JP2013100601A - フッ化処理による表面改質方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 title claims abstract description 42
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 77
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 57
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 37
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 8
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000002715 modification method Methods 0.000 claims description 22
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 17
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 17
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 24
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 20
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 8
- 229910020312 KCl—KF Inorganic materials 0.000 description 7
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- QLOAVXSYZAJECW-UHFFFAOYSA-N methane;molecular fluorine Chemical compound C.FF QLOAVXSYZAJECW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 3
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910013618 LiCl—KCl Inorganic materials 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000002484 cyclic voltammetry Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020879 Sn-Li Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008888 Sn—Li Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
Abstract
【解決手段】溶融塩を用いた電気化学プロセスによるフッ化処理による表面改質方法において、(a)フッ化物イオン源を含有する溶融塩を保持した電解槽1を準備し、(b)フッ化処理を施すための炭素あるいは金属などの基材表面を炭素膜で被覆した陽極4と陰極5とを電解浴中に配置し、(c)フッ化物イオン源が酸化される電位で炭素陽極4を通電することにより炭素陽極4の表面をフッ化処理するステップを含む。また、別の方法として、フッ化物イオン源とカーバイドイオン源を含む溶融塩を用いて、約2.5V(カソード限界の電位基準)よりも貴な電位で陽極を通電することにより陽極の表面にフッ素と炭素とを共析させたフッ化炭素膜を生成させても良い。
【選択図】図1
Description
C+F−→C-F+e−
Li++e−→Li
C2 2−→2C+2e−
C+F−→C-F+e−
Li++e−→Li
処理方法1で電解浴として使用する溶融塩としては、溶融塩中でフッ化物イオン源が安定に存在し得るものであれば、特に制限されることなく使用することができる。
処理温度(溶融塩を保持した電解槽の浴温)について特に制限はないが、選択した溶融塩の浴組成に応じて適宜選択することができる。
本発明の処理方法1において、フッ化処理による表面改質を施す陽極には、グラファイトやグラッシーカーボンなどバルクの炭素材料、あるいは、炭素膜で被覆された基板が用いられる。この炭素膜被覆基板については、本発明の処理温度において、表面の炭素膜が剥離や損耗することなく、電極として使用できる導電性を維持するものであれば、特に制限されない。一方、本発明の処理方法2において表面改質を施す陽極には、本発明の処理温度において、電極として使用できる導電性と形態を維持するものであれば、金属に限らず全ての種類の材料の使用が可能である。また、電解浴である溶融塩中に浸漬させるのみで反応したり又は成分が溶出したりするような材料であっても、フッ化処理が開始されて以降はそのような反応が進行せず、かつ該材料の形態が損なわれることがないものであれば、基板として使用することができる。
陽極においてフッ化処理による表面改質を行う際の陰極では、電解浴である溶融塩成分のアルカリ金属やアルカリ土類金属等のカチオンが還元される反応が生じる。例えば、代表的な電解浴である溶融LiCl−KCl−KFの場合、溶融塩中のLi+が還元されて金属Liが析出する。本発明の場合、LiCl−KCl−KFが使用される浴温では金属Liは液相にあるので、金属霧となって陽極−陰極間の短絡を引き起こす可能性がある。そのため、陰極に金属Alを用いることでAl−Li合金を形成させたり、或いは、液体金属Snを用いることによりSn−Li液相合金を生成させるなどして金属Liの固定化及び回収を容易にさせ、金属Liによる陽極−陰極間の短絡を防止する必要がある。
本発明の処理方法1における電解時の電極電位については、溶融塩中のフッ化物イオン源が電気化学的に酸化されてフッ化処理による表面改質が進行するような電位領域にあるように、電極電位若しくは電解電流を制御すればよい。例えば、浴温が400℃程度の溶融LiCl−KCl−KFを電解浴に用いる場合、約2.5V(Li+/Li基準)よりも貴な電位で電解を行うことが好ましい。
付着塩の洗浄には、溶融塩電解など他の溶融塩を取り扱う場合の一般的な洗浄方法を利用することができる。例えば、脱酸素処理をした温水を使用すれば、付着塩は容易に除去することができる。また、洗浄中の酸化を防ぐために、洗浄時の雰囲気は、不活性ガスや水素などにより非酸化雰囲気下又は還元雰囲気下に保持してもよい。
Claims (4)
- 溶融塩を用いた電気化学プロセスによるフッ化処理による表面改質方法において、
(a)フッ化物イオン源を含有する溶融塩を保持した電解槽を準備するステップと、
(b)前記電解槽中に、フッ化処理を施すための炭素陽極と陰極とを配置するステップと、そして
(c)前記炭素陽極を、前記フッ化物イオン源が酸化される電位で通電することにより前記炭素陽極の表面をフッ化処理するステップと
を含んでいる、フッ化処理による表面改質方法。 - 前記炭素陽極は炭素が被覆された陽極である、請求項1に記載のフッ化処理による表面改質方法。
- 溶融塩を用いた電気化学プロセスによるフッ化処理による表面改質方法において、
(a)フッ化物イオン源とカーバイドイオン源を含む溶融塩を保持した電解槽を準備するステップと、
(b)前記電解槽中に、表面改質を施すための陽極と陰極とを配置するステップと、そして
(c)前記陽極を、前記フッ化物イオン源とカーバイドイオン源が酸化される電位で通電することにより前記陽極の表面にフッ素と炭素とを共析させたフッ化炭素膜を生成させるステップと
を含み、
前記ステップ(c)においては、前記陽極は約2.5V(カソード限界の電位基準)よりも貴な電位で通電される、フッ化処理による表面改質方法。 - 前記カーバイドイオン源の原料は、CaC2である、請求項3に記載のフッ化処理による表面改質方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012227601A JP6091150B2 (ja) | 2011-10-14 | 2012-10-15 | フッ化処理による表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011226915 | 2011-10-14 | ||
JP2011226915 | 2011-10-14 | ||
JP2012227601A JP6091150B2 (ja) | 2011-10-14 | 2012-10-15 | フッ化処理による表面改質方法 |
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JP2013100601A true JP2013100601A (ja) | 2013-05-23 |
JP6091150B2 JP6091150B2 (ja) | 2017-03-08 |
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---|---|---|---|
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