔させ、他方を封孔させるとともに、各セルの延伸方向の両端面において開孔セルと封孔セルとが互い違いに配置された構成を有するハニカムフィルタを実現するように、他端面側開孔セルおよび他端面側封孔セルの位置を適切に設定することができる。

また、上記第２封孔位置特定部は、上記一端面側封孔セルの端部を封孔したハニカム体の上記他端面を上記一端面に対して上記光を照射していない状態で撮像した当該他端面の撮像データに基づいて上記他端面における各セルの重心位置を算出し、算出した上記重心位置間が上記所定距離以内であるセル同士の一方を上記他端面側の端部を開孔させる他端面側開孔セルとして仮設定し、他方を上記他端面側の端部を封孔する他端面側封孔セルとして仮設定した仮設定データを生成し、上記一端面に対して上記光を照射した状態で上記他端面を撮像した上記他端面の撮像データに基づいて上記各一端面側開孔セルの重心位置を算出し、上記各一端面側開孔セルのうちのいずれか１つを判定基準セルとして選択し、上記仮設定データに含まれる各セルのうち、重心位置が上記判定基準セルの重心位置に最も近いセルを判定対象セルとして選択し、上記判定対象セルを他端面側封孔セルにするように上記仮設定データを補正することにより、他端面側開孔セルおよび他端面側封孔セルの位置を特定する構成としてもよい。

上記の構成によれば、上記一端面における上記一端面側封孔セルの端部を封孔した後、上記各セルの上記延伸方向の他端面側の端部を封孔する前のハニカムフィルタにおける上記一端面に対して上記一端面側開孔セルに入射した光が当該セルにおける上記他端面側の端部から出射するように光を照射した場合に上記光が当該セルにおける上記他端面側の端部から出射することを利用して、セルの両端部の一方を開孔させ、他方を封孔させるとともに、各セルの延伸方向の両端面において開孔セルと封孔セルとが互い違いに配置された構成を実現するように、他端面側開孔セルおよび他端面側封孔セルの位置を適切に設定することができる。

本発明のハニカムフィルタの製造装置は、所定方向に延伸するセルがセル仕切壁を介して互いに隣接するように多数配置され、上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが互い違いに配置されている構成を有するハニカムフィルタの製造装置であって、上述したいずれかの封孔セル特定装置を備え、上記第１封孔位置特定部は、上記一端面に第１フィルム部材が貼り付けられた状態のハニカムフィルタにおける上記一端面側封孔セルの位置を設定し、上記第２封孔位置特定部は、上記他端面に第２フィルム部材が貼り付けられた状態のハニカムフィルタにおける上記他端面側封孔セルの位置を設定し、上記第１フィルム部材における上記第１封孔位置特定部が設定した上記一端面側封孔セルに対応する位置、および上記第２フィルム部材における上記第２封孔位置特定部が設定した上記他端面側封孔セルに対応する位置に封孔材料を注入するための封孔材料注入孔を穿孔する穿孔装置を備えていることを特徴としている。

上記の構成によれば、開孔セルの位置と封孔セルの位置とを容易かつ適切に設定するとともに、封孔セルを適切に封孔することができる。

なお、上記封孔セル特定装置は、コンピュータによって実現してもよく、この場合には、コンピュータを上記封孔位置特定部として動作させることにより、上記封孔セル特定装置をコンピュータにて実現させるプログラム、およびそれを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体も、本発明の範疇に含まれる。

以上のように、本発明の封孔セル特定方法および封孔セル特定装置によれば、各セルの重心位置に基づいて封孔セルの位置を特定することができるので、上述した従来技術のようにセル仕切壁の向きを検出する必要がなく、開孔セルと封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。

本発明の一実施形態にかかる製造装置（封孔セル特定装置）の構成を示すブロック図である。 （ａ）〜（ｃ）は図１に示した製造装置における各部材の配置を模式的に示した説明図である。 図１に示した製造装置を用いて行われる封孔処理の流れを示すフローチャートである。 図１に示した製造装置に備えられる封孔位置特定部の構成を示すブロック図である。 図３に示した封孔処理のうち、ハニカムフィルタの一端面における封孔セルを特定するための処理の流れを示すフローチャートである。 図５の処理において用いられる、ハニカムフィルタの一端面を撮像した撮像データにおける輝度値毎の画素数の一例を示すグラフである。 図５の処理の一部として行われる、撮像データからノイズ成分を除外するための処理を示す説明図である。 （ａ）は図５の処理において用いられる撮像データにおける各有効セルの重心位置を示す説明図であり、（ｂ）および（ｃ）は図５の処理において生成されるセルデータの例を示す説明図である。 （ａ）〜（ｃ）は、図５の処理において封孔セルとするか開孔セルとするかを判定する候補セルの抽出方法を示す説明図である。 （ａ）および（ｂ）は、図５の処理における候補セルのうち、対象セルを封孔セルとするか開孔セルとするかを判定する判定方法を示す説明図である。 （ａ）および（ｂ）は、図５の処理における候補セルのうち、対象セルを封孔セルとするか開孔セルとするかを判定する判定方法を示す説明図である。 図３に示した封孔処理のうち、ハニカムフィルタの他端面における封孔セルを特定するための処理の流れを示すフローチャートである。 図１２の処理において用いられる、ハニカムフィルタの他端面を撮像した撮像データにおける輝度値毎の画素数の一例を示すグラフである。 （ａ）は図１２の処理において抽出される判定基準セルの例を示す説明図であり、（ｂ）は図１２の処理において抽出される判定対象セルの例を示す説明図である。 図１に示した製造装置によって封孔処理が行われるハニカムフィルタにおけるセル形状の変形例を示す説明図である。 図１に示した製造装置によって封孔処理が行われるハニカムフィルタにおけるセル形状の変形例を示す説明図である。

本発明の一実施形態について説明する。

（１−１．製造装置の全体構成）
図１は本実施形態にかかる製造装置（封孔セル特定装置）１の構成を示すブロック図であり、図２（ａ）〜図２（ｃ）は製造装置（封孔セル特定装置）１における各部材の配置を模式的に示した説明図である。

図１に示すように、製造装置１は、上部照明装置１１、下部照明装置１２、撮像装置１３、穿孔装置１４、制御部１５、および記憶部１６を備えている。また、制御部１５は、照明制御部２１、撮像制御部２２、穿孔制御部２３、および封孔位置特定部２４を備えている。また、封孔位置特定部２４は、２値化処理部３１、Ａ面解析部（第１封孔位置特定部）３２、およびＢ面解析部（第２封孔位置特定部）３３を備えている。

上部照明装置１１は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように、製造装置１に備えられる保持手段（図示せず）によって所定位置に保持されるハニカムフィルタ（ワーク）Ｗの上方に配置され、このハニカムフィルタＷの上面に光を照射する。なお、図２（ａ）および図２（ｂ）に示した例では２つの上部照明装置１１がそれぞれハニカムフィルタＷに対して斜め上方の位置に備えられているが、上部照明装置１１の個数および配置位置は特に限定されるものではなく、ハニカムフィルタＷの上面を略均一に照明できる構成であればよい。

下部照明装置１２は、図２（ｃ）に示したように、上記保持手段によって所定位置に保持されるハニカムフィルタＷの下方に配置されており、このハニカムフィルタＷの下面に光を照射する。なお、ハニカムフィルタＷはセルの延伸方向が鉛直方向を向くように上記保持手段によって保持され、下部照明装置１２はセルの延伸方向に略平行な方向の光を出射してハニカムフィルタＷの下面に照射するようになっている。

撮像装置１３は、上記保持手段によって所定位置に保持されるハニカムフィルタＷの鉛直方向上方に配置され、このハニカムフィルタＷの上面を撮像する。なお、撮像装置１３に備えられる撮像素子としては、例えば、ＣＭＯＳ（complementary mental oxide semiconductor device）イメージセンサやＣＣＤ（charge coupled device）イメージセンサなどを用いることができる。本実施形態では、２０４８画素×２０４８画素の解像度を有する撮像装置を用いた。

穿孔装置１４は、ハニカムフィルタＷの端面に貼り付けられたフィルム（マスク）における封孔セルに対応する位置に孔（封孔剤注入孔）をあける装置である。穿孔装置１４の構成は、上記フィルムにおける所定位置に封孔セルのサイズに応じた孔をあけることができるものであればよく、特に限定されるものではないが、本実施形態ではレーザ光を照射することによって上記フィルムに孔をあける構成の穿孔装置を用いた。

制御部１５は、製造装置１に備えられる各部の動作を制御する機能、および撮像装置１３によるハニカムフィルタＷの撮像結果に基づいてハニカムフィルタＷにおける封孔セルの位置を特定する機能を有している。

具体的には、制御部１５は、上部照明装置１１および下部照明装置１２のオン／オフを制御する照明制御部２１と、撮像装置１３の動作を制御する撮像制御部２２と、穿孔装置１４の動作を制御する穿孔制御部２３と、撮像装置１３によるハニカムフィルタＷの撮像結果に基づいてハニカムフィルタＷにおける封孔セルの位置を特定する封孔位置特定部２４とを有している。

また、封孔位置特定部２４は、撮像装置１３によって撮像された画像データを２値化して２値化画像データを生成する２値化処理部３１と、ハニカムフィルタＷにおける一方の端面（端面Ａ）の撮像結果を解析して当該端面Ａにおける封孔セル（一端面側封孔セル）の位置を特定するＡ面解析部３２と、ハニカムフィルタＷにおける他方の端面（端面Ｂ）の撮像結果を解析して当該端面Ｂにおける封孔セル（他端面側封孔セル）の位置を特定するＢ面解析部３３とを備えている。これら各部の詳細については後述する。

なお、制御部１５は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）や専用プロセッサなどの演算処理部、および、ＲＡＭ(Random Access Memory）、ＲＯＭ（Read Only Memory,）、ＨＤＤ（Hard Disc Drive）などの記憶部（いずれも図示せず）などにより構成されるコンピュータ装置である。制御部１５は、上記記憶部に記憶されている各種情報および各種制御を実施するためのプログラムを読み出して実行することで上記各機能を実現する。ただし、制御部１５は、ソフトウェアを用いて実現されるものに限るものではなく、例えば、ハードウェアロジックによって構成されるものであってもよく、処理の一部を行うハードウェアと当該ハードウェアの制御や残余の処理を行うソフトウェアを実行する演算手段とを組み合わせたものであってもよい。

（１−２．封孔処理の概要）
次に、ハニカムフィルタＷの両面に対する封孔処理について、図３を参照しながら説明する。図３は、封孔処理の流れを示すフローチャートである。

まず、図２（ａ）に示すように、ハニカムフィルタＷを、セル延伸方向の一方の面（Ａ面）が上方を向くように製造装置１の保持手段（図示せず）に保持させ（Ｓ１）、このＡ面に封孔材料を注入する際のマスクとなるフィルムを貼り付ける（Ｓ２）。なお、ハニカムフィルタＷにフィルムを貼り付けてからハニカムフィルタＷを保持手段に保持させるようにしてもよい。また、上記フィルムは封孔材料を遮蔽でき、かつ上部照明装置１１から照射された光を透過する性質を有する材料であれば特に限定されるものではなく、従来から公知の各種フィルム材料を用いることができる。本実施形態では、ＰＥＴ（polyethylene terephthalate）製のフィルムを用いた。

次に、制御部１５は、図２（ａ）に示すように、上部照明装置１１によってハニカムフィルタＷの上面（Ａ面）を照明した状態で撮像装置１３にハニカムフィルタＷのＡ面を撮像させ、Ａ面の撮像データ（第１撮像データ）を取得する（Ｓ３、第１撮像工程）。そして、このＡ面の撮像データに基づいてＡ面側の端部を封孔するＡ面側封孔セル（一端面側封孔セル）の位置を特定するＡ面封孔位置特定処理を行う（Ｓ４）。Ａ面封孔位置特定処理の詳細については後述する。

次に、制御部１５は、穿孔装置１４を制御してＡ面に貼り付けたフィルムにおけるＳ４で特定した封孔セルに対応する位置に封孔材料を注入するための孔（封孔材料注入孔）を穿孔させる（Ｓ５）。その後、封孔材料注入孔に封孔材料を注入し（Ｓ６）、注入した封孔材料を乾燥させ（Ｓ６）、フィルムを除去する（Ｓ７）。これにより、Ａ面側封孔セルに対する封孔処理が完了する。なお、封孔材料注入孔に注入した封孔材料を硬化あるいは定着させる方法は、封孔材料を乾燥させる方法に限るものではなく、他の方法を用いてもよい。例えば、焼成によって封孔材料を硬化あるいは定着させてもよい。また、フィルムを除去する工程はこの段階に限るものではなく、封孔材料注入孔に封孔材料を注入した後の任意のタイミングで行えばよい。例えば、Ｂ面の封孔処理を行った後であってもよい。また、封孔材料の注入処理を行う注入装置（図示せず）を備え、制御部１５がこの注入装置の動作を制御することにより封孔材料の注入処理を行うようにしてもよく、封孔材料の注入処理を手動で行うようにしてもよい。また、封孔材料は特に限定されるものではなく、例えば従来から公知の各種封孔材料を用いることができる。

次に、図２（ｂ）に示すように、ハニカムフィルタＷを、セル延伸方向の他方の面（Ｂ面）が上方を向くように製造装置１の保持手段に保持させ（Ｓ９）、このＢ面に封孔材料を注入する際のマスクとなるフィルムを貼り付ける（Ｓ１０）。なお、ハニカムフィルタＷのＢ面にフィルムを貼り付けてから保持手段に保持させるようにしてもよい。また、上記フィルムは、封孔材料を遮蔽でき、かつ下部照明装置１２から出射される光を透過する性質を有する材料であれば特に限定されるものではなく、従来から公知の各種フィルム材料を用いることができる。本実施形態では、Ａ面に対する封孔処理時に用いたフィルムと同様、ＰＥＴ製のフィルムを用いた。

次に、制御部１５は、（１）上部照明装置１１によってハニカムフィルタＷの上面（Ｂ面）を照明し、かつ下部照明装置１２を消灯させた状態（図２（ａ）参照）で撮像装置１３によってハニカムフィルタＷのＢ面を撮像（第３撮像工程）させて上面照明時のＢ面の撮像データ（第３撮像データ）を取得し、（２）上部照明装置１１を消灯させ、下部照明装置１２によってハニカムフィルタＷの下面（Ａ面）を照明した状態（図２（ｂ））でハニカムフィルタＷのＢ面を撮像（第２撮像工程）させて下面照明時のＢ面の撮像データ（第２撮像データ）を取得する（Ｓ１１）。なお、上面照明時のＢ面の撮像データの取得処理、および下面照明時のＢ面の撮像データの取得処理の順序は特に限定されるものではなく、どちらが先であってもよい。ただし、これら両処理を行う期間中、ハニカムフィルタＷを保持手段によって一定の保持位置に保持し、撮像装置１３をハニカムフィルタＷに対する相対位置が変化しないように固定しておく。また、撮像装置１３による撮像条件は、照明状態が異なる以外は同条件に設定する。

そして、これらのＢ面の撮像データ（上面照明時の撮像データおよび下面照明時の撮像データ）に基づいてＢ面側の端部を封孔するＢ面側封孔セル（他端面側封孔セル）の位置を特定するＢ面封孔位置特定処理を行う（Ｓ１２）。Ｂ面封孔位置特定処理の詳細については後述する。なお、下面照明時の撮影データを利用することにより、Ａ面・Ｂ面の自動認識処理を行うこともできる。

次に、制御部１５は、穿孔装置１４を制御してＢ面に貼り付けたフィルムにおけるＳ１２で特定した封孔セルに対応する位置に封孔材料を注入するための孔（封孔材料注入孔）を穿孔させる（Ｓ１３）。その後、封孔材料注入孔に封孔材料を注入し（Ｓ１４）、注入した封孔材料を乾燥させ（Ｓ１５）、フィルムを除去する（Ｓ１６）。これにより、Ｂ面側封孔セルに対する封孔処理が完了する。なお、Ａ面側封孔セルの場合と同様、封孔材料注入孔に注入した封孔材料を硬化あるいは定着させる方法は、封孔材料を乾燥させる方法に限るものではなく、他の方法を用いてもよい。例えば、焼成によって封孔材料を硬化あるいは定着させてもよい。また、フィルムを除去する工程はこの段階に限るものではなく、封孔材料注入孔に封孔材料を注入した後の任意のタイミングで行えばよい。例えば、Ｂ面の封孔処理を行った後であってもよい。また、Ａ面の封孔処理と同様、封孔材料の注入処理は注入装置を用いて行ってもよく、手動で行ってもよい。また、封孔材料は特に限定されるものではなく、例えば従来から公知の各種封孔材料を用いることができる。

（１−３．Ａ面封孔位置特定処理）
次に、図３に示したＳ４の処理、すなわちＡ面封孔位置特定処理についてより詳細に説明する。図４は、制御部１５に備えられる封孔位置特定部２４の構成をより詳細に示したブロック図である。また、図５は、Ａ面封孔位置特定処理の流れを示すフローチャートである。

図４に示すように、封孔位置特定部２４は、２値化処理部３１と、Ａ面解析部３２と、Ｂ面解析部３３とを備えている。また、Ａ面解析部３２は、Ａ面セル候補抽出部４１、Ａ面有効セル抽出部４２、Ａ面セルデータ生成部４３、およびＡ面封孔位置特定部４４を備えている。また、Ｂ面解析部３３は、Ｂ面セル候補抽出部５１、Ｂ面有効セル抽出部５２、Ｂ面セルデータ生成部５３、Ａ面開孔位置検出部５４、およびＢ面封孔位置特定部５５を備えている。

まず、２値化処理部３１は、Ｓ３で取得したＡ面の撮像データ（上部照明装置１１によってＡ面を照明した状態でＡ面を撮像して取得した撮像データ）を、輝度値が２値化閾値ｌｖ１以上であるか否かに応じて２値化し、２値化画像データを生成する（Ｓ２１）。

図６は、Ａ面撮像データにおける輝度値毎の画素数の一例を示すグラフである。Ａ面撮像データでは、セル同士の間に配置されるセル仕切壁では上部照明装置１１の照明光が反射されるのでセル仕切壁の部分の輝度値が高くなる。また、ハニカムフィルタＷの周辺の反射率が高い色または材質からなる背景部分では上部照明装置１１からの光によって輝度値が高くなる。一方、セル部分では、上部照明装置１１の照明光がセル内に入射するため、Ａ面撮像データにおけるセル部分の輝度値はセル仕切壁の部分や背景部分に比べて低くなる。このため、図６に示すように、Ａ面撮像データにおける輝度値毎の画素数を示すグラフでは、画素数のピークが２つ存在する。そこで、２値化処理部３１は、２値化閾値ｌｖ１をこれら２つのピークの中間の輝度値に設定し、各画素の輝度値が２値化閾値ｌｖ１以上であるか否かに応じてＡ面撮像データを２値化することにより、セル部分とその他の部分（セル仕切り壁および背景部分）とを識別する。なお、２値化閾値ｌｖ１は、例えば、事前に実験を行うなどして、セル部分とその他の部分（セル仕切り壁および背景部分）とを適切に識別できるように予め設定しておいてもよい。

次に、Ａ面セル候補抽出部４１は、Ｓ２１で生成した２値化画像データにおける画素値０の画素（２値化前の撮像データにおいて階調値が２値化閾値ｌｖ１未満である画素）が連続する各領域について、当該各領域の画素数（面積）を算出し、画素数が所定範囲内である領域をセル候補とし、画素数が所定範囲外である領域をセル候補から除外するセル候補抽出処理を行う（Ｓ２２）。

図７は、セル候補抽出処理の概要を示す説明図である。セル候補抽出処理では、各セルの開口面積（画素数）が略一定であるという特徴を利用し、画素数が所定範囲外である領域をセル候補から除外する。これにより、撮像時のゴミの付着等に起因して画素値０の画素が連続している領域をセルとは異なるノイズ成分としてセル候補から除外することができる。なお、図７に示す例では、セル候補と判定する画素数の下限値（セル候補面積下限値）ｓｚ１を５０とし、セル候補と判定する画素数の上限値（セル候補面積上限値）ｓｚ２を１１０とした。すなわち、画素数５０以上１１０以下の領域をセル候補とし、画素数が５０未満である領域および画素数が１１０より多い領域をセル以外のノイズ成分としている。ただし、セル候補として抽出する領域の画素数の上限値および下限値はこれに限るものではなく、例えばハニカムフィルタＷのサイズ、各セルのサイズ、撮像装置１３の解像度などの各種条件に応じて適宜設定すればよい。なお、本実施形態にかかるハニカムフィルタＷにおける各セルは、開口部の形状が１．４ｍｍ×１．４ｍｍの正方形形状を有している。ただし、各セルの形状およびサイズはこれに限るものではない。

次に、Ａ面有効セル抽出部４２は、Ｓ２２で抽出されたセル候補の中から予め設定されるセルの基準面積ｓｚ３に対する面積比が所定の面積閾値ｌｖ２以上であるセル候補を有効セルとして抽出する有効セル抽出処理を行う（Ｓ２３）。本実施形態では、上記の面積閾値ｌｖ２を基準面積ｓｚ３の６０％に設定している。ただし、面積閾値ｌｖ２の値はこれに限るものではなく、例えばハニカムフィルタＷのサイズ、各セルのサイズ、撮像装置１３の解像度などの各種条件に応じて適宜設定すればよい。この有効セル抽出処理により、例えば、ハニカムフィルタＷの周縁部に配置され、中央部に配置されている各セルよりも小さなセル（セルの一部が周縁部で切り欠かれたセル）などの場合、以降の解析から除外することができる。

次に、Ａ面セルデータ生成部４３は、Ｓ２３で抽出された各有効セルの重心（Ａ面撮像データの座標系における座標）を算出するとともに（第１重心算出工程）、各有効セルを重心座標に応じた順序で並べたセルデータを生成する（Ｓ２４）。

図８（ａ）はＡ面撮像データにおける各有効セルおよび各有効セルの重心位置の一例を模式的に示した説明図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）に示した撮像データに基づいて生成されるセルデータの一部を示す説明図である。

本実施形態では、Ａ面セルデータ生成部４３は、各有効セルの重心座標を、ｙ軸の座標値が小さい位置から順にｘ軸方向にソートしていき、重心座標が検出された順に各有効セルにセル番号を付し、セル番号、重心座標（ｘ，ｙ）、および画素数をセル番号順に並べたリストをセルデータとして生成する。

具体的には、Ａ面セルデータ生成部４３は、各有効セルの重心座標を算出した後、座標（０，０）からｘ軸方向に沿って有効セルの重心座標をソートしていく。すなわち、ｙ＝０のラインに沿って、ｘ座標の値を０から１つずつ増加させていき、有効セルの重心座標が存在するか否かをソートしていく。ｘ座標の最大値（本実施形態では２０４７）までソートすると、ｙ座標の値を１つ増加させ、ｙ＝１のラインに沿って、ｘ座標の値を０から１つずつ増加させて有効セルの重心座標として検出された座標が存在するか否かをソートしていく。そして、同様の処理をｙ座標の最大値（本実施形態では２０４７）に対応するラインのｘ軸方向の最後の画素（本実施形態では（ｘ，ｙ）＝（２０４７，２０４７））まで行い、全ての有効セルについてのリスト（セルデータ）を生成する。

次に、Ａ面セルデータ生成部４３は、Ｓ２４で生成したセルデータに対して、各有効セルを開孔セルとするか封孔セルとするかを示す開孔／封孔フラグ、および、開孔セルとするか封孔セルとするかの判定処理（決定処理）を既に実施したセル（処理済のセル）であるのか、実施中のセル（処理中のセル）であるのか、あるいは未実施のセル（未処理のセル）であるのかを示す処理状態フラグを付加するフラグ付加処理を行う（Ｓ２５）。図８（ｃ）はフラグ付加処理後のセルデータの一部を示す説明図である。なお、初期状態では、各有効セルの開孔／封孔フラグは開孔セルであることを示す値に設定され、各有効セルの処理状態フラグは判定処理を未実施のセルであることを示す値に設定される。

次に、Ａ面封孔位置特定部４４は、セルデータに含まれる有効セルの中から開孔セルとするか封孔セルとするかを判定（決定）する対象セルである基準セルを選択する（Ｓ２６、第１封孔セル特定工程）。なお、基準セルの初回選択時には、セル番号が最も小さい有効セルを基準セルとして選択する。また、２回目以降の基準セルの選択時には、処理状態フラグが処理中である有効セルのうち、セル番号が最も小さい有効セルを基準セルとして選択する。

次に、Ａ面封孔位置特定部４４は、基準セルの重心と各有効セルの重心との距離を算出し、算出した距離が所定距離（検索範囲）ｒａ１以内である有効セルを候補セルとして抽出する（Ｓ２７、第１封孔セル特定工程）。上記の所定距離ｒａ１は、基準セルに対して各有効セルによって形成されるマトリックスの行方向、列方向、および斜め方向（行方向および列方向に対して傾斜した方向）に隣接する最大８個の有効セルのうち、行方向および列方向（セル同士を区画する仕切壁の仕切面（セル側の面）に対して垂直な方向および水平な方向）に隣接する有効セルの重心と基準セルの重心との距離が当該所定距離ｒａ１内に含まれる一方、斜め方向に隣接する有効セルの重心と基準セルとの距離が当該所定距離ｒａ１内に含まれないように設定される。すなわち、上記所定距離ｒａ１は、各有効セルによって形成されるマトリックスの行方向および列方向に隣接するセル同士の重心間の距離以上、かつ行方向および列方向に対して傾斜した方向に隣接するセル同士の重心間の距離未満に設定される。

図９（ａ）〜図９（ｃ）は、候補セルの抽出方法を示す説明図である。本実施形態では、まず、Ａ面封孔位置特定部４４が、図９（ａ）に示すように、撮像データの座標系において基準セルｅに対してｘ軸方向に±ｒａ１、ｙ軸方向に±ｒａ１の矩形形状の範囲内に存在する有効セルを仮の候補セルとして抽出する。

なお、図９（ａ）の例では、上記所定距離ｒａ１は１２０（１２０画素）に設定されている。また、図９（ａ）に示すように、基準セルｅの周囲には８個の有効セルａ〜ｄ，ｆ〜ｉが隣接しており、このうち、有効セルｂ，ｄ，ｆ，ｈは基準セルに対してｘ軸方向またはｙ軸方向に隣接しており、有効セルa，ｃ，ｇ，ｉは基準セルに対してｘ軸方向およびｙ軸方向から４５度傾斜した方向に隣接している。また、基準セルｅの重心と有効セルｂ，ｄ，ｆ，ｈの重心との距離はそれぞれ１００（１００画素）であり、基準セルｅの重心と有効セルa，ｃ，ｇ，ｉの重心との距離はそれぞれ１４１（１４１画素）である。したがって、図９（ａ）の例では、有効セルａ〜ｉが上記の矩形形状の範囲内に含まれるので、これら有効セルａ〜ｉが仮の候補セルとして抽出される。

次に、Ａ面封孔位置特定部４４は、図９（ｂ）に示すように、抽出した各仮の候補セルの重心と基準セルの重心との距離を算出し、算出した距離が上記所定距離ｒａ１よりも長い仮の候補セルを候補セルから除外する。したがって、図９（ｂ）の例では、基準セルとの重心間の距離が所定距離ｒａ１以下である有効セルｂ，ｄ，ｆ，ｈが候補セルとして抽出され、基準セルとの重心間の距離が所定距離ｒａ１よりも長い有効セルa，ｃ，ｇ，ｉは候補セルから除外される。

このように、基準セルの重心と有効セルとの重心間の距離に基づいて候補セルを抽出することにより、各有効セルによって構成されるマトリックスの行方向および列方向と、撮像データの座標系におけるｘ軸方向およびｙ軸方向とが一致しない場合（例えば図９（ｃ）に示すように、各有効セルによって構成されるマトリックスの行方向および列方向が撮像データの座標系におけるｘ軸方向およびｙ軸方向に対して４５°回転している場合）であっても、基準セルの重心からの重心間の距離が所定距離ｒａ１以内である有効セルを候補セルとして抽出することができる。また、まず基準セルｅに対してｘ軸方向に±ｒａ１、ｙ軸方向に±ｒａ１の矩形形状の範囲内に存在する有効セルを候補セルとして抽出し、抽出した候補セルについて基準セルとの重心間の距離を算出し、算出した距離が所定距離ｒａ１以下である候補セルを抽出することにより、全ての有効セルと基準セルとの重心間の距離を算出する必要がないので、処理に要する時間を短縮できる。

なお、最終的に候補セルとして抽出される有効セルは、基準セルに対して各有効セルによって形成されるマトリックスの行方向および列方向に隣接する有効セルであり、少なくとも１個、最大で４個抽出される。最終的に５個以上の候補セルが抽出された場合や候補セルが抽出されなかった場合には、Ａ面封孔位置特定部４４が、製造装置１のオペレータに対して異常通知を行い、処理を中断するようにしてもよい。

次に、Ａ面封孔位置特定部４４は、Ｓ２７で抽出した候補セルのうち、処理状態フラグが未処理であるセルを対象セルとして抽出する（Ｓ２８、第１封孔セル特定工程）。

次に、Ａ面封孔位置特定部４４は、基準セルおよび対象セルのフラグを更新する（Ｓ２９、第１封孔セル特定工程）。具体的には、基準セルについては、開孔／封孔フラグを変更せずにそのまま維持し、処理状態フラグを処理済に更新する。また、対象セルについては、開孔／封孔フラグを基準セルとは逆の値に更新し、処理状態フラグを処理中に更新する。例えば、図１０（ａ）に示すように、基準セルがセルＡであり、対象セルがセルＢ，Ｅである場合、図１０（ｂ）に示すように、基準セルであるセルＡの開孔／封孔フラグについては更新前と同じ開孔のままに維持し、処理状態フラグについては処理済に更新する。また、対象セルであるセルＢ，Ｅについては、開孔／封孔フラグを基準セルとは逆の封孔に更新し、処理状態フラグを処理中に更新する。なお、基準セルに対する重心間の距離が上記所定値ｒａ１以下の有効セルであって、処理状態フラグが処理済であり、かつ開孔／封孔フラグが基準セルと同じに設定されている有効セルが存在する場合、Ａ面封孔位置特定部４４が、製造装置１のオペレータに対して異常通知を行い、処理を中断するようにしてもよい。

次に、Ａ面封孔位置特定部４４は、セルデータにおける全ての有効セルの処理状態フラグが処理済になったか否かを判断する（Ｓ３０、第１封孔セル特定工程）。そして、処理状態フラグが処理済になっていない有効セルが残っている場合には、Ｓ２６に戻って次の基準セルを選択し、選択した基準セルに基づいてＳ２７〜Ｓ３０の処理を行う。

なお、上述したように、２回目以降の基準セルの選択時には、処理状態フラグが処理中である有効セルのうち、セル番号が最も小さい有効セルを基準セルとして選択する。したがって、例えば図１０（ａ）および図１０（ｂ）に示したようにセルＡを基準セルとしてＳ２７〜Ｓ３０の処理を行った後、Ｓ２６の処理に戻る場合には、図１１（ａ）に示すように、図１０（ｂ）において処理状態フラグが処理中に設定されたセルＢ，Ｅのうち、セル番号が小さいセルＢが次の基準セルとして選択される。そして、図１１（ｂ）に示すように、セルＢを基準として上述したＳ２７〜Ｓ３０の処理が行われる。

一方、Ｓ３０において全ての有効セルの処理状態フラグが処理済になったと判断した場合、Ａ面封孔位置特定部４４は、Ａ面における各封孔セル（各Ａ面側封孔セル）の位置を特定するための情報であるＡ面封孔位置特定情報を生成して記憶部１６に記憶させ（Ｓ３１）、図３に示したＳ５の処理に移行する。なお、Ｓ３０において、処理状態フラグが未処理であるセルが残っているにもかかわらず処理中のセルが無くなった場合、Ａ面封孔位置特定部４４が、製造装置１のオペレータに対して異常通知を行い、処理を中断するようにしてもよい。

図３のＳ５の処理では、穿孔制御部２３は、記憶部１６に記憶されているＡ面封孔位置特定情報に基づいてＡ面に対する封孔位置（穿孔位置および穿孔範囲）を特定し、穿孔処理を行う。

（１−４．Ｂ面封孔位置特定処理）
次に、図３に示したＳ１２の処理、すなわちＢ面封孔位置特定処理についてより詳細に説明する。図４は、制御部１５に備えられる封孔位置特定部２４の構成を詳細に示したブロック図である。図１２は、Ｂ面封孔位置特定処理の流れを示すフローチャートである。

まず、２値化処理部３１は、Ｓ１１で取得したＢ面の上照明時の撮像データ（上部照明装置１１によってＢ面を照明した状態でＢ面を撮像して取得した撮像データ）を、輝度値が所定の２値化閾値ｌｖ１以上であるか否かに応じて２値化し、２値化画像データを生成する（Ｓ４１）。

次に、Ｂ面セル候補抽出部５１は、Ｓ４１で生成した２値化画像データにおける画素値０の画素が連続する各領域について、Ｓ２２の処理と同様、当該各領域の画素数（面積）を算出し、画素数が所定範囲内である領域をセル候補とし、画素数が所定範囲外である領域をセル候補から除外するセル候補抽出処理を行う（Ｓ４２）。

次に、Ｂ面有効セル抽出部５２は、Ｓ４２で抽出されたセル候補の中から予め設定されるセルの基準面積ｓｚ３に対する面積比が所定の面積閾値ｌｖ２以上であるセル候補を有効セルとして抽出する有効セル抽出処理を行う（Ｓ４３）。

次に、Ｂ面セルデータ生成部５３は、Ｓ４３で抽出された各有効セルの重心（重心座標）を算出するとともに（第３重心算出工程）、各有効セルを重心座標に応じた順序で並べたセルデータを生成する（Ｓ４４）。具体的には、Ｂ面セルデータ生成部５３は、各有効セルの重心座標を、ｙ軸の座標値が小さい位置から順にｘ軸方向にソートしていき、重心座標が検出された順に各有効セルにセル番号を付し、セル番号、重心座標（ｘ，ｙ）、および画素数をセル番号順に並べたリストをセルデータとして生成する。

次に、Ｂ面セルデータ生成部５３は、Ｓ４４で生成したセルデータに対して、各有効セルを開孔セルとするか封孔セルとするかを示す開孔／封孔フラグ、および、開孔セルとするか封孔セルとするかの判定処理を既に実施したセル（処理済のセル）であるのか、実施中のセル（処理中のセル）であるのか、あるいは未実施のセル（未処理のセル）であるのかを示す処理状態フラグを付加するフラグ付加処理を行う（Ｓ４５）。

次に、Ｂ面封孔位置特定部５５は、セルデータに含まれる有効セルの中から開孔セルとするか封孔セルとするかを判定（決定）する対象セルである基準セルを選択する（Ｓ４６、封孔セル仮設定工程）。なお、基準セルの初回選択時には、セル番号が最も小さい有効セルを基準セルとして選択する。また、２回目以降の基準セルの選択時には、処理状態フラグが処理中である有効セルのうち、セル番号が最も小さい有効セルを基準セルとして選択する。

次に、Ｂ面封孔位置特定部５５は、基準セルの重心と各有効セルの重心との距離を算出し、算出した距離が所定距離（検索範囲）ｒａ１以内である有効セルを候補セルとして抽出する（Ｓ４７、封孔セル仮設定工程）。

次に、Ｂ面封孔位置特定部５５は、Ｓ４７で抽出した候補セルのうち、処理状態フラグが未処理であるセルを対象セルとして抽出する（Ｓ４８、封孔セル仮設定工程）。

次に、Ｂ面封孔位置特定部５５は、基準セルおよび対象セルのフラグを更新する（Ｓ４９、封孔セル仮設定工程）。具体的には、基準セルについては、開孔／封孔フラグを変更せずにそのまま維持し、処理状態フラグを処理済に更新する。また、対象セルについては、開孔／封孔フラグを基準セルとは逆の値に更新し、処理状態フラグを処理中に更新する。

次に、Ｂ面封孔位置特定部５５は、セルデータにおける全ての有効セルの処理状態フラグが処理済になったか否かを判断する（Ｓ５０、封孔セル仮設定工程）。そして、処理状態フラグが処理済になっていない有効セルが残っている場合には、Ｓ４６に戻って次の基準セルを選択し、選択した基準セルに基づいてＳ４７〜Ｓ５０の処理を行う。なお、上述したＳ４１〜Ｓ５０の処理は、処理対象のデータがＡ面の撮像データではなくＢ面の撮像データである以外は、図５に示したＡ面封孔位置特定処理におけるＳ２１〜Ｓ３０の処理と同様である。

Ｓ５０において全ての有効セルの処理状態フラグが処理済になったと判断した場合、上記のように生成したセルデータ、すなわちＢ面の封孔位置を仮設定したＢ面封孔位置仮設定情報（仮設定データ）を記憶部１６に記憶させる（Ｓ５１）。

次に、２値化処理部３１は、Ｓ１１で取得したＢ面の下照明時の撮像データ（下部照明装置１２によってハニカムフィルタＷの下面（Ａ面）を照明した状態で上面（Ｂ面）を撮像して取得した撮像データ）を、輝度値が２値化閾値ｌｖ３以上であるか否かに応じて２値化し、２値化画像データを生成する（Ｓ５２）。

下部照明装置１２からハニカムフィルタＷの下面（Ａ面）に照射された光のうち、Ａ面側開孔セルに照射された光は当該セルを通過してハニカムフィルタＷの上面（Ｂ面）から上方に出射される。一方、下部照明装置１２からＡ面側封孔セルおよびセル仕切壁部分に照射された光はＡ面で遮蔽され、Ｂ面には到達しない。このため、Ｂ面の下照明時の撮像データでは、Ｂ面のうち、Ａ面側開孔セルに対応するセルにおいて輝度値が高くなり、Ａ面側封孔セルに対応するセルおよびセル仕切壁部分では輝度値が低くなる。そこで、２値化処理部３１は、Ｂ面における、Ａ面側開孔セルに対応するセルの領域と、Ａ面側封孔セルに対応する領域およびセル仕切壁に対応する領域とを識別するために、各画素の輝度値が２値化閾値ｌｖ３以上であるか否かに応じてＢ面の下照明時の撮像データを２値化する。

図１３は、Ｂ面の下照明時の撮像データにおける輝度値毎の画素数の一例を示すグラフである。この図に示すように、Ｂ面の下照明時の撮像データでは画素数のピークが２つ存在する。そこで、２値化処理部３１は、２値化閾値ｌｖ３をこれら２つのピークの中間の輝度値に設定し、各画素の輝度値が２値化閾値ｌｖ３以上であるか否かに応じてＢ面撮像データを２値化することにより、Ａ面側開孔部分とその他の部分とを識別する。これにより、Ｂ面におけるＡ面側開孔セルに対応する領域と、その他の領域とを適切に識別することができる。なお、２値化閾値ｌｖ３は、例えば、事前に実験を行うなどして、Ａ面側開孔セルに対応する領域とその他の領域とを適切に識別できるように予め設定しておいてもよい。

なお、Ｂ面の上照明時の撮像データと、Ｂ面の下照明時の撮像データとは、照明状態が異なる以外は同条件で撮像される。また、ハニカムフィルタＷおよび撮像装置１３は、Ｂ面の上照明時の撮像データを撮像する際と、Ｂ面の下照明時の撮像データを撮像する際とで同じ位置に固定されている。したがって、Ｂ面の上照明時の撮像データにおける座標系と、Ｂ面の下照明時の撮像データにおける座標系とは同一である。すなわち、ハニカムフィルタＷのＢ面におけるある位置の画像は、Ｂ面の上照明時の撮像データとＢ面の下照明時の撮像データとで同座標になる。

次に、Ａ面開孔位置検出部５４は、Ｓ５２で生成された２値化画像データにおける画素値１の画素の集合からなる各領域、すなわちＡ面側開孔セルに対応する各領域について重心座標を算出し（第２重心算出工程）、これら各領域のうち、ハニカムフィルタＷの中心座標（本実施形態では座標（１０２３，１０２３））から当該領域の重心座標までの距離が最も近い領域（セル）を判定基準セルとして抽出する（Ｓ５３、一端面側開孔セル検出工程、判定基準セル選択工程）。すなわち、Ａ面開孔位置検出部５４は、Ｓ５２で生成された２値化画像データにおける画素値１の画素の集合からなる各領域（Ａ面の開孔セルに対応する各セル）の重心座標を算出し、これら各セルのうち、ハニカムフィルタＷの中心座標から当該セルの重心座標までの距離が最も短いセルを判定基準セルとして抽出する。ハニカムフィルタＷの中心座標から重心座標までの距離が最も短いセルが複数存在する場合には、それら複数のセルのうち、ｙ座標の値が最も小さいセルを抽出する。また、ｙ座標の値が最も小さいセルが複数存在する場合には、それら各セルのうちｘ座標の値が最も小さいセルを抽出する。図１４（ａ）は、Ｂ面の下照明時の撮像データに基づいて抽出される判定基準セルの例を示す説明図である。

なお、本実施形態では、Ｓ５２で生成された２値化画像データに基づいて検出された画素値１の画素の集合からなる各領域（セル）のうち、ハニカムフィルタＷの中心座標から当該領域の重心座標までの距離が最も近いセルを判定基準セルとして抽出しているが、これに限らず、いずれか１つのセルを任意の抽出方法によって抽出し、判定基準セルとしてもよい。

次に、Ａ面開孔位置検出部５４は、Ｂ面の上照明時の撮像データを２値化した２値化画像データにおける、Ｓ５３で抽出した判定基準セルの重心座標（下照明時の撮像データにおける座標）に対応する座標から当該有効セルの重心座標までの距離が所定距離（判定基準セル閾値）ｒａ２以下である有効セル、あるいは判定基準セルに対応する座標から当該有効セルの重心座標までの距離が最小である有効セルを判定対象セルとして抽出する（Ｓ５４、一端面側開孔セル検出工程、判定対象セル選択工程）。図１４（ｂ）は、Ｂ面の上照明時の撮像データに基づいて抽出される判定対象セルの例を示す説明図である。

なお、Ｂ面の上照明時の撮像データとＢ面の下照明時の撮像データとは、照明条件が異なる以外は同条件で撮像されたデータであり、共通の座標系を有している。ただし、照明条件の違いにより、本来は同じセルの撮像データであっても、当該セルの重心位置の算出結果が微妙にずれる場合がある。そこで、本実施形態では、上記所定距離ｒａ２を、Ｂ面の上照明時の撮像データに基づいて抽出された各セルのうち、Ｂ面の下照明時の撮像データに基づいて抽出された判定基準セルに対応するセルを判定対象セルとして適切に抽出できるように、上記のずれの量を考慮して予め設定しておく。例えば、上記所定距離ｒａ２を予め実施する実験の結果等に基づいて設定してもよい。Ｓ５４において、判定基準セルの重心に対応する座標から当該有効セルの重心座標までの距離が所定距離ｒａ２以下であるセルが複数抽出された場合には、Ａ面開孔位置検出部５４が、製造装置１のオペレータに対して異常通知を行い、処理を中断するようにしてもよい。

このように、判定基準セルに対応する座標から各有効セルの重心座標までの距離に基づいて判定対象セルを抽出することにより、各有効セルによって構成されるマトリックスの行方向および列方向と、撮像データの座標系におけるｘ軸方向およびｙ軸方向とが一致しない場合（例えば、各有効セルによって構成されるマトリックスの行方向および列方向が撮像データの座標系におけるｘ軸方向およびｙ軸方向に対して４５°回転している場合）であっても、判定基準セルに対応するセルを判定対象セルとして適切に抽出することができる。

次に、Ｂ面封孔位置特定部５５は、Ｓ５１で記憶部１６に保存したセルデータにおける判定対象セルの開孔／封孔フラグを参照し、当該開孔／封孔フラグが開孔を示す値であるか否かを判断する（Ｓ５５、第２封孔セル特定工程）。

そして、判定対象セルの開孔／封孔フラグが開孔を示す値である場合、Ｂ面封孔位置特定部５５は、上記セルデータにＳ５１で記憶部１６に保存したセルデータにおける各有効セルの開孔／封孔フラグを反転させることを示す反転フラグ（判定フラグ）を付加するとともに（Ｓ５６）、上記セルデータにおける全ての有効セルの開孔／封孔フラグを反転させる（Ｓ５７、第２封孔セル特定工程）。

すなわち、本実施形態では、Ａ面側開孔セル（一端面側開孔セル）についてはＢ面側封孔セル（他端面側封孔セル）とし、Ａ面側封孔セル（一端面側封孔セル）についてはＢ面側開孔セル（他端面側開孔セル）とする。また、判定基準セルはＢ面の下照明時の撮像データにおける輝度値が高い領域に対応するセルであり、Ａ面側開孔セルである。このため、判定対象セルの開孔／封孔フラグが開孔セルであることを示す値である場合には、当該判定対象セルをＢ面側封孔セルに設定するために、開孔／封孔フラグを封孔セルであることを示す値に反転させる。これに伴い、Ｂ面における判定対象セル以外の全ての有効セルについても、開孔／封孔フラグを反転させる。すなわち、開孔／封孔フラグがＢ面側開孔セルであることを示す値である有効セルについては全て開孔／封孔フラグをＢ面側封孔セルであることを示す値に反転させ、開孔／封孔フラグがＢ面側封孔セルであることを示す値である有効セルについては開孔／封孔フラグをＢ面側開孔セルであることを示す値に反転させる。

一方、Ｓ５５において判定対象セルの開孔／封孔フラグがＢ面側封孔セルであることを示す値であった場合、Ｂ面封孔位置特定部５５は、セルデータにおける各有効セルの開孔／封孔フラグを反転させることなく、そのまま維持する（第２封孔セル特定工程）。

その後、Ｂ面封孔位置特定部５５は、各Ｂ面側封孔セルの位置を特定するための情報であるＢ面封孔位置特定情報を生成して記憶部１６に記憶させ（Ｓ５８）、図３に示したＳ１３の処理に移行する。

図３のＳ１３の処理では、穿孔制御部２３は、記憶部１６に記憶されているＢ面封孔位置特定情報に基づいてＢ面に対する封孔位置（穿孔位置および穿孔範囲）を特定し、穿孔処理を行う。

以上のように、本実施形態にかかる製造装置１では、Ａ面解析部３２が、上記各セルの端部を封孔する前の上記各セルの両端側の端部が開孔した状態のハニカムフィルタＷのＡ面（延伸方向の一端面）を撮像したＡ面の撮像データに基づいてＡ面における各セルの重心位置を算出し、Ａ面における重心間の距離が、重心位置がマトリックス状に配置された各セルにおける行方向および列方向に隣接するセル同士の重心間の距離以上、かつ上記行方向および上記列方向に対して傾斜した方向に隣接するセル同士の重心間の距離未満の長さに設定される所定距離以内であるセル同士の一方をＡ面側の端部を開孔させるＡ面側開孔セルとし、他方をＡ面側の端部を封孔するＡ面側封孔セルとして設定する。

これにより、Ａ面を撮像した画像データにおける各セルの重心位置に基づいてＡ面側封孔セルの位置を特定することができるので、上述した従来技術のようにセル仕切壁の向きを検出する必要がなく、開孔セルと封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。また、ハニカムフィルタＷにおける各セルの配列方向と、撮像データの座標系の軸方向とが一致していない場合であっても、Ａ面側開孔セルとＡ面側封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。

また、本実施形態にかかる製造装置１では、Ｂ面解析部３３が、Ａ面における上記Ａ面側封孔セルの端部を封孔した後、Ｂ面側の端部を封孔する前のハニカムフィルタＷにおけるＡ面に対してＡ面側開孔セルに入射した光が当該セルにおけるＢ面側の端部から出射するように光を照射した状態でＢ面を撮像した撮像データに基づいてＢ面におけるＡ面側開孔セルの位置を検出し、検出したＡ面側開孔セルに対応するセルをＢ面側の端部を封孔するＢ面側封孔セルとして設定する。

これにより、Ａ面側開孔セルから入射した光が当該セルにおけるＢ面側の端部から出射することを利用してＢ面の撮像データにおけるＡ面側開孔セルの位置を容易かつ適切に検出することができる。そして、その検出結果に応じてＡ面側開孔セルをＢ面側封孔セルとして設定することにより、各セルの両端部の一方を開孔させ、他方を封孔させるとともに、各セルの延伸方向の両端面において開孔セルと封孔セルとが互い違いに配置された構成を有するハニカムフィルタを実現するように、Ｂ面側開孔セルおよびＢ面側封孔セルの位置を適切に設定することができる。

なお、本実施形態では、各セルの開口部の形状を正方形形状としたが、各セルの重心に基づいて封孔セルの特定を行うため、各セルの開口部の形状はこれに限るものではなく、例えば矩形、三角形、多角形、円形、楕円形等の形状であってもよい。また、本実施形態では、各セルの開口部の形状およびサイズが同一であるものとしたが、これに限らず、各セルの開口部の形状およびサイズの一方または両方がセル毎に異なっていてもよい。例えば、図１５に示すように、開口部が正方形であって開口面積が互いに異なる２種類の形状を有するセルが互い違いに配置された構成であってもよい。また、図１６に示すように、開口部の形状が八角形であるセルと、開口部の形状が正方形であるセルとが互い違いに配置された構成であってもよい。なお、図１５および図１６は、ハニカムフィルタＷにおける処理対象のガスが導入される側の端面におけるセルの配置を示している。これら各図に示す例では、処理対象のガスが導入される側の端面において、開孔セルの面積の方が封孔セルの面積よりも大きく設定されている。また、各セルの配置は、各セルの重心位置が互いに直交する方向に並ぶように配置される構成に限らず、第１方向および第１方向に対して非垂直な角度で交差する第２方向に沿って並ぶように配置される構成であってもよい。

各セルの形状、サイズ、配置位置上述した実施形態と異なる場合であっても、上記の所定距離ｒａ１の値を、基準セルに対してセル仕切壁を介して隣接する有効セルのうち、開孔／封孔フラグを基準セルとは逆に設定すべき有効セルの重心位置と基準セルの重心位置との距離が所定距離ｒａ１以内となり、開孔／封孔フラグを基準セルと同じに設定すべき有効セルの重心位置と基準セルの重心位置との距離が所定距離ｒａ１より長くなるように設定することにより、開孔セルと封孔セルとを容易かつ適切に設定することができる。例えば、第１方向および第１方向に対して垂直あるいは非垂直な角度で交差する第２方向に沿ってセル仕切壁を介して互いに隣接するセル同士の開孔／封孔を互い違いとする場合、上記所定距離ｒａ１を、上記第１方向および上記第２方向に沿ってセル仕切壁を介して隣接するセル同士の重心間の距離以上、かつ上記第１方向および上記第２方向とは異なる方向（第１方向および第２方向に対して傾斜した方向）に沿ってセル仕切壁を介して隣接するセル同士の距離未満に設定すればよい。

また、本実施形態において、製造装置１に備えられる制御部１５を、ＣＰＵ等のプロセッサを用いてソフトウェアによって実現してもよい。この場合、製造装置１は、各機能を実現する制御プログラムの命令を実行するＣＰＵ（central processing unit）、上記プログラムを格納したＲＯＭ（read only memory）、上記プログラムを展開するＲＡＭ（random access memory）、上記プログラムおよび各種データを格納するメモリ等の記憶装置（記録媒体）などを備えている。そして、本発明の目的は、上述した機能を実現するソフトウェアである製造装置１の制御プログラムのプログラムコード（実行形式プログラム、中間コードプログラム、ソースプログラム）をコンピュータで読み取り可能に記録した記録媒体を、製造装置１に供給し、そのコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ）が記録媒体に記録されているプログラムコードを読み出し実行することによって達成される。

上記記録媒体としては、例えば、磁気テープやカセットテープ等のテープ系、フロッピー（登録商標）ディスク／ハードディスク等の磁気ディスクやＣＤ−ＲＯＭ／ＭＯ／ＭＤ／ＤＶＤ／ＣＤ−Ｒ等の光ディスクを含むディスク系、ＩＣカード（メモリカードを含む）／光カード等のカード系、あるいはマスクＲＯＭ／ＥＰＲＯＭ／ＥＥＰＲＯＭ／フラッシュＲＯＭ等の半導体メモリ系などを用いることができる。

また、製造装置１を通信ネットワークと接続可能に構成し、通信ネットワークを介して上記プログラムコードを供給してもよい。この通信ネットワークとしては、特に限定されず、例えば、インターネット、イントラネット、エキストラネット、ＬＡＮ、ＩＳＤＮ、ＶＡＮ、ＣＡＴＶ通信網、仮想専用網（virtual private network）、電話回線網、移動体通信網、衛星通信網等が利用可能である。また、通信ネットワークを構成する伝送媒体としては、特に限定されず、例えば、ＩＥＥＥ１３９４、ＵＳＢ、電力線搬送、ケーブルＴＶ回線、電話線、ＡＤＳＬ回線等の有線でも、ＩｒＤＡやリモコンのような赤外線、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、８０２．１１無線、ＨＤＲ、携帯電話網、衛星回線、地上波デジタル網等の無線でも利用可能である。なお、本発明は、上記プログラムコードが電子的な伝送で具現化された、搬送波に埋め込まれたコンピュータデータ信号の形態でも実現できる。

また、製造装置１の制御部１５は、ソフトウェアを用いて実現されるものに限るものではない。例えば、ハードウェアロジックによって構成されるものであってもよく、処理の一部を行うハードウェアと当該ハードウェアの制御や残余の処理を行うソフトウェアを実行する演算手段とを組み合わせたものであってもよい。

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

本発明は、所定方向に延伸するセルを多数備え、延伸方向の両端面において端部が開孔した開孔セルと封孔された封孔セルとが互い違いに配置されている構成を有するハニカムフィルタを製造する際に端部を封孔するセルを特定するための封孔セル特定方法および封孔セル特定装置に適用できる。

１ 製造装置（封孔セル特定装置）
１１ 上部照明装置
１２ 下部照明装置
１３ 撮像装置
１４ 穿孔装置
１５ 制御部
１６ 記憶部
２１ 照明制御部
２２ 撮像制御部
２３ 穿孔制御部
２４ 封孔位置特定部
３１ ２値化処理部
３２ Ａ面解析部（第１封孔位置特定部）
３３ Ｂ面解析部（第２封孔位置特定部）
４１ Ａ面セル候補抽出部
４２ Ａ面有効セル抽出部
４３ Ａ面セルデータ生成部
４４ Ａ面封孔位置特定部
５１ Ｂ面セル候補抽出部
５２ Ｂ面有効セル抽出部
５３ Ｂ面セルデータ生成部
５４ Ａ面開孔位置検出部
５５ Ｂ面封孔位置特定部
Ｗ ハニカムフィルタ（ワーク）

Claims (13)

1. 所定方向に延伸するセルがセル仕切壁を介して互いに隣接するように多数配置され、上記各セルが延伸方向に貫通しているハニカム体における一部のセルのセル端部を封孔してハニカムフィルタを製造する際に上記セル端部を封孔するセルを特定するための封孔セル特定方法であって、
   上記ハニカム体における上記延伸方向の一端面を撮像して当該一端面の撮像データである第１撮像データを取得する第１撮像工程と、
   上記第１撮像データに基づいて上記一端面における各セルの重心位置を算出する第１重心算出工程と、
   上記重心位置間が所定距離以内であるセル同士の一方を上記一端面側の端部を開孔させる一端面側開孔セルとし、他方を上記一端面側の端部を封孔する一端面側封孔セルとして設定する第１封孔セル特定工程とを含むことを特徴とする封孔セル特定方法。
2. 上記第１封孔セル特定工程では、基準セルを選定し、上記基準セルの重心位置から所定距離以内に重心位置を有するセルを対象セルとして選定し、上記基準セルを一端面側封孔セルおよび一端面側開孔セルのうちの一方に設定し、上記対象セルを一端面側封孔セルおよび一端面側開孔セルのうちの他方に設定することを特徴とする請求項１に記載の封孔セル特定方法。
3. 上記一端面側封孔セルの端部を封孔した後、上記一端面側開孔セルに入射した光が当該セルにおける上記ハニカム体の他端面側の端部から出射するように光を照射した状態で上記他端面を撮像して当該他端面の撮像データである第２撮像データを取得する第２撮像工程と、
   上記第２撮像データに基づいて上記他端面における上記一端面側開孔セルの位置を検出する一端面側開孔セル検出工程と、
   上記一端面側開孔セル検出工程で検出した位置に対応するセルを上記他端面側の端部を封孔する他端面側封孔セルとして設定する第２封孔セル特定工程とを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の封孔セル特定方法。
4. 上記一端面側封孔セルの端部を封孔したハニカム体の上記他端面を、上記一端面に対して上記第２撮像工程で照射した上記光を照射していない状態で撮像した当該他端面の撮像データである第３撮像データを取得する第３撮像工程と、
   上記第３撮像データに基づいて上記他端面における各セルの重心位置を算出する第３重心算出工程と、
   上記他端面における上記第３重心算出工程で算出した重心位置間が上記所定距離以内であるセル同士の一方を上記他端面側の端部を開孔させる他端面側開孔セルとして仮設定し、他方を上記他端面側の端部を封孔する他端面側封孔セルとして仮設定した仮設定データを生成する封孔セル仮設定工程と、
   上記一端面側開孔セル検出工程で検出した各一端面側開孔セルの中から選択される判定基準セルの重心位置を算出する第２重心算出工程と、
   上記第３重心算出工程で重心位置を算出した各セルのうち、重心位置が上記判定基準セルの重心位置に最も近いセルを判定対象セルとして選択する判定対象セル選択工程とを含み、
   上記第２封孔セル特定工程では、上記判定対象セルを他端面側封孔セルにするように上記仮設定データを補正することにより、他端面側開孔セルおよび他端面側封孔セルの位置を特定することを特徴とする請求項３に記載の封孔セル特定方法。
5. 上記ハニカムフィルタは、上記延伸方向の両端面において上記各セルが第１方向および第１方向と交差する第２方向に沿って並べて配置されており、かつ上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが第１方向および第２方向について互い違いに配置されている構成を有し、
   上記所定距離は、上記第１方向および上記第２方向に隣接して配置されたセル同士の重心間の距離以上、かつ上記第１方向および上記第２方向とは異なる方向に隣接して配置されたセル同士の距離未満に設定されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の封孔セル特定方法。
6. 所定方向に延伸するセルがセル仕切壁を介して互いに隣接するように多数配置され、上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが互い違いに配置されている構成を有するハニカムフィルタの製造方法であって、
   上記ハニカム体における上記延伸方向の一端面に第１フィルム部材を貼り付ける工程と、
   請求項１に記載の封孔セル特定方法を用いて一端面側封孔セルを特定する工程と、
   上記第１フィルム部材における上記一端面側封孔セルに対応する位置に封孔材料を注入するための封孔材料注入孔を穿孔する工程と、
   上記一端面側封孔セルにおける上記一端面側の端部に上記封孔材料注入孔を介して封孔材料を注入することにより当該一端面側封孔セルにおける上記一端面側の端部を封孔する工程と、
   上記各セルにおける上記他端側の端部を封孔する前のハニカムフィルタにおける上記他端面に第２フィルム部材を貼り付ける工程と、
   請求項３または４に記載の封孔セル特定方法を用いて他端面側封孔セルを特定する工程と、
   上記第２フィルム部材における上記他端面側封孔セルに対応する位置に封孔材料を注入するための封孔材料注入孔を穿孔する工程と、
   上記他端面側の端部に上記封孔材料注入孔を介して封孔材料を注入することにより当該他端面側封孔セルにおける上記他端面側の端部を封孔する工程とを含むことを特徴とするハニカムフィルタの製造方法。
7. 所定方向に延伸するセルがセル仕切壁を介して互いに隣接するように多数配置され、上記各セルが延伸方向に貫通しているハニカム体における一部のセルのセル端部を封孔してハニカムフィルタを製造する際に上記端部を封孔するセルを特定する封孔位置特定部を備えた封孔セル特定装置であって、
   上記封孔位置特定部は、
   上記ハニカム体における上記延伸方向の一端面の撮像データである第１撮像データを取得し、上記第１撮像データに基づいて上記一端面における各セルの重心位置を算出し、上記重心位置間が所定距離以内であるセル同士の一方を上記一端面側の端部を開孔させる一端面側開孔セルとし、他方を上記一端面側の端部を封孔する一端面側封孔セルとして設定する第１封孔位置特定部を備えていることを特徴とする封孔セル特定装置。
8. 上記ハニカムフィルタは、上記延伸方向の両端面において上記各セルが第１方向および第１方向と交差する第２方向に沿って並べて配置されており、かつ上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが第１方向および第２方向について互い違いに配置されている構成を有し、
   上記所定距離は、上記第１方向および上記第２方向に隣接して配置されたセル同士の重心間の距離以上、かつ上記第１方向および上記第２方向とは異なる方向に隣接して配置されたセル同士の距離未満に設定されていることを特徴とする請求項７に記載の封孔セル特定装置。
9. 上記封孔位置特定部は、
   上記一端面側封孔セルの端部を封孔したハニカム体の上記一端面側開孔セルに入射した光が当該セルにおける上記他端面側の端部から出射するように光を照射した状態で上記他端面を撮像した当該他端面の撮像データに基づいて上記他端面における上記一端面側開孔セルの位置を検出し、検出した上記一端面側開孔セルの位置に対応するセルを上記他端面側の端部を封孔する他端面側封孔セルとして設定する第２封孔位置特定部を備えていることを特徴とする請求項７または８に記載の封孔セル特定装置。
10. 上記第２封孔位置特定部は、
    上記一端面側封孔セルの端部を封孔したハニカム体の上記他端面を上記一端面に対して上記光を照射していない状態で撮像した当該他端面の撮像データに基づいて上記他端面における各セルの重心位置を算出し、
    算出した上記重心位置間が上記所定距離以内であるセル同士の一方を上記他端面側の端部を開孔させる他端面側開孔セルとして仮設定し、他方を上記他端面側の端部を封孔する他端面側封孔セルとして仮設定した仮設定データを生成し、
    上記一端面に対して上記光を照射した状態で上記他端面を撮像した上記他端面の撮像データに基づいて上記各一端面側開孔セルの重心位置を算出し、
    上記各一端面側開孔セルのうちのいずれか１つを判定基準セルとして選択し、
    上記仮設定データに含まれる各セルのうち、重心位置が上記判定基準セルの重心位置に最も近いセルを判定対象セルとして選択し、
    上記判定対象セルを他端面側封孔セルにするように上記仮設定データを補正することにより、他端面側開孔セルおよび他端面側封孔セルの位置を特定することを特徴とする請求項９に記載の封孔セル特定装置。
11. 所定方向に延伸するセルがセル仕切壁を介して互いに隣接するように多数配置され、上記延伸方向の両端面において当該端面側の端部が開孔したセルと封孔されたセルとが互い違いに配置されている構成を有するハニカムフィルタの製造装置であって、
    請求項９または１０に記載の封孔セル特定装置を備え、
    上記第１封孔位置特定部は、上記一端面に第１フィルム部材が貼り付けられた状態のハニカムフィルタにおける上記一端面側封孔セルの位置を設定し、
    上記第２封孔位置特定部は、上記他端面に第２フィルム部材が貼り付けられた状態のハニカムフィルタにおける上記他端面側封孔セルの位置を設定し、
    上記第１フィルム部材における上記第１封孔位置特定部が設定した上記一端面側封孔セルに対応する位置、および上記第２フィルム部材における上記第２封孔位置特定部が設定した上記他端面側封孔セルに対応する位置に封孔材料を注入するための封孔材料注入孔を穿孔する穿孔装置を備えていることを特徴とする製造装置。
12. 請求項７から１０のいずれか１項に記載の封孔セル特定装置を動作させるプログラムであって、コンピュータを上記封孔位置特定部として機能させるためのプログラム。
13. 請求項１２に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

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