JP2013108764A - 滑沢剤の展延解析装置、方法、プログラム、記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】滑沢剤の展延解析装置1は、錠剤を構成する粒子(賦形剤:ラクトース)および滑沢剤が混合されている被測定物2における滑沢剤の展延状態を判定する。滑沢剤の展延解析装置1は、20GHz以上500THz以下の周波数の電磁波を出力する電磁波出力器12と、電磁波を全反射する全反射面14aを有し、全反射面14aから生じるエバネッセント波を被測定物2が受ける光学素子14と、全反射面14aにより全反射された電磁波を検出する電磁波検出器18と、展延判定装置20とを備える。展延判定装置20は、所定の周波数領域の部分における、全反射面14aの反射率の、混合時間の経過に対する変化に基づき、滑沢剤の展延状態を判定する。なお、粒子の所定の周波数領域における電磁波の吸収率が、粒子の所定の周波数領域以外の周波数領域における電磁波の吸収率と比べて高い。
【選択図】図1
Description
Analytical Technology)が重要となっている。
スペクトル導出部20dは、電磁波検出器18の検出結果を、AD変換器20aを介して受ける。スペクトル導出部20dは、電磁波検出器18の検出結果に基づき、テラヘルツ波の全反射面14aによる反射率(または、反射率に基づく値)を、テラヘルツ波の周波数と、混合時間とに対応づけて導出する。なお、被測定物2は複数個取得した場合は、各々の被測定物2について測定された反射率の平均を、スペクトル導出部20dによる導出結果とする。
第二の実施形態にかかる滑沢剤の展延解析装置1は、スペクトル導出部20dが、全反射面14aによる反射率(または吸収率)をテラヘルツ波の周波数で2次微分した値を導出する点が、第一の実施形態と異なる。
第三の実施形態にかかる滑沢剤の展延解析装置1は、スペクトル導出部20dが、(1)全反射面14aによる反射率、(2)全反射面14aによる吸収率、(3)全反射面14aによる反射率または吸収率をテラヘルツ波の周波数で2次微分した値、のいずれかの標準偏差を導出する点が、第一の実施形態と異なる。なお、第三の実施形態においては、「2次微分」と記載したが、1次微分でもよく、n次微分(nは1以上の整数)であればよい。また、テラヘルツ波の周波数で2次微分等すると説明したが、テラヘルツ波の周波数に限らず、テラヘルツ波の波長または波数で2次微分等してもよい。すなわち、テラヘルツ波の周波数に基づく値で1次以上の微分を行えばよい。
2 被測定物
10 電磁波検出装置
11 被測定物取得部
13 被測定物配置部
15 被測定物排出部
12 電磁波出力器
14 光学素子
14a 全反射面
14b 入射面
14c 出射面
16 加圧器
18 電磁波検出器
20 展延判定装置
20a AD変換器
20b 参照スペクトル記録部
20c 混合時間入力部
20d スペクトル導出部
20e スペクトル記録部
20f 特徴周波数記録部
20g 特徴スペクトル抽出部
20h 特徴スペクトル記録部
20i 展延判定部
20j 展延記録部
20k 表示器
30 粉末混合装置
Claims (18)
- 錠剤を構成する粒子および滑沢剤が混合されている被測定物における前記滑沢剤の展延状態を解析する装置であって、
20GHz以上500THz以下の周波数の電磁波を出力する電磁波出力器と、
前記電磁波を全反射する全反射面を有し、該全反射面から生じるエバネッセント波を前記被測定物が受ける光学素子と、
前記全反射面により全反射された前記電磁波を検出する電磁波検出器と、
前記電磁波検出器の検出結果に基づき、前記電磁波の前記全反射面による反射率または該反射率に基づく値を、前記電磁波の周波数と、前記粒子または前記被測定物の製造条件とに対応づけて導出するスペクトル導出部と、
前記スペクトル導出部の導出結果から、前記製造条件に基づく特徴を抽出する特徴抽出部と、
を備えた滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記製造条件は、前記粒子および前記滑沢剤が混合される混合時間を含む、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記製造条件は、前記混合を行う混合装置の回転数を含む、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記製造条件に基づく特徴は、所定の周波数領域の部分であり、
前記粒子の前記所定の周波数領域における前記電磁波の吸収率が、前記粒子の前記所定の周波数領域以外の周波数領域における前記電磁波の吸収率と比べて変化している、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記製造条件に基づく特徴は、前記スペクトル導出部の導出結果を主成分分析することにより得られる主成分である、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記製造条件は、前記粒子および前記滑沢剤が混合される混合時間であり、
前記製造条件に基づく特徴は、所定の周波数領域の部分であり、
前記粒子の前記所定の周波数領域における前記電磁波の吸収率が、前記粒子の前記所定の周波数領域以外の周波数領域における前記電磁波の吸収率と比べて変化しており、
前記特徴抽出部の抽出結果の、前記混合時間の経過に対する変化に基づき、滑沢剤の展延状態を判定する展延判定部を備えた滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記反射率に基づく値は、前記電磁波の前記全反射面における吸収率である、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記反射率に基づく値は、前記反射率を前記電磁波の周波数に基づく値でn次微分した値、または前記電磁波の前記全反射面における吸収率を前記電磁波の周波数に基づく値でn次微分した値であり、前記nは、1以上の整数である、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記粒子および前記滑沢剤が混合されている混合物から、複数の前記被測定物が取得され、
前記反射率に基づく値は、複数の前記被測定物についての前記反射率の標準偏差、複数の前記被測定物についての前記電磁波の前記全反射面における吸収率の標準偏差、前記反射率を前記電磁波の周波数に基づく値でn次微分した値の標準偏差、または、前記吸収率を前記電磁波の周波数に基づく値でn次微分した値の標準偏差であり、前記nは、1以上の整数である、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記粒子が賦形剤である、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記粒子の前記所定の周波数領域における前記電磁波の吸収率が、前記粒子の前記所定の周波数領域以外の周波数領域における前記電磁波の吸収率よりも高い、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記光学素子は、
前記電磁波出力器から前記電磁波を受ける入射面と、
前記全反射面により全反射された前記電磁波が空気へ出射される出射面と、
を有し、
前記光学素子の屈折率は、前記空気の屈折率よりも高く、
前記光学素子の内部で全反射が生じ、
前記被測定物が前記光学素子の外部に配置され、かつ、前記全反射面に接する、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項12に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記被測定物が前記全反射面に押しつけられている、
滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記粒子および前記滑沢剤が混合されている混合物から、前記被測定物を取得する被測定物取得部と、
前記被測定物を前記全反射面に配置する被測定物配置部と、
前記電磁波の検出を終えた前記被測定物を前記全反射面から排出する被測定物排出部と、
を備えた滑沢剤の展延解析装置。 - 請求項1に記載の滑沢剤の展延解析装置であって、
前記展延判定部による前記展延状態の判定結果に基づき、前記粒子および前記滑沢剤の混合を停止させる、
滑沢剤の展延解析装置。 - 錠剤を構成する粒子および滑沢剤が混合されている被測定物における前記滑沢剤の展延状態を判定する装置であって、20GHz以上500THz以下の周波数の電磁波を出力する電磁波出力器と、前記電磁波を全反射する全反射面を有し、該全反射面から生じるエバネッセント波を前記被測定物が受ける光学素子と、前記全反射面により全反射された前記電磁波を検出する電磁波検出器とを有する滑沢剤の展延解析装置を用いて滑沢剤の展延状態を判定する方法であって、
前記電磁波検出器の検出結果に基づき、前記電磁波の前記全反射面による反射率または該反射率に基づく値を、前記電磁波の周波数と、前記粒子または前記被測定物の製造条件とに対応づけて導出するスペクトル導出工程と、
前記スペクトル導出工程の導出結果から、前記製造条件に基づく特徴を抽出する特徴抽出工程と、
を備えた滑沢剤の展延判定方法。 - 錠剤を構成する粒子および滑沢剤が混合されている被測定物における前記滑沢剤の展延状態を判定する装置であって、20GHz以上500THz以下の周波数の電磁波を出力する電磁波出力器と、前記電磁波を全反射する全反射面を有し、該全反射面から生じるエバネッセント波を前記被測定物が受ける光学素子と、前記全反射面により全反射された前記電磁波を検出する電磁波検出器とを有する滑沢剤の展延解析装置を用いて滑沢剤の展延状態を判定する処理をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記滑沢剤の展延状態を判定する処理が、
前記電磁波検出器の検出結果に基づき、前記電磁波の前記全反射面による反射率または該反射率に基づく値を、前記電磁波の周波数と、前記粒子または前記被測定物の製造条件とに対応づけて導出するスペクトル導出工程と、
前記スペクトル導出工程の導出結果から、前記製造条件に基づく特徴を抽出する特徴抽出工程と、
を備えたプログラム。 - 錠剤を構成する粒子および滑沢剤が混合されている被測定物における前記滑沢剤の展延状態を判定する装置であって、20GHz以上500THz以下の周波数の電磁波を出力する電磁波出力器と、前記電磁波を全反射する全反射面を有し、該全反射面から生じるエバネッセント波を前記被測定物が受ける光学素子と、前記全反射面により全反射された前記電磁波を検出する電磁波検出器とを有する滑沢剤の展延解析装置を用いて滑沢剤の展延状態を判定する処理をコンピュータに実行させるためのプログラムを記録したコンピュータによって読み取り可能な記録媒体であって、
前記滑沢剤の展延状態を判定する処理が、
前記電磁波検出器の検出結果に基づき、前記電磁波の前記全反射面による反射率または該反射率に基づく値を、前記電磁波の周波数と、前記粒子または前記被測定物の製造条件とに対応づけて導出するスペクトル導出工程と、
前記スペクトル導出工程の導出結果から、前記製造条件に基づく特徴を抽出する特徴抽出工程と、
を備えた記録媒体。
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