JP2013140337A - 有機反射防止膜組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による有機反射防止膜組成物は、2つ以上のチオール基(thiol group)を含む単量体及び2つ以上のビニル基(vinyl group)を含む単量体を架橋結合剤として含むことを特徴とする。
【選択図】なし
Description
また、前記パターン形成方法において、スピンオンカーボンハードマスクの上部に反射防止膜あるいはシリコン反射防止膜などの有機・無機組成物を積層する前や後にベーキング工程を一度さらに行うことができ、このようなベーキング工程は70℃〜200℃の温度で行われることが好ましい。
4−クロロベンジルメタクリレート50g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート30.88gをジオキサン50gに溶解して溶液1−1を製造し、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル4.04gをジオキサン242gに溶解し、80℃まで加熱して溶液1−2を製造し、前記溶液1−2の温度が75℃に到達すると、前記溶液1−1を前記加熱した溶液1−2に1時間30分間ゆっくり滴加し、4時間撹拌して溶液1−3を製造した後、前記撹拌した溶液1−3を室温(25℃)で冷やし、前記溶液1−3の8倍(体積比)の脱イオン水を加えて沈殿させ、得られた沈殿物を真空オーブンで24時間乾燥して共重合体を製造した。
(実施例1)
前記製造例で製造した共重合体15g、前記一般式(9)で表される化合物2g、前記一般式(16)で表される化合物2g、及び硬化剤5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート930gに溶解した後、直径0.2μmのメンブレインフィルタで濾過して有機反射防止膜組成物を製造した。
前記製造例で製造した共重合体15g、前記一般式(12)で表される化合物2g、前記一般式(17)で表される化合物2g、及び硬化剤5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート930gに溶解した後、直径0.2μmメンブレインフィルタで濾過して有機反射防止膜組成物を製造した。
前記製造例で製造した共重合体15g、前記一般式(13)で表される化合物2g、前記一般式(18)で表される化合物2g、及び硬化剤5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート930gに溶解した後、直径0.2μmメンブレインフィルタで濾過して有機反射防止膜組成物を製造した。
前記製造例で製造した共重合体15g、前記一般式(14)で表される化合物2g、前記一般式(19)で表される化合物2g、及び硬化剤5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート930gに溶解した後、直径0.2μmメンブレインフィルタで濾過して有機反射防止膜組成物を製造した。
前記製造例で製造した共重合体15g、前記一般式(10)で表される化合物2g、前記一般式(19)で表される化合物2g、及び硬化剤5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート930gに溶解した後、直径0.2μmメンブレインフィルタで濾過して有機反射防止膜組成物を製造した。
前記製造例で製造した共重合体15g、前記一般式(11)で表される化合物2g、前記一般式(15)で表される化合物2g、及び硬化剤5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート930gに溶解した後、直径0.2μmメンブレインフィルタで濾過して有機反射防止膜組成物を製造した。
前記製造例で製造した共重合体15g、前記一般式(14)で表される化合物2g、前記一般式(17)で表される化合物2g、及び硬化剤5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート930gに溶解した後、直径0.2μmメンブレインフィルタで濾過して有機反射防止膜組成物を製造した。
前記製造例で製造した共重合体15g及び硬化剤5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート930gに溶解した後、直径0.2μmメンブレインフィルタで濾過して有機反射防止膜組成物を製造した。
(ストリッピングテスト)
前記実施例1から7で製造されたそれぞれの有機反射防止膜組成物をシリコンウェハー上にスピン塗布した後、230℃のホットプレート上で1分間ベーキングして有機反射防止膜を形成し、それぞれの厚さを測定した(測定1)。
前記実施例1から実施例7及び比較例1で製造されたそれぞれの有機反射防止膜組成物をシリコンウェハー上にスピン塗布した後、230℃のホットプレート上で1分間ベーキングして架橋された有機反射防止膜を形成した。それぞれの有機反射防止膜を分光エリプソメーター(ellipsometer、J.A.Woollam)を用いて193nmで屈折率(n)と消光係数(k)を測定し、その結果を下記表1に示した。
前記実施例1から実施例7及び比較例1で製造されたそれぞれの有機反射防止膜組成物をシリコンウェハー上にスピン塗布した後、230℃のホットプレート上で1分間ベーキングして有機反射防止膜を形成した。スピン−速度を相異なるようにして1000Åよりも大きいフィルム厚さを得た。その後、フィルムを15秒間ドライエッチング(CF4/O2/Ar)した。エッチングされたフィルムの厚さを再び測定し、エッチング速度を計算した。その結果を下記表2に示した。
Claims (9)
- 2つ以上のチオール基(thiol group)を含む第1単量体及び2つ以上のビニル基(vinyl group)を含む第2単量体を架橋結合剤として含むことを特徴とする有機反射防止膜組成物。
- 前記第1単量体は下記の一般式(1)から一般式(4)で表される化合物からなる群から選択される何れか1つであることを特徴とする請求項1に記載の有機反射防止膜組成物。
- 前記第2単量体は、下記の一般式(5)から一般式(7)で表される化合物からなる群から選択される何れか1つであることを特徴とする請求項1に記載の有機反射防止膜組成物。
R11、R12、R13、及びR14はそれぞれ独立して炭素数1〜30のアルキレンであり、
R21、R22、R23、及びR24はそれぞれ独立して
l、m、n、o、x、及びyはそれぞれ独立して0または1の整数である。)
R33は水素または炭素数1〜10のアルキル基であり、
p及びqはそれぞれ独立して1〜10の整数である。)
R34は水素または炭素数1〜10のアルキレンであり、
cは0または1の整数である。) - 前記有機反射防止膜組成物は、第1単量体及び第2単量体を重量比1:99〜99:1で含むことを特徴とする請求項1に記載の有機反射防止膜組成物。
- 前記有機反射防止膜組成物は、前記有機反射防止膜組成物全体に対して第1単量体を0.01〜40重量%及び第2単量体を0.01〜40重量%で含むことを特徴とする請求項1に記載の有機反射防止膜組成物。
- 前記有機反射防止膜組成物は、吸光剤、重合体、酸発生剤、硬化剤、及び有機溶媒をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の有機反射防止膜組成物。
- 前記有機反射防止膜組成物は、前記有機反射防止膜組成物全体に対して前記吸光剤を0.01〜30重量%、前記重合体を0.01〜40重量%、前記酸発生剤を0.01〜10重量%、及び前記硬化剤を0.01〜30重量%でさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の有機反射防止膜組成物。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019215540A (ja) * | 2018-06-11 | 2019-12-19 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | レジスト下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102047538B1 (ko) | 2017-02-03 | 2019-11-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법 |
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KR102586107B1 (ko) * | 2020-11-19 | 2023-10-05 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005002293A (ja) * | 2003-06-16 | 2005-01-06 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
WO2005088398A1 (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 硫黄原子を含有する反射防止膜 |
WO2006040918A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2006-04-20 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 含窒素芳香環構造を含むリソグラフィー用反射防止膜形成組成物 |
JP2008201864A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Nippon Shokubai Co Ltd | コーティング組成物および光学フィルム |
JP2009086563A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 多官能チオール化合物を含んだブラックレジスト用感光性樹脂組成物、それを用いたカラーフィルター用ブラックマトリクス、及びカラーフィルター |
JP2009229598A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
JP2010156881A (ja) * | 2008-12-29 | 2010-07-15 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置 |
JP2011032360A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Kureha Corp | フッ素樹脂および反射防止材料 |
JP2012229421A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Korea Kumho Petrochemical Co Ltd | 有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びその共重合体を含む組成物 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4139385A (en) * | 1975-06-20 | 1979-02-13 | General Electric Company | Coating method and composition using cationic photoinitiators polythio components and polyolefin components |
US5236967A (en) * | 1990-01-12 | 1993-08-17 | Asahi Denka Kogyo K.K. | Optical molding resin composition comprising polythiol-polyene compounds |
US6872333B2 (en) * | 2002-02-07 | 2005-03-29 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Ltd. | Enic compounds, sulfur-containing polyenic compound, sulfur-containing polythiol compound, high refractive index photocurable composition and cured product thereof |
KR100504438B1 (ko) * | 2002-11-25 | 2005-07-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | 유기 반사방지막 중합체, 이의 제조 방법과 상기 중합체를포함하는 유기 반사 방지막 조성물 |
CN1965268B (zh) * | 2004-04-09 | 2011-08-03 | 日产化学工业株式会社 | 含有缩合类聚合物的半导体用防反射膜 |
US20060128826A1 (en) * | 2004-11-18 | 2006-06-15 | Ellison Matthew M | Ultra-thin thiol-ene coatings |
KR101585269B1 (ko) * | 2010-02-10 | 2016-01-14 | (주)엘지하우시스 | 하드코팅 형성용 수지 조성물 |
-
2011
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-
2012
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005002293A (ja) * | 2003-06-16 | 2005-01-06 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
WO2005088398A1 (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 硫黄原子を含有する反射防止膜 |
WO2006040918A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2006-04-20 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 含窒素芳香環構造を含むリソグラフィー用反射防止膜形成組成物 |
JP2008201864A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Nippon Shokubai Co Ltd | コーティング組成物および光学フィルム |
JP2009086563A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 多官能チオール化合物を含んだブラックレジスト用感光性樹脂組成物、それを用いたカラーフィルター用ブラックマトリクス、及びカラーフィルター |
JP2009229598A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
JP2010156881A (ja) * | 2008-12-29 | 2010-07-15 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置 |
JP2011032360A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Kureha Corp | フッ素樹脂および反射防止材料 |
JP2012229421A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Korea Kumho Petrochemical Co Ltd | 有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びその共重合体を含む組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019215540A (ja) * | 2018-06-11 | 2019-12-19 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | レジスト下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 |
US11698587B2 (en) | 2018-06-11 | 2023-07-11 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Resist underlayer composition, and method of forming patterns using the composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG191469A1 (en) | 2013-07-31 |
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TW201327059A (zh) | 2013-07-01 |
CN103183974A (zh) | 2013-07-03 |
KR101657052B1 (ko) | 2016-09-20 |
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