JP2013099708A - 帯状基材へのロール塗布方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】連続的に走行する帯状基材に対して多層塗布を行う際に、高速で安定した薄膜塗布を効率よく行うことができるロール塗布方法及び装置を提供する。
【解決手段】連続的に走行する帯状基材１に対して、アプリケーターロール５を基材１と接触させて塗布液を基材１に塗布するロール塗布方法において、アプリケーターロール５に対してスリットダイ７により２層以上の多層コートを行い、その際のアプリケーターロール５上の塗布液膜厚さをｔ_ａ（μｍ）とした場合、アプリケーターロール５のロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）をＤ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３とし、アプリケーターロール５の回転速度Ｖ_ａと基材１の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整を行い、アプリケーターロール５から基材１に転写されずに残った塗布液は掻取装置６によって除去することを特徴とする帯状基材へのロール塗布方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、帯状の基材に連続して塗液を塗布処理するロール塗布方法及び塗布装置に関する。

従来、連続して走行する帯状基材（例えば、鋼帯）に耐食性、加工性、美観性、絶縁性等の性能を付与するために各種の塗膜を金属表面上に形成させる処理を行っている。この処理方法としてはロールコーター（ロール塗布装置）が一般的に用いられており、このロールコーター方式は、連続的に走行する基材に対して、アプリケーターロールを基材と接触させ、接触部において基材進行方向と逆向きに回転させることにより塗布液を塗布するものである。

近年、高耐食性、高絶縁性など、高付加価値ニーズの高まりから、皮膜設計において多層皮膜が求められる場合がある。

多層塗布方法としては、図４に示すように、複数のスリットを備えたスリットダイ（スリットダイコーター）７を基材１に接触させて多層塗布するスリットダイコーター方式の塗布装置３１（例えば、特許文献１参照）や、図５に示すように、複数のスリットから塗液を供給し、基材１にカーテン状に垂らすカーテンコーター９によって基材１に多層塗布するカーテンコーター方式の塗布装置３２（例えば、特許文献２参照）が知られている。なお、図４、図５において、８はバックアップロールであり、１０はサクション装置（吸引装置）である。

特開２００４−１６０２７４号公報 特開２００６−１５０１８４号公報

しかしながら、図４に示したスリットダイ方式を用いた場合、薄膜化させるためには、基材１と塗布液を供給するダイ（スリットダイ）７とのギャップを所望する膜厚程度まで近接化させる必要があり、ガラス基板等の平滑な基材であれば近接化は可能であるが、連続して走行する鋼帯の場合、幅方向、長手方向とも形状変動が発生するためダイの近接化は困難である。また、図５に示したカーテンコーター方式の場合、塗布液によってカーテンを形成できる最小液流量が決まるため、ライン速度をある程度速くしない限り厚膜となる。しかし、ライン速度を速くすると空気同伴など塗布ムラが引き起こされるので、薄膜塗布は困難である。

一方、ロールコーター方式によって多層塗布を行う場合は、一般的には、１層目の塗布を行った上に２層目の塗布を行うというようにして多層塗布を行うことになるが、１層目が液層のまま２層目を塗布すると１層目が掻き取られてしまい、積層状の皮膜を構築することができない。そのため、塗布後に乾燥過程を経て、２層目を塗布する必要がある。しかし、その場合、塗布工程と乾燥工程が２回必要となり、ランニングコストが増大する。

本発明は、前記のような事情に鑑みてなされたものであり、連続的に走行する帯状基材に対して多層塗布を行う際に、高速で安定した薄膜塗布を効率よく行うことができるロール塗布方法及び装置を提供することを目的とするものである。

上記課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有する。

［１］連続的に走行する帯状基材に対して、アプリケーターロールを前記基材と接触させ、その接触部において基材進行方向と逆向きに回転させることにより塗布液を塗布するロール塗布方法において、前記アプリケーターロールに対してスリットダイにより２層以上の多層コートを行い、その際の前記アプリケーターロール上の塗布液膜厚さをｔ_ａ（μｍ）とした場合、前記アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）をＤ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３とし、前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａと前記基材の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整を行い、前記アプリケーターロールから前記基材に転写されずに残った塗布液は掻取装置によって除去することを特徴とする帯状基材へのロール塗布方法。

［２］連続的に走行する帯状基材に対して、アプリケーターロールを前記基材と接触させ、その接触部において基材進行方向と逆向きに回転させることにより塗布液を塗布するロール塗布方法において、前記アプリケーターロールに対して中間ロールを介してスリットダイにより２層以上の多層コートを行い、その際の前記中間ロール上の塗布液膜厚さをｔ_ｃ（μｍ）とした場合、前記中間ロールのロール径Ｄ_ｃ（ｍｍ）をＤ_ｃ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３とするとともに、前記アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）をＤ_ａ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３とし、前記中間ロールを前記アプリケーターロールとの接触部において逆向きに回転させることによりアプリケーターロールへ塗布液を供給し、前記中間ロールの回転速度Ｖ_ｃと前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａが０．９≦Ｖ_ｃ／Ｖ_ａ≦１．２となり、前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａと前記基材の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整し、前記中間ロールから前記アプリケーターロールに転写されずに残った塗布液は掻取装置によって除去することを特徴とする帯状基材へのロール塗布方法。

［３］前記アプリケーターロールは、金属ロールにゴムをライニングしたゴム被覆ロールとすることを特徴とする前記［１］または［２］に記載の帯状基材へのロール塗布方法。

［４］前記スリットダイに、塗布部上流側に負圧を発生させるサクション機構を配設すること特徴とする前記［１］〜［３］のいずれかに記載の帯状基材へのロール塗布方法。

［５］連続的に走行する帯状基材に対して、アプリケーターロールが前記基材と接触し、その接触部において基材進行方向と逆向きに回転することにより塗布液を塗布するロール塗布装置において、前記アプリケーターロールに対してスリットダイにより２層以上の多層コートを行い、その際の前記アプリケーターロール上の塗布液膜厚さをｔ_ａ（μｍ）とした場合、前記アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）がＤ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３であり、前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａと前記基材の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整され、前記アプリケーターロールから前記基材に転写されずに残った塗布液を除去する掻取装置が前記アプリケーターロールに配設されていることを特徴とする帯状基材へのロール塗布装置。

［６］連続的に走行する帯状基材に対して、アプリケーターロールが前記基材と接触し、その接触部において基材進行方向と逆向きに回転さすることにより塗布液を塗布するロール塗布装置において、前記アプリケーターロールに対して中間ロールを介してスリットダイにより２層以上の多層コートを行い、その際の前記中間ロール上の塗布液膜厚さをｔ_ｃ（μｍ）とした場合、前記中間ロールのロール径Ｄ_ｃ（ｍｍ）がＤ_ｃ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３であるとともに、前記アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）がＤ_ａ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３であり、前記中間ロールが前記アプリケーターロールとの接触部において逆向きに回転することによりアプリケーターロールへ塗布液を供給し、前記中間ロールの回転速度Ｖ_ｃと前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａが０．９≦Ｖ_ｃ／Ｖ_ａ≦１．２となり、前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａと前記基材の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整され、前記中間ロールから前記アプリケーターロールに転写されずに残った塗布液を除去する掻取装置が前記中間ロールに配設されていることを特徴とする帯状基材へのロール塗布装置。

［７］前記アプリケーターロールは、金属ロールにゴムをライニングしたゴム被覆ロールであることを特徴とする前記［５］または［６］に記載の帯状基材へのロール塗布装置。

［８］前記スリットダイは、塗布部上流側に負圧を発生させるサクション機構を備えていること特徴とする前記［５］〜［７］のいずれかに記載の帯状基材へのロール塗布装置。

本発明においては、連続的に走行する帯状基材に対して多層塗布を行う際に、高速で安定した薄膜塗布を効率よく行うことができる。

本発明の実施形態１を示す側面図である。 本発明の実施形態２を示す側面図である。 本発明の実施形態において用いるスリットダイを示す側面図である。 従来技術（スリットダイ方式）を示す側面図である。 従来技術（カーテンコーター方式）を示す側面図である。

本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。

［実施形態１］
図１は、本発明の実施形態１におけるロール塗布装置２１を示す側面図である。

図１に示すように、この実施形態１におけるロール塗布装置２１は、連続的に走行する帯状基材（例えば、鋼帯）１に対して、アプリケーターロール５を基材１と接触させ、その接触部において基材１進行方向と逆向きに回転させることにより塗布液を基材１に転写・塗布するロール塗布装置であり、アプリケーターロール６に対してスリットダイ７により２層以上の多層コート（多層塗布）を行い、多層コートされたアプリケーターロール６を基材１と接触させて、基材１に多層塗布液の転写・塗布（多層塗布）を行うようになっている。なお、図１において、２は塗布液回収容器、３は塗布液、６は掻取装置、８はバックアップロールである。

ここで用いるスリットダイ７としては、例えば２層塗布の場合、図３に示すように、別々の塗布液を供給する２本の塗布液供給部７ａ、７ｂを備えたものであり、好ましくは、塗布液供給部７ａ、７ｂのアプリケーターロール５回転方向上流側において負圧を発生させるサクション部（吸引部）７ｃを備えたものを用いる。塗布液供給部７ａ、７ｂのアプリケーターロール５回転方向上流側において負圧を発生させることで、塗布液供給部７ａ、７ｂから塗布液が供給されるメニスカスの形状を安定して保ち、膜厚に対して数倍程度のギャップを確保することが可能となる。なお、スリットダイ７への塗布液の供給は一定流量を安定して吐出できるポンプ（図示せず）により行う。そして、サクション部７ｃの負圧、アプリケーターロール５とスリットダイ７とのギャップ等を調整することでアプリケーターロール５上に安定した多層液膜塗布を行う。

次に、スリットダイ７からアプリケーターロール５に多層液膜を塗布した後、アプリケーターロール５と基材１との接触部において、逆方向に回転するアプリケーターロール５上の多層塗布液を基材１に転写する際、液メニスカスの形状が多層状態に大きく影響を及ぼす。実験の結果、アプリケーターロール５上の塗布液膜厚さがｔ_ａ（μｍ）の場合、アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）が下記（１）式を満足するようにすることで液メニスカス形状が安定し、美麗な多層膜が得られることを見い出した。

Ｄ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３ ・・・（１）

これは、アプリケーターロール５とメニスカスとの接触部が小さくなり、メニスカスが乱れの影響を受ける領域が減少して、メニスカスが安定する効果が向上したものと考えられる。

また、アプリケーターロール５の回転速度（外周速度）Ｖ_ａと基材１の走行速度（ライン速度）Ｖ_Ｌとの速度比Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌについては、下記（２）式を満足するように調整する必要がある。

０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２ ・・・（２）

これは、速度比Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌが０．９より小さくなった場合や１．２より大きくな場合、アプリケーターロール５と基材１の間のメニスカスが乱れ、多層状態が維持されず攪拌されてしまうからである。

更に美麗な層状構造を維持するには、速度比Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌを０．９５以上、１．１以下とすることが好ましい。

そして、アプリケーターロール５には、アプリケーターロール５から基材１に転写されずに残った塗布液は除去するための掻取装置６を取り付ける必要がある。これは、基材１に転写されずに残った塗布液がそのままスリットダイ７の塗布部（塗布液供給部７ａ、７ｂの先端部）に供給されると、安定塗布の妨げになるからである。なお、掻取装置６は、塗布液を掻き取ることができればどのようなものでも良い。例えば、ブレードを設置するのが簡便である。ブレードの素材は金属でもゴムでも良く、均一な掻き取り性が得られればよい。

なお、基材１が鋼帯等の金属帯の場合、アプリケーターロール５には、金属ロール表面にゴムをライニングしたゴム被覆ロールを用いる。ゴム被覆ロールにすることにより、偏芯の影響を弾性変形により吸収でき、外観ムラや付着量変化を軽減できる。ゴムライニング厚は５〜４０ｍｍ程度が好ましい。また、ゴム硬度は４０Ｈｓ〜８０Ｈｓ程度が好ましい。

このようにして、本発明の実施形態１においては、上記のような構成を備えることによって、連続的に走行する基材に対して多層塗布を行う際に、高速で安定した薄膜塗布を効率よく行うことができる。

［実施形態２］
図２は、本発明の実施形態２におけるロール塗布装置２２を示す側面図である。

上述した本発明の実施形態１におけるロール塗布装置２１は、塗布対象となる基材１が少量の場合は、安定した塗布を行うことができるが、基材が多量で長時間の連続塗布が必要な場合には、アプリケーターロール５が磨耗して不均一形状となってしまい、塗布欠陥が発生することが懸念される。

そこで、連続運転による大量生産に対応できるように、この実施形態２におけるロール塗布装置２２では、図２に示すように、基本的な構成は図１に示した実施形態１のロール塗布装置２１と同様にした上で、スリットダイ７とアプリケーターロール５の間に、スリットダイ７から供給された塗布液をアプリケーターロール５に転写する中間ロール４を設けている。これによって、スリットダイ７から中間ロール４を介してアプリケーターロール５に２層以上の多層コート（多層塗布）を行い、多層コートされたアプリケーターロール６を基材１と接触させて、基材１に多層塗布液の転写・塗布（多層塗布）を行うようになっている。

ここで、中間ロール４には、表面が鏡面加工されたフラット形状のロールを用いている。また、中間ロール４とアプリケーターロール５の回転方向は、中間ロール４とアプリケーターロール５の間およびアプリケーターロール５と基材１の間においてそれぞれ逆方向となるようになっている。

その際に、実施形態１において述べた方法と同様にして、中間ロール４上の塗布液膜厚さがｔ_ｃ（μｍ）の場合、中間ロール４のロール径Ｄ_ｃ（ｍｍ）とアプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）がそれぞれ下記（３）式、（４）式を満足するようにしている。

Ｄ_ｃ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３ ・・・（３）
Ｄ_ａ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３ ・・・（４）

これによって、液メニスカス形状が安定し、美麗な多層膜が得られる。

また、実施形態１において述べた方法と同様にして、中間ロール４の回転速度（外周速度）Ｖ_ｃとアプリケーターロール５の回転速度（外周速度）Ｖ_ａとの速度比Ｖ_ｃ／Ｖ_ａと、アプリケーターロール５の回転速度（外周速度）Ｖ_ａと基材１の走行速度（ライン速度）Ｖ_Ｌとの速度比Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌについては、それぞれ下記（５）式、（６）式を満足するように調整する必要がある。

０．９≦Ｖ_ｃ／Ｖ_ａ≦１．２ ・・・（５）
０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２ ・・・（６）

更に美麗な層状構造を維持するには、速度比Ｖ_ｃ／Ｖ_ａとＶ_ａ／Ｖ_Ｌをそれぞれ０．９５以上、１．１以下とすることが好ましい。

そして、実施形態１において述べた方法と同様にして、中間ロール４には、中間ロール４からアプリケーターロール５に転写されずに残った塗布液は除去するための掻取装置（例えば、ブレード）６を取り付ける必要がある。なお、アプリケーターロール５に掻取装置６を取り付けてもよい。

このようにして、本発明の実施形態２においては、上記のような構成を備えることによって、連続的に走行する基材に対して多層塗布を行う際に、長時間にわたって高速で安定した薄膜塗布を効率よく行うことができる。

なお、上記の実施形態１、２においては、基材１をバックアップロール８に巻き付けた状態で基材１の片面に塗布しているが、本発明は、基材を挟んで両側にロール塗布装置を配置して両面同時に塗布を行う場合にも適用することができる。

また、基材は鋼帯に限定されることなく、アルミ等の他の金属帯や、紙、フィルム等も対象とすることができる。

本発明を以下の本発明例、比較例、従来例により詳細に説明する。

本発明例１〜３として、上記の本発明の実施形態１に基づいて、図１に示したロール塗布装置２１を用いて、板厚０．８ｍｍ、板幅３００ｍｍの亜鉛メッキ鋼板のコイルに対して、表１に示した塗布条件で２層塗布を行った。

その際に、アプリケーターロール５には、ウレタンゴムをライニングしたゴム被覆ロールを用いた。ゴムライニング厚は２０ｍｍ、ウレタンゴムの硬度はＨｓ５５°である。アプリケーターロール５のロール径Ｄ_ａは１５０ｍｍとした。塗布液については、下層には粘性係数２．０ｍＰａ・ｓ（液温度２０℃時）で固形分濃度６ｗｔ％、上層には粘性係数４．０ｍＰａ・ｓ（液温度２０℃時）で固形分濃度８ｗｔ％のものを用いた。塗布液膜厚さについては、上層、下層共にアプリケーターロール５上の液膜厚さが５μｍ、２層合計の液膜厚さｔ_ａが１０μｍとなるように調整した。これにより、前述した（１）式（Ｄ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３）が満足された。また、アプリケーターロール５の回転速度（外周速度）Ｖ_ａと基材１の走行速度（ライン速度）Ｖ_Ｌとの速度比Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌについては、前述した（２）式（０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２）を満足するように調整した。

これに対して、比較例１、２として、他の条件は本発明例１〜３と同じにして、表１に示すように、速度比Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌが、前述した（２）式（０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２）を満足しない条件で２層塗布を行った。

また、本発明例４〜６として、上記の本発明の実施形態２に基づいて、図２に示したロール塗布装置２２を用いて、板厚０．８ｍｍ、板幅３００ｍｍの亜鉛メッキ鋼板のコイルに対して、表１に示した塗布条件で２層塗布を行った。

その際に、中間ロール４には、硬質クロム鍍金を施した表面がフラットな金属ロールを用い、アプリケーターロール５には、ウレタンゴムをライニングしたゴム被覆ロールを用いた。ゴムライニング厚は２０ｍｍ、ウレタンゴムの硬度はＨｓ５５°である。中間ロール４のロール径Ｄ_ｃとアプリケーターロール５のロール径Ｄ_ａは共に１５０ｍｍとした。塗布液については、下層には粘性係数２．０ｍＰａ・ｓ（液温度２０℃時）で固形分濃度６ｗｔ％、上層には粘性係数４．０ｍＰａ・ｓ（液温度２０℃時）で固形分濃度８ｗｔ％のものを用いた。塗布液膜厚さについては、上層、下層共に中間ロール４上の液膜厚さが５μｍ、２層合計の液膜厚さｔ_ｃが１０μｍとなるように調整した。これにより、前述した（３）式（Ｄ_ｃ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３）と（４）式（Ｄ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３）が満足された。また、中間ロール４の回転速度（外周速度）Ｖ_ｃとアプリケーターロール５の回転速度（外周速度）Ｖ_ａとの速度比Ｖ_ｃ／Ｖ_ａならびにアプリケーターロール５の回転速度（外周速度）Ｖ_ａと基材１の走行速度（ライン速度）Ｖ_Ｌとの速度比Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌについては、それぞれ前述した（５）式（０．９≦Ｖ_ｃ／Ｖ_ａ≦１．２）と（６）式（０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２）を満足するように調整した。

これに対して、比較例３、４として、他の条件は本発明例４〜５と同じにして、表１に示すように、速度比Ｖ_ｃ／Ｖ_ａと速度比Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌが、前述した（５）式（０．９≦Ｖ_ｃ／Ｖ_ａ≦１．２）と（６）式（０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２）を満足しない条件で２層塗布を行った。

また、従来例１、２として、それぞれ、図４に示したスリットダイコーター方式の塗布装置３１と、図５に示したカーテンコーター方式の塗布装置３２を用いて、板厚０．８ｍｍ、板幅３００ｍｍの亜鉛メッキ鋼板のコイルに対して、表１に示した塗布条件で２層塗布を行った。

そして、これらの本発明例１〜６、比較例１〜４、従来例１、２について、乾燥後の塗布外観の評価および塗膜断面の積層状態の確認を行った。具体的には、焼き付け乾燥後にサンプルを切り出し、目視およびＳＥＭによる断面観察を行った。その結果を表１に示す。

次に、アプリケーターロール５のロール径Ｄ_ａとアプリケーターロール５上の液膜厚さｔ_ａに関する上記（１）式（Ｄ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３）の関係を検証するために、本発明例１１〜１３として、他の条件は本発明例１〜３と同じにして、表２に示すように、液膜厚さｔ_ａとロール径Ｄ_ａを変更して２層塗布を行った。

これに対して、比較例１１〜１３として、他の条件は本発明例１１〜１３と同じにして、表２に示すように、上記の（１）式（Ｄ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３）の関係を満足しない条件で２層塗布を行った。

そして、これらの本発明例１１〜１３、比較例１１〜１３について、乾燥後の塗布外観の評価および塗膜断面の積層状態の確認を行った。具体的には、焼き付け乾燥後にサンプルを切り出し、目視およびＳＥＭによる断面観察を行った。その結果を表２に示す。

表１、表２に示すように、本発明例１〜６、１１〜１３では、上下層の各塗布液膜厚さが５．０μｍ程度の２層皮膜を均一に塗布することができている。これに対して、比較例１〜４、１１〜１３では、上層と下層が混ざり合い、積層状の皮膜が得られなかった。また、従来例１、２では、カスレやカーテン液膜形成不能となり、安定塗布はできなかった。

１ 基材（帯状基材）
２ 塗布液回収容器
３ 塗布液
４ 中間ロール
５ アプリケーターロール
６ 掻取装置（ブレード）
７ スリットダイ（スリットダイコーター）
７ａ 塗布液供給部
７ｂ 塗布液供給部
７ｃ サクション部（吸引部）
８ バックアップロール
９ カーテンコーター
１０ サクション装置（吸引装置）
２１ ロール塗布装置
２２ ロール塗布装置
３１ スリットダイコーター方式の塗布装置
３２ カーテンコーター方式の塗布装置

Claims (8)

1. 連続的に走行する帯状基材に対して、アプリケーターロールを前記基材と接触させ、その接触部において基材進行方向と逆向きに回転させることにより塗布液を塗布するロール塗布方法において、前記アプリケーターロールに対してスリットダイにより２層以上の多層コートを行い、その際の前記アプリケーターロール上の塗布液膜厚さをｔ_ａ（μｍ）とした場合、前記アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）をＤ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３とし、前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａと前記基材の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整を行い、前記アプリケーターロールから前記基材に転写されずに残った塗布液は掻取装置によって除去することを特徴とする帯状基材へのロール塗布方法。
2. 連続的に走行する帯状基材に対して、アプリケーターロールを前記基材と接触させ、その接触部において基材進行方向と逆向きに回転させることにより塗布液を塗布するロール塗布方法において、前記アプリケーターロールに対して中間ロールを介してスリットダイにより２層以上の多層コートを行い、その際の前記中間ロール上の塗布液膜厚さをｔ_ｃ（μｍ）とした場合、前記中間ロールのロール径Ｄ_ｃ（ｍｍ）をＤ_ｃ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３とするとともに、前記アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）をＤ_ａ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３とし、前記中間ロールを前記アプリケーターロールとの接触部において逆向きに回転させることによりアプリケーターロールへ塗布液を供給し、前記中間ロールの回転速度Ｖ_ｃと前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａが０．９≦Ｖ_ｃ／Ｖ_ａ≦１．２となり、前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａと前記基材の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整し、前記中間ロールから前記アプリケーターロールに転写されずに残った塗布液は掻取装置によって除去することを特徴とする帯状基材へのロール塗布方法。
3. 前記アプリケーターロールは、金属ロールにゴムをライニングしたゴム被覆ロールとすることを特徴とする請求項１または２に記載の帯状基材へのロール塗布方法。
4. 前記スリットダイに、塗布部上流側に負圧を発生させるサクション機構を配設すること特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の帯状基材へのロール塗布方法。
5. 連続的に走行する帯状基材に対して、アプリケーターロールが前記基材と接触し、その接触部において基材進行方向と逆向きに回転することにより塗布液を塗布するロール塗布装置において、前記アプリケーターロールに対してスリットダイにより２層以上の多層コートを行い、その際の前記アプリケーターロール上の塗布液膜厚さをｔ_ａ（μｍ）とした場合、前記アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）がＤ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３であり、前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａと前記基材の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整され、前記アプリケーターロールから前記基材に転写されずに残った塗布液を除去する掻取装置が前記アプリケーターロールに配設されていることを特徴とする帯状基材へのロール塗布装置。
6. 連続的に走行する帯状基材に対して、アプリケーターロールが前記基材と接触し、その接触部において基材進行方向と逆向きに回転さすることにより塗布液を塗布するロール塗布装置において、前記アプリケーターロールに対して中間ロールを介してスリットダイにより２層以上の多層コートを行い、その際の前記中間ロール上の塗布液膜厚さをｔ_ｃ（μｍ）とした場合、前記中間ロールのロール径Ｄ_ｃ（ｍｍ）がＤ_ｃ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３であるとともに、前記アプリケーターロールのロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）がＤ_ａ≦３．３ｔ_ｃ＋１３３．３であり、前記中間ロールが前記アプリケーターロールとの接触部において逆向きに回転することによりアプリケーターロールへ塗布液を供給し、前記中間ロールの回転速度Ｖ_ｃと前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａが０．９≦Ｖ_ｃ／Ｖ_ａ≦１．２となり、前記アプリケーターロールの回転速度Ｖ_ａと前記基材の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整され、前記中間ロールから前記アプリケーターロールに転写されずに残った塗布液を除去する掻取装置が前記中間ロールに配設されていることを特徴とする帯状基材へのロール塗布装置。
7. 前記アプリケーターロールは、金属ロールにゴムをライニングしたゴム被覆ロールであることを特徴とする請求項５または６に記載の帯状基材へのロール塗布装置。
8. 前記スリットダイは、塗布部上流側に負圧を発生させるサクション機構を備えていること特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の帯状基材へのロール塗布装置。