JP2013095706A - 光塩基発生剤及びこれを含有する感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立に:水素、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、若しくはアンモニオ基;又は、置換基を含んでもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数6〜22の芳香族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、置換基を含んでもよいアリールオキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基;であり、R1、R2、R3及びR4のうち2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、
R5及びR6はそれぞれ独立に:水素、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、若しくはホスホナト基;又は、置換基を含んでもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数6〜22の芳香族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、置換基を含んでもよいアリールオキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基;であり、そして、
Zは下記一般式(2)又は(3):
R7、R8、R9及びR10はそれぞれ独立に:水素原子;又は、置換基を含んでもよい炭素数4〜10の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数4〜10のアルコキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基;であり、但し、R7及びR8の少なくとも1つ並びにR9及びR10の少なくとも1つは、置換基を含んでもよい炭素数4〜10の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数4〜10のアルコキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基であり、そして、
R11及びR12はそれぞれ独立に、置換基を含んでもよい炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基である。)
で表される部分構造である。}
で表される、光塩基発生剤。
[2] 該一般式(1)において、Zが該一般式(2)で表される部分構造である、上記[1]に記載の光塩基発生剤。
[3] 該一般式(1)において、R1、R2、R3、R4、R5及びR6が水素である、上記[1]又は[2]に記載の光塩基発生剤。
[4] メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、ガンマブチロラクトン、及びメタノールからなる群から選択される少なくとも1つの溶媒に対する25℃での溶解性が、溶液中の光塩基発生剤濃度で1質量%以上である、上記[1]〜[3]のいずれかに記載の光塩基発生剤。
[5] エポキシ基を有する化合物(a)、
上記[1]〜[4]のいずれかに記載の光塩基発生剤を含む光塩基発生剤(b)、
チオール基を有する硬化剤(c)、並びに
カルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)、
を含有する、感光性樹脂組成物。
[6] 該エポキシ基を有する化合物(a)が、ノボラック型エポキシ樹脂又はノボラック型エポキシ樹脂変性物である、上記[5]に記載の感光性樹脂組成物。
[7] 該チオール基を有する硬化剤(c)が、チオールカルボン酸エステル化物である、上記[5]又は[6]に記載の感光性樹脂組成物。
[8] 該エポキシ基を有する化合物(a)、並びに該カルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)が、いずれも下記一般式(4):
Ra、Rb、Rc、Rd及びReはそれぞれ独立に:飽和若しくは二重結合を1つ有する脂肪族炭化水素基;芳香族炭化水素基;鎖状脂肪族飽和炭化水素基と芳香族炭化水素基とが連結された基;又はこれらの基から選択される2つ以上が直接若しくは少なくとも酸素原子を介して連結された基;であり、置換基を含んでも無置換であってもよく、そして、
n1、n2及びn3は1以上の整数である。}
で表される化合物である、上記[5]〜[7]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[9] 以下の(1)〜(3)の工程:
(1)エポキシ基を有する化合物(a)、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の光塩基発生剤を含む光塩基発生剤(b)、チオール基を有する硬化剤(c)、並びにカルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)を含有する感光性樹脂組成物を、基材に塗布して膜を形成する工程、
(2)該膜に光照射することにより、該膜中に塩基を発生させ、該膜を硬化させる工程、並びに、
(3)該膜の硬化していない部分を、アルカリ現像液により該基材から除去することにより、該基材上にパターンを形成する工程、
を含む、パターン形成された基材の製造方法。
[10] 上記[9]に記載の製造方法により得られる基材を備える、電子部品。
本発明の一態様は、下記一般式(1):
R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立に:水素、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、若しくはアンモニオ基;又は、置換基を含んでもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数6〜22の芳香族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、置換基を含んでもよいアリールオキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基(例えば、アラルキル基、アルキルアリール基、アルコキシアルキル基、アリールオキシアルキル基等);であり、R1、R2、R3及びR4のうち2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、
R5及びR6はそれぞれ独立に:水素、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、若しくはホスホナト基;又は、置換基を含んでもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数6〜22の芳香族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、置換基を含んでもよいアリールオキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基(例えば、アラルキル基、アルキルアリール基、アルコキシアルキル基、アリールオキシアルキル基等);であり、そして、
Zは下記一般式(2)又は(3):
R7、R8、R9及びR10はそれぞれ独立に:水素原子;又は、置換基を含んでもよい炭素数4〜10の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数4〜10のアルコキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基;であり、但し、R7及びR8の少なくとも1つ並びにR9及びR10の少なくとも1つは、置換基を含んでもよい炭素数4〜10の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数4〜10のアルコキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基(例えば、アルコキシアルキル基等)であり、そして、
R11及びR12はそれぞれ独立に、置換基を含んでもよい炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基である。)
で表される部分構造である。}
で表される光塩基発生剤を提供する。上記光塩基発生剤は、光の照射、又は光の照射と加熱とにより塩基を発生することができる。
本発明の別の態様は、エポキシ基を有する化合物(a)((a)成分ともいう)、前述した本発明の一態様に係る光塩基発生剤を含む光塩基発生剤(b)(b)成分ともいう)、チオール基を有する化合物(c)((c)成分ともいう)、並びにカルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)((d)成分ともいう)を含有する感光性樹脂組成物を提供する。
本実施の形態の感光性樹脂組成物に用いることのできるエポキシ基を有する化合物(a)としては、その種類に特に制限はなく、例えば、エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂変性物が挙げられる。
本実施の形態の感光性樹脂組成物は、前述した本発明の一態様に係る光塩基発生剤を含む光塩基発生剤(b)を含有する。光塩基発生剤(b)は、本発明の一態様に係る1種又は2種以上の光塩基発生剤からなるものでもよいし、1種又は2種以上の追加の光塩基発生剤を含有してもよい。追加の光塩基発生剤としては、公知のものであれば特に制限は無く、例えば、ベンジル型光脱保護基タイプ(例えば、J.Org.Chem.,55(1990)5919に記載されるもの)、Norrish Type II(例えば、J.Chem.Soc.,Perkin Trans.I,1975,1069に記載されるもの)、Norrish Type I(例えば、J.Am.Chem.Soc.,118(1996)12925に記載されるもの)、アミンイミドタイプ(例えば、J.Polym.Sci.Polym.Chem.,40(2002)4045に記載されるもの)、ウレタンオキシムタイプ(例えば、J.Photopolym.Sci.Technol.18(2005)141に記載されるもの)、アルキルオキシムタイプ(例えば、J.Photochem.Photobiol.A:Chem.151(2002)27に記載されるもの)、BASF製「IRUGACURE907」、2−アミノトロポンタイプ(例えば、国際公開第2008/072651号パンフレットに記載されるもの)等が挙げられる。硬化性能、及び炭酸ガスの共生がないという観点から、2−アミノトロポン又はその誘導体を用いることが好ましい。
本実施の形態の感光性樹脂組成物は、チオール基を有する硬化剤(c)を含有する。これを含有することにより、光塩基発生剤(b)が共存する感光性樹脂組成物において、高い硬化性能を発現する。また、従来、エポキシ樹脂を主成分とする硬化物は、堅くて脆く、剥離しやすいことが欠点として挙げられるが、チオール基を有する硬化剤(c)を含有する感光性樹脂組成物の硬化物の物性は伸度等において望ましいものとなる。よって、このような感光性樹脂組成物は、電子材料分野においてプリント配線板及び半導体の絶縁材として好適である。
本実施の形態の感光性樹脂組成物に用いることのできるカルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)は、その分子中にカルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有するものであればよく、特に制限されない。(d)成分は、エポキシ基をさらに有する化合物であってもよい。この場合、前述したように、その化合物は本実施の形態における(a)成分と(d)成分とを兼ねることになる。
Ra、Rb、Rc、Rd及びReはそれぞれ独立に:飽和若しくは二重結合を1つ有する脂肪族炭化水素基;芳香族炭化水素基;鎖状脂肪族飽和炭化水素基と芳香族炭化水素基とが連結された基;又はこれらの基から選択される2つ以上が直接若しくは少なくとも酸素原子を介して連結された基;であり、置換基を含んでも無置換であってもよく、そして、
n1、n2及びn3は1以上の整数である。}
で表される化合物であることが好ましい。Ra及びRbは3価の基であり、Rcは2〜4価の基であり、そしてRd及びReは2価の基である。
0.02≦((a)成分及び(d)成分のカルボキシル基の合計モル数)÷((a)成分及び(d)成分のエポキシ基の合計モル数)≦2 ・・・(i)
(1)エポキシ基を有する化合物(a)、前述した本発明の一態様に係る光塩基発生剤を含む光塩基発生剤(b)、チオール基を有する硬化剤(c)、並びにカルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)を含有する感光性樹脂組成物を、基材に塗布して膜を形成する工程、
(2)該膜に光照射することにより、該膜中に塩基を発生させ、該膜を硬化させる工程、並びに、
(3)該膜の硬化していない部分を、アルカリ現像液により該基材から除去することにより、該基材上にパターンを形成する工程、
を含む、パターン形成された基材の製造方法を提供する。
300mLナスフラスコ中、o−クマリン酸(東京化成工業(株)製)2.47gを脱水テトラヒドロフラン−ジクロロメタン(質量比1:1)混合溶媒50gに溶解させ、氷水浴下で1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(東京化成工業(株)製)2.80gを加え撹拌した。ここにジベンジルアミン(和光純薬(株)製)2.47gを加えた後、反応液を室温に戻しながら4時間撹拌した。ロータリーエバポレーターを用いて反応液を濃縮し、トルエンに溶解させ、水酸化ナトリウム水溶液、希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水の順に洗浄を行った。抽出液に無水硫酸マグネシウムを添加して1時間静置し、ろ過により固形分を除去しロータリーエバポレーターにより濃縮を行った。得られた固体をヘキサン−酢酸エチル混合溶媒中で再結晶させることにより下記化学式(5):
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 22.5 oC) δ 8.51 (br, 1H, OH), 8.45 (d, J = 15.6 Hz, 1H, CH=CHCO), 7.42-7.08 (m, 12H, aromatic), 6.96-6.72 (m, 3H, aromatic and CH=CHCO), 4.74 (s, 2H, NCH), 4.61 (s, 2H, NCH).
製造例1におけるジベンジルアミン(和光純薬(株)製)を用いる代わりにジブチルアミン(和光純薬(株)製)を用いたこと以外は、製造例1と同様にして、下記化学式(6):
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 22.5 oC) δ 10.00 (br, 1H, OH), 7.70 (d, J = 15.6 Hz, 1H, CH=CHCO), 7.57 (d, J = 7.8 Hz, 1H, aromatic), 7.17 (t, J = 7.3 Hz, 1H, aromatic), 7.09 (d, J = 15.6 Hz, 1H, CH=CHCO), 6.88 (d, J = 7.8 Hz, 1H, aromatic), 6.81 (t, J = 7.8 Hz, 1H, aromatic), 3.46-3.36 (m, 4H, NCH2), 1.70-1.46 (m, 4H, NCH2CH2CH2), 1.35 (dd, J = 14.1, 7.3 Hz, 4H, CH2CH2CH3), 0.94 (t, J = 6.8 Hz, 6H, CH3).
製造例1におけるジベンジルアミン(和光純薬(株)製)を用いる代わりにジヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)を用いたこと以外は、製造例1と同様にして、下記化学式(7):
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 22.5 oC) δ 8.24 (d, J = 15.6 Hz, 1H, CH=CHCO), 7.42 (d, J = 7.8 Hz, 1H, aromatic), 7.27-7.14 (m, 3H, aromatic and CH=CHCO), 6.92 (d, J = 7.8 Hz, 1H, aromatic), 6.85-6.81 (m, 2H, aromatic), 3.46-3.35 (m, 4H, NCH2), 1.70-1.56 (m, 4H, NCH2CH2CH2), 1.40-1.24 (m, 12H, CH2CH2CH2CH2CH3), 0.89 (t, J = 6.8 Hz, 6H, CH3).
製造例1におけるジベンジルアミン(和光純薬(株)製)を用いる代わりにビス(2−エトキシエチル)アミン(東京化成工業(株)製)を用いたこと以外は、製造例1と同様にして、下記化学式(8):
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 22.5 oC) δ 8.07 (d, J = 15.6 Hz, 1H, CH=CHCO), 7.87 (br, 1H, OH), 7.43 (d, J = 7.8 Hz, 1H, aromatic), 7.25-7.15 (m, 2H, aromatic), 7.04 (d, J = 15.6 Hz, 1H, CH=CHCO), 6.89-6.84 (m, 2H, aromatic), 3.73-3.60 (m, 8H, CH2OCH2), 3.52-3.47 (m, 4H, NCH2), 1.19 (t, J = 6.8 Hz, 6H, CH3).
製造例1におけるジベンジルアミン(和光純薬(株)製)を用いる代わりに4−ベンジルピペリジン(東京化成工業(株)製)を用いたこと以外は、製造例1と同様にして、下記化学式(9):
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 22.5 oC) δ 8.52 (br, 1H, OH), 8.09 (d, J = 15.6 Hz, 1H, CH=CHCO), 7.40 (d, J = 7.8 Hz, 1H, aromatic), 7.31-7.11 (m, 6H, aromatic), 6.93-6.89 (m, 2H, aromatic and CH=CHCO), 6.83 (t, J = 7.3 Hz, 1H, aromatic), 4.73 (d, J = 11.7Hz, 1H, NCH), 4.08 (d, J = 11.7 Hz, 1H, NCH), 3.02, (t, J = 12.7 Hz, 1H, NCH), 2.63 (t, J = 12.7 Hz, 1H, NCH), 2.54 (t, J = 6.3 Hz, 2H, CH2Ph), 1.86-1.56 (m, 4H, CH2CHCH2), 1.48-1.20 (m, 1H, CH2CHCH2).
比較光塩基発生剤(1)及び(2)として、特許文献7(特開2010−106233号公報)の記載に従い、下記化学式(10)及び(11):
クレゾール−ノボラック型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ(株)製、商品名「ECN1299」、エポキシ当量225(g/eq)、平均エポキシ基数5.4、軟化点92℃) 53質量部、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸 9.8質量部、酢酸2−(2−ブトキシエトキシ)エチル 37.2質量部、及びトリフェニルホスフィン 0.28質量部を溶解し、窒素雰囲気で100℃×16時間反応させた。KOH滴定により2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸の残存量が0であることを確認後、クメンヒドロパーオキサイド 0.24質量部を添加した。続いて、上記反応物へテトラヒドロ無水フタル酸 17.6質量部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 17.6質量部とを添加し、窒素雰囲気で100℃×6時間反応させ、下記化学式(12):
(光塩基発生剤の溶剤溶解性評価)
光塩基発生剤(1)〜(5)、並びに比較光塩基発生剤(1)及び(2)について、各種溶剤に対する溶解性を調べた。具体的には、まず、各光塩基発生剤をDMSOに溶解させた溶液をそれぞれ調製し、HPLC(島津製作所社製 LC−10A)を用いて検量線を作成した。次に各種溶媒に対して光塩基発生剤を懸濁するまで添加し、25℃で4時間撹拌後に0.2μmフィルターを用いてろ過を行い、得られたろ液をHPLCにより分析して、検量線から、溶液中の光塩基発生剤濃度を算出した。光塩基発生剤について、該濃度が1質量%以上である場合を◎、0.2質量%以上〜1質量%未満である場合を○、0.1質量%以上〜0.2質量%未満である場合を△、0.1質量%未満である場合を×として評価した。得られた結果を表1に示す。表1に示されるように、比較光塩基発生剤(1)及び(2)は溶剤溶解性に乏しいのに対し、本発明の光塩基発生剤(1)〜(5)は明らかに優れた溶剤溶解性を示している。
光塩基発生剤(1)〜(5)、並びに比較光塩基発生剤(1)及び(2)について、感光性樹脂組成物の調合及び光パターニング性能の評価を行った。具体的には、製造例6で合成したエポキシ樹脂変性物 100質量部、各光塩基発生剤 4.5質量部、ジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネート(略称DPMP、SC有機化学(株)製) 3.8質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 40.9質量部を混合して感光性樹脂組成物を調合した。光塩基発生剤が完全に溶解し、得られた感光性樹脂組成物が均一な溶液となった場合を○、光塩基発生剤が完全に溶解せず感光性樹脂組成物が懸濁液となった場合を×として評価し、得られた結果を表2に示した。
残膜率=(硬化後の膜厚)÷(露光前の膜厚)×100・・・(ii)
Claims (10)
- 下記一般式(1):
R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立に:水素、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、若しくはアンモニオ基;又は、置換基を含んでもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数6〜22の芳香族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、置換基を含んでもよいアリールオキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基;であり、R1、R2、R3及びR4のうち2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、
R5及びR6はそれぞれ独立に:水素、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、若しくはホスホナト基;又は、置換基を含んでもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数6〜22の芳香族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、置換基を含んでもよいアリールオキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基;であり、そして、
Zは下記一般式(2)又は(3):
R7、R8、R9及びR10はそれぞれ独立に:水素原子;又は、置換基を含んでもよい炭素数4〜10の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数4〜10のアルコキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基;であり、但し、R7及びR8の少なくとも1つ並びにR9及びR10の少なくとも1つは、置換基を含んでもよい炭素数4〜10の脂肪族炭化水素基、置換基を含んでもよい炭素数4〜10のアルコキシ基、若しくはこれらの2つ以上が連結された基であり、そして、
R11及びR12はそれぞれ独立に、置換基を含んでもよい炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基である。)
で表される部分構造である。}
で表される、光塩基発生剤。 - 前記一般式(1)において、Zが前記一般式(2)で表される部分構造である、請求項1に記載の光塩基発生剤。
- 前記一般式(1)において、R1、R2、R3、R4、R5及びR6が水素である、請求項1又は2に記載の光塩基発生剤。
- メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、ガンマブチロラクトン、及びメタノールからなる群から選択される少なくとも1つの溶媒に対する25℃での溶解性が、溶液中の光塩基発生剤濃度で1質量%以上である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光塩基発生剤。
- エポキシ基を有する化合物(a)、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の光塩基発生剤を含む光塩基発生剤(b)、
チオール基を有する硬化剤(c)、並びに
カルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)、
を含有する、感光性樹脂組成物。 - 前記エポキシ基を有する化合物(a)が、ノボラック型エポキシ樹脂又はノボラック型エポキシ樹脂変性物である、請求項5に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記チオール基を有する硬化剤(c)が、チオールカルボン酸エステル化物である、請求項5又は6に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記エポキシ基を有する化合物(a)、並びに前記カルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)が、いずれも下記一般式(4):
Ra、Rb、Rc、Rd及びReはそれぞれ独立に:飽和若しくは二重結合を1つ有する脂肪族炭化水素基;芳香族炭化水素基;鎖状脂肪族飽和炭化水素基と芳香族炭化水素基とが連結された基;又はこれらの基から選択される2つ以上が直接若しくは少なくとも酸素原子を介して連結された基;であり、置換基を含んでも無置換であってもよく、そして、
n1、n2及びn3は1以上の整数である。}
で表される化合物である、請求項5〜7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。 - 以下の(1)〜(3)の工程:
(1)エポキシ基を有する化合物(a)、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光塩基発生剤を含む光塩基発生剤(b)、チオール基を有する硬化剤(c)、並びにカルボキシル基及び無水カルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物(d)を含有する感光性樹脂組成物を、基材に塗布して膜を形成する工程、
(2)前記膜に光照射することにより、前記膜中に塩基を発生させ、前記膜を硬化させる工程、並びに、
(3)前記膜の硬化していない部分を、アルカリ現像液により前記基材から除去することにより、前記基材上にパターンを形成する工程、
を含む、パターン形成された基材の製造方法。 - 請求項9に記載の製造方法により得られる基材を備える、電子部品。
Priority Applications (1)
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