JP2013127940A - イオン注入方法及びイオン注入装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体ウエハ10へのイオン注入前に、イオンビームの2次元形状を測定し、測定された2次元ビーム形状を利用して2次元ビーム形状を楕円形状に近似し、半導体ウエハ外周の少なくとも一部の領域について、上記楕円形のビーム外周と半導体ウエハ外周の共通接線を用いて、イオンビームの照射範囲を設定し、注入照射領域を調整する。
【選択図】 図7
Description
また、別の一種類として、ウエハのスロースキャンとウエハのファストスキャンとを組み合わせた2次元のメカニカルウエハスキャンによるイオン注入装置がある。ウエハのメカニカルによるスロースキャンでは、ウエハをメカニカルにスロースキャンさせる方向がウエハスロースキャン方向として設定される。一方、ウエハのメカニカルによるファストスキャンでは上記ウエハスロースキャン方向に直交する方向に、ウエハをメカニカルにファストスキャンさせるウエハファストスキャン方向が、上記のハイブリッドスキャンイオン注入装置のビームスキャン方向と同じ方向として設定される。これにより、ウエハスロースキャン方向に往復運動しながら、ウエハスロースキャン方向に直交するウエハファストスキャン方向にも往復運動するように駆動されるウエハに対して、イオンビームが照射される。このようなイオン注入装置は、2次元メカニカルウエハスキャンイオン注入装置と呼ばれる。
後述されるように、本発明は、ハイブリッドスキャンイオン注入装置及び2次元メカニカルスキャンイオン注入装置のいずれにも適用され得る。
後述されるように、本発明は、半導体ウエハへの効率良いイオン注入に関する。
図1では、半導体ウエハ10より上流側でイオンビームのスキャン範囲の最も外側となる2つの位置の一方に、1個の注入時ビーム測定装置8が示されている。しかし、これは一例であって、注入時ビーム測定装置8は半導体ウエハ10の横に配設しても良いし、半導体ウエハ10より下流側の位置に配設しても良いし、上記2つの位置の他方に配設しても良い。また、一般的にはハイブリッドスキャンイオン注入装置に複数個の注入時ビーム測定装置を配設する場合がある。これに対し、本実施形態では1個の注入時ビーム測定装置8を配設することで、その目的を達成することができるので、以下の説明では、1個の注入時ビーム測定装置8が配設された場合を説明する。
2次元メカニカルスキャンイオン注入装置においても、イオン源1で発生したイオンを引出電極2によりイオンビームとして引き出し、引き出したイオンビームを半導体ウエハ10に至るビームライン上を通るよう構成している。ビームラインに沿って、質量分析磁石装置3、質量分析スリット4、ウエハ処理室(イオン注入室)を配設しているが、ビームスキャナー5やパラレルレンズ6は省略される。ビームスキャナー5やパラレルレンズ6が省略される代わりに、メカニカルスキャン装置11の構造が複雑になる。すなわち、ウエハホルダ27は、ウエハ昇降装置13による上下方向(ウエハスロースキャン方向)の動作に加え、ウエハ水平移動装置(図示せず)による水平方向(ビームスキャン方向と同じウエハファストスキャン方向)の動作により、半導体ウエハ10とともに2次元にメカニカルスキャンされる。
具体的なメカニカルスキャン装置11の制御方法は、注入時ビーム測定装置8によって測定されるビーム電流量の絶対値や、その時間的変化の度合いによって異なる。例えば、ハイブリッドスキャンイオン注入装置でわずかなビーム変動が発生した場合には、CPU14は、そのビーム変動にゆるやかに対応して、半導体ウエハ10のウエハスロースキャン速度を連続的に変更し、イオン注入量のウエハ面内均一性を確保することができるような制御を実行する。
また例えば、イオン源から半導体ウエハまでのビーム輸送用機器に放電が発生し、半導体ウエハにイオンが到達しなくなった場合には、CPU14は以下のような制御を実行する。CPU14は、一旦半導体ウエハ10のウエハスロースキャンを止める。そして、上記ビーム輸送用機器の放電が解消された後、CPU14はウエハスロースキャン停止の直前にRAM15に記憶されたウエハスロースキャン方向の半導体ウエハ10の位置を読み出し、その読み出した位置から再度イオン注入を開始させる。これによって、イオン注入量のウエハ面内均一性が確保される。
但し、ビームスキャン方向における、イオンビームのビームファストスキャン速度と半導体ウエハをメカニカルにスキャンさせるウエハスロースキャン速度を比較すると、上記イオンビームのビームファストスキャン速度のほうが大きい場合が多い。このことは、2次元メカニカルスキャンイオン注入装置では、ハイブリッドスキャンイオン注入装置に比べ、イオン注入中のイオン電流量の測定間隔が長くなる場合が多いことを示す。従って、2次元メカニカルスキャンイオン注入装置では、ウエハ面内均一性低下に対する対処がより難しい点には、注意が必要である。
以下、まず、ウエハ面内均一性低下に対する対応が不要な場合について、本発明による仮想注入照射領域16の最小化について議論する。その後、非定常現象によるイオン注入量のウエハ面内均一性悪化に対する対応が必要な場合の、本発明による仮想注入照射領域16の最小化について議論する。
図7と図8を比較すると判るように、図7と図8では、ビームスキャン方向の注入照射領域もウエハスロースキャン方向の注入照射領域も、イオン注入前に測定されたスキャンドビームのビーム形状に関する情報に基づいて制御している。逆に言えば、本発明によるイオン注入方法では、ウエハ生産性を最も向上させるために、イオン注入前にスキャンされたイオンビームに対してあらかじめ測定を行い、2次元ビーム形状を得ることが必要であることが判る。
2 引出電極
3 質量分析磁石装置
4 質量分析スリット
5 ビームスキャナー
6 パラレルレンズ
7 角度エネルギーフィルタ
8 注入時ビーム測定装置
9 ウエハ領域ビーム測定装置
10 半導体ウエハ
11 メカニカルスキャン装置
12 ウエハ回転装置
13 ウエハ昇降装置
14 CPU
15 RAM
16 仮想注入照射領域
17 仮想注入時ビーム測定装置
Claims (9)
- イオン源で発生したイオンをイオンビームとしてウエハまで輸送し、
上記ウエハをメカニカルにウエハスロースキャンさせると共に、ウエハスロースキャン方向に直交する方向に、上記イオンビームをビームファストスキャンさせる、または、メカニカルに上記ウエハをウエハファストスキャンさせるように構成し、
また上記ウエハスロースキャン方向へのウエハスロースキャンと、上記ウエハスロースキャン方向に直交する方向へのイオンビームのビームファストスキャンまたはウエハのウエハファストスキャンを用いて、イオンビームを上記ウエハに照射するように構成し、
上記ウエハへのイオン注入前にイオンビームの2次元ビーム形状を測定し、測定された2次元ビーム形状を利用して、イオンビームの注入照射領域を定めるイオン注入方法であって、
上記2次元ビーム形状を楕円形状に近似し、上記楕円形のビーム外周とウエハ外周の共通接線を用いて、上記イオンビームの照射範囲を設定し、注入照射領域を規定するイオン注入方法。 - 請求項1において、
上記ウエハ外周の全領域において、上記楕円形のビーム外周と上記ウエハ外周の共通接線を用いて、上記注入照射領域を規定するイオン注入方法。 - 請求項1において、
上記ウエハへのイオン注入中にイオン電流量微少変動が発生した場合でも、イオン注入量のウエハ面内均一性を確保しながら、ウエハ生産性を向上するために、
上記ウエハスロースキャン方向のウエハ直径を含む直線で2分割される上記注入照射領域の片側が四角形形状であり、
他の片側の上記注入照射領域が、上記共通接線によって規定される形状である、イオン注入方法。 - 請求項2または3において、
上記ウエハスロースキャン方向に直交する方向のスキャン終端位置を段階的に複数個設定し、上記ウエハへのイオン注入を中断することなく、上記ウエハスロースキャン方向のウエハスキャン位置に即して、上記スキャン終端位置の設定値を段階的に切り替えることによって、ウエハ全面にわたって、イオン注入を行うイオン注入方法。 - 請求項4において、
複数個設定されたスキャン終端位置の設定値を切り替える上記ウエハスロースキャン方向のウエハスキャン位置のうち、少なくとも一つは、上記ウエハスロースキャン方向のビーム重心の位置がウエハの内部に存在するようなウエハスロースキャン方向のウエハスキャン位置であり、かつ、少なくとも他の一つは、上記ウエハスロースキャン方向のビーム重心の位置がウエハの外部に存在するようなウエハスロースキャン方向のウエハスキャン位置であるイオン注入方法。 - イオン源で発生したイオンをイオンビームとしてウエハまで輸送し、上記ウエハをメカニカルにウエハスロースキャンさせると共に、ウエハスロースキャン方向に直交する方向に、上記イオンビームをビームファストスキャンさせる、または、メカニカルに上記ウエハをウエハファストスキャンさせるように構成し、また上記ウエハスロースキャン方向へのウエハスロースキャンと、上記ウエハスロースキャン方向に直交する方向へのイオンビームのビームファストスキャンまたはウエハのウエハファストスキャンを用いて、イオンビームを上記ウエハに照射するように構成したイオン注入装置であって、
上記ウエハへのイオン注入前にイオンビームの2次元ビーム形状を測定する手段と、測定された2次元ビーム形状を利用して、イオンビームの注入照射領域を定める制御手段とを備え、
上記制御手段は、上記測定された2次元ビーム形状を楕円形状に近似し、上記楕円形のビーム外周とウエハ外周の共通接線によって、上記イオンビームの照射範囲を設定し、注入照射領域を規定することを特徴とするイオン注入装置。 - 請求項6において、
上記制御手段は、上記ウエハ外周の全領域において、上記楕円形のビーム外周と上記ウエハ外周の共通接線を用いて、上記注入照射領域を規定することを特徴とするイオン注入装置。 - 請求項6において、
上記ウエハへのイオン注入中にイオン電流量微少変動が発生した場合でも、イオン注入量のウエハ面内均一性を確保しながら、ウエハ生産性を向上するために、上記制御手段は、上記ウエハスロースキャン方向のウエハ直径を含む直線で2分割される上記注入照射領域の片側が四角形形状であり、他の片側の上記注入照射領域が上記共通接線によって規定される形状である、注入照射領域を規定することを特徴とするイオン注入装置。 - 請求項7または8において、
上記ウエハスロースキャン方向に直交する方向のスキャン終端位置が段階的に複数個設定され、
上記制御手段は、上記ウエハへのイオン注入を中断することなく、上記ウエハスロースキャン方向のウエハスキャン位置に即して、上記スキャン終端位置の設定値を段階的に切り替えることによって、ウエハ全面にわたってイオン注入を行うことを特徴とするイオン注入装置。
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