JP2013104086A - 電子ビーム蒸着装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】加速した電子を照射し加熱して蒸発させた材料5を、形成した磁場により電子を遮蔽しつつ基板フィルム2の表面に付着させて薄膜を形成する電子ビーム蒸着装置である。前記磁場を、複数の磁石10によって基板フィルム面に沿って形成させると共に、基板フィルム2を複数に配置した磁石10の一方側から他方側に向けた移動が可能なように構成する。
【効果】成膜範囲を広くした場合にも各々の磁石の磁場強度を低減でき、磁石と電子ビーム源間の距離を短くできるので、高速蒸着と、坩堝内の材料に照射された後の反射電子や、軌道をそれた電子による成膜部へのダメージ抑制を共に達成することができる。
【選択図】図1
Description
高速蒸着と、坩堝内の材料に照射された後の反射電子や軌道をそれた電子による成膜部へのダメージを抑制するために、
加速した電子を照射し加熱して蒸発させた材料を、形成した磁場により電子を遮蔽しつつ基板の表面に付着させて薄膜を形成する電子ビーム蒸着装置であって、
前記磁場を、複数の磁石によって基板面に沿って形成させると共に、前記基板を前記複数に配置した磁石の一方側から他方側に向けた移動が可能なように構成したことを最も主要な特徴としている。
本発明の電子ビーム蒸着装置は、図1に示したような構成を有している。
2 基板フィルム
3a 巻き出しロール
3d 冷却ロール
3e 巻き取りロール
5 材料
7 電子銃
8 坩堝
10 磁石
Claims (3)
- 加速した電子を照射し加熱して蒸発させた材料を、形成した磁場により電子を遮蔽しつつ基板の表面に付着させて薄膜を形成する電子ビーム蒸着装置であって、
前記磁場を、複数の磁石によって基板面に沿って形成させると共に、前記基板を前記複数に配置した磁石の一方側から他方側に向けた移動が可能なように構成したことを特徴とする電子ビーム蒸着装置。 - 前記基板の移動は、巻き出しロールに巻き取られた基板をロールを介して巻き取りロールに巻き取ることにより行い、前記複数の磁石は前記ロールの外周面に沿って配置することを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム蒸着装置。
- 前記複数の磁石間の最小磁束密度は10mTであることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子ビーム蒸着装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011247906A JP2013104086A (ja) | 2011-11-11 | 2011-11-11 | 電子ビーム蒸着装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2013104086A true JP2013104086A (ja) | 2013-05-30 |
Family
ID=48623871
Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04346664A (ja) * | 1991-05-20 | 1992-12-02 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 電子ビーム加熱式蒸着装置 |
JPH07211641A (ja) * | 1994-01-12 | 1995-08-11 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 電子ビーム蒸着器 |
JPH11283520A (ja) * | 1998-01-28 | 1999-10-15 | Eaton Corp | イオン源およびこれに使用する磁気フィルタ |
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2011
- 2011-11-11 JP JP2011247906A patent/JP2013104086A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH04346664A (ja) * | 1991-05-20 | 1992-12-02 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 電子ビーム加熱式蒸着装置 |
JPH07211641A (ja) * | 1994-01-12 | 1995-08-11 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 電子ビーム蒸着器 |
JPH11283520A (ja) * | 1998-01-28 | 1999-10-15 | Eaton Corp | イオン源およびこれに使用する磁気フィルタ |
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