JP2013084579A5 - - Google Patents

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本発明の有機EL装置の製造方法は、少なくとも発光層を含む有機化合物層を備えた有機EL素子を複数有する有機EL表示装置の製造方法であって、
基板の上に有機物化合物層を形成する工程と、
前記有機化合物層の上に中間層とレジスト層とを順次形成する工程と、
フォトリソグラフィ法を用いて前記レジスト層の一部を除去する工程と、
前記レジスト層が除去された領域の前記中間層及び前記有機化合物層をドライエッチングにて選択的に除去する工程と、を有しており、
前記中間層が遮光層と、前記遮光層と前記有機化合物層との間に設けられる剥離層と、を含み、
前記遮光層が、波長190nm以上360nm以下の光を遮光することを特徴とする。

Claims (3)

  1. 少なくとも発光層を含む有機化合物層を備えた有機EL素子を複数有する有機EL表示装置の製造方法であって、
    基板の上に有機物化合物層を形成する工程と、
    前記有機化合物層の上に中間層とレジスト層とを順次形成する工程と、
    フォトリソグラフィ法を用いて前記レジスト層の一部を除去する工程と、
    前記レジスト層が除去された領域の前記中間層及び前記有機化合物層をドライエッチングにて選択的に除去する工程と、を有しており、
    前記中間層が遮光層と、前記遮光層と前記有機化合物層との間に設けられる剥離層と、を含み、
    前記遮光層が、波長190nm以上360nm以下の光を遮光することを特徴とする、有機EL装置の製造方法。
  2. 前記剥離層が、前記有機化合物層の構成材料をほとんど溶解しない溶媒に対して溶解性を有する材料からなることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の有機EL装置の製造方法。
  3. 前記有機化合物層の構成材料が、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリーレン又は縮合多環炭化水素化合物であり、
    前記剥離層が、水に対して溶解性を示す材料からなることを特徴とする、請求項5に記載の有機EL装置の製造方法。
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