JP2013084287A - マルチ反対称最適制御性能構成を使用する流量比制御装置を含むガス送出方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】MAO制御アルゴリズムでは、各流れラインには、流れセンサ124及びバルブ126が設けられている。このバルブは、ターゲット流量比設定点を得るため、線型サチュレータと組み合わせたSISOフィードバック制御装置によって積極的に制御される。最適制御性能のため、これらのSISO制御装置及び線型サチュレータは実質的に同じである。各バルブ制御コマンドは、全ての他のバルブ制御コマンドに対してマルチ反対称であるということがわかっている。従って、MAO制御アルゴリズムは、任意の時期に少なくとも一つのバルブが許容可能な最大開放位置にあり、これによって、流量比設定点の所与の組について、最大総バルブコンダクタンスに関して最適解を提供することを保証する。
【選択図】図1
Description
(i)二次チャンネルの各々を通る計測された流量比を決定する工程と、
(ii)計測された総流量(QTm)を、二次チャンネルの各々を通る計測された流量の関数として決定する工程と、
(iii)二次チャンネルの各々を通る計測された流量比を、対応する流量比設定点と比較し、このような二次チャンネルの各々のついてエラー信号を発生する工程と、
(iv)エラー信号の各々を対応するSISOフィードバック制御装置に適用し、二次チャンネルの夫々を通るガスの流量を制御するのに使用される対応する制御バルブと関連したバルブ制御コマンドを発生し、対応する二次チャンネルを通る流量比設定点の所与の組を得る工程とを含む。
MAO制御アルゴリズムの線型サチュレータ166は、ソフトウェア又はハードウェアのいずれかで実施できる。多くのバルブ駆動回路は、下出力限度及び上出力限度を有する。最適バイアス電流Ioが、常開のバルブについての下出力限度又は常閉のバルブについての上出力限度として加えられた場合には、線型サチュレータ166をファームウェア又はソフトウェアで実施する必要はない。
(a)総流量に対する二次流れの流量比を所定の設定点流量比に維持するように、二次流れラインの質量流量の反対称最適制御を行い、
(b)少なくとも一つのバルブが最適バルブ電流Ioにあり、これにより作動の任意の一つの時点で最大許容可能バルブコンダクタンス点を提供し、この際、他方のバルブは、流量比の所定の設定値を維持するように能動的に制御され、
(c)一方の流れラインの流れが減少したため、二次流れの流量比が、予め選択された設定点からずれた場合、制御装置が、二次流れラインを通る二次流れを相対的に調節し、流量比を予め選択された設定点に戻すように、二次流れの流量比を所定の設定点に維持するように二次流れラインの質量流量を制御する。
104 ガス供給部
106 流量比制御装置
108 プロセスチャンバ
112 ガスボックス
114 ガススティック
116 出口マニホールド
122 流路即ちライン
126 バルブ
130 出口ライン
132 ゲートバルブ
134 真空ポンプ
[形態1]
多チャンネルガス送出システムにおいて、
一次チャンネルと、
少なくとも二つの二次チャンネルと、
前記一次チャンネルを通してガスを受け取り、前記二次チャンネルの各々を通るガスの流量の、全流量に対する流量比を制御するように、前記一次チャンネル及び前記複数の二次チャンネルに連結された流量比制御装置とを含む、システム。
[形態2]
形態1に記載のシステムにおいて、
前記流量比制御装置は、対応する二次チャンネルを通るガスの流量を制御するため、前記二次チャンネルの各々に流量計を含む、システム。
[形態3]
形態2に記載のシステムにおいて、
各流量計はセンサ及びバルブを含み、前記センサは、夫々の二次チャンネルを通る流量の流量比を制御するように、前記流量計の対応するバルブの制御で使用するための流量信号を提供する、システム。
[形態4]
形態3に記載のシステムにおいて、
前記バルブは常開のバルブである、システム。
[形態5]
形態3に記載のシステムにおいて、
前記バルブは常閉のバルブである、システム。
[形態6]
形態1に記載のシステムにおいて、
前記流量比制御装置は、流量比設定点入力を受け取るための入力を前記二次チャンネルの各々に一つずつ含む、システム。
[形態7]
形態1に記載のシステムにおいて、
前記二次チャンネルを通る流量及び流量比についての整定時間を最も速くし、前記流量比制御装置を通る圧力降下を最小にするように、前記システムの前記バルブの総バルブコンダクタンスを最大にする、システム。
[形態8]
形態7に記載のシステムにおいて、
前記バルブのうちの一つのバルブは常に完全に開放している、システム。
[形態9]
形態1に記載のシステムにおいて、
全てのバルブが同時に制御される、システム。
[形態10]
形態1に記載のシステムにおいて、
ホスト制御装置を更に含み、
前記ホスト制御装置及び前記流量比制御装置は、前記ホスト制御装置が、前記流量比制御装置に、前記二次チャンネルの各々について一つずつの一組の流量比設定点の組を提供し、前記流量比制御装置が、前記ホスト制御装置に、実際に計測した流量比を提供するように形成されている、システム。
[形態11]
形態10に記載のシステムにおいて、
前記流量比制御装置は、対応する前記二次チャンネルを通るガスの流量を制御するため、前記二次チャンネルの各々に設けられた流量計を含み、各センサの出力は、対応する二次チャンネルを通る実際の流量の計測値を提供し、全てのセンサの出力の和が総流量の計測値を提供する、システム。
[形態12]
形態11に記載のシステムにおいて、
二次チャンネルの各々を通る実際の流量の計測値の前記総流量の計測値に対する比が、対応する二次チャンネルを通る実際の流量比の計測値を提供し、前記流量比制御装置は、実際の流量比を流量比設定点の組と比較し、これと対応して前記二次チャンネルのバルブを制御し、実際の流量比を対応する流量比設定点の組と等しいように維持する、システム。
添付図面を参照すると、これらの図では、同じ参照番号を付したエレメントは、同様のエレメントを示す。
Claims (29)
- 多チャンネルガス送出システムにおいて、
一次チャンネルと、
少なくとも二つの二次チャンネルと、
前記一次チャンネルを通してガスを受け取り、前記二次チャンネルの各々を通るガスの流量の、全流量に対する流量比を制御するように、前記一次チャンネル及び前記複数の二次チャンネルに連結された流量比制御装置とを含む、システム。 - 請求項1に記載のシステムにおいて、
前記流量比制御装置は、対応する二次チャンネルを通るガスの流量を制御するため、前記二次チャンネルの各々に流量計を含む、システム。 - 請求項2に記載のシステムにおいて、
各流量計はセンサ及びバルブを含み、前記センサは、夫々の二次チャンネルを通る流量の流量比を制御するように、前記流量計の対応するバルブの制御で使用するための流量信号を提供する、システム。 - 請求項3に記載のシステムにおいて、
前記バルブは常開のバルブである、システム。 - 請求項3に記載のシステムにおいて、
前記バルブは常閉のバルブである、システム。 - 請求項1に記載のシステムにおいて、
前記流量比制御装置は、流量比設定点入力を受け取るための入力を前記二次チャンネルの各々に一つずつ含む、システム。 - 請求項1に記載のシステムにおいて、
前記二次チャンネルを通る流量及び流量比についての整定時間を最も速くし、前記流量比制御装置を通る圧力降下を最小にするように、前記システムの前記バルブの総バルブコンダクタンスを最大にする、システム。 - 請求項7に記載のシステムにおいて、
前記バルブのうちの一つのバルブは常に完全に開放している、システム。 - 請求項1に記載のシステムにおいて、
全てのバルブが同時に制御される、システム。 - 請求項1に記載のシステムにおいて、
ホスト制御装置を更に含み、
前記ホスト制御装置及び前記流量比制御装置は、前記ホスト制御装置が、前記流量比制御装置に、前記二次チャンネルの各々について一つずつの一組の流量比設定点の組を提供し、前記流量比制御装置が、前記ホスト制御装置に、実際に計測した流量比を提供するように形成されている、システム。 - 請求項10に記載のシステムにおいて、
前記流量比制御装置は、対応する前記二次チャンネルを通るガスの流量を制御するため、前記二次チャンネルの各々に設けられた流量計を含み、各センサの出力は、対応する二次チャンネルを通る実際の流量の計測値を提供し、全てのセンサの出力の和が総流量の計測値を提供する、システム。 - 請求項11に記載のシステムにおいて、
二次チャンネルの各々を通る実際の流量の計測値の前記総流量の計測値に対する比が、対応する二次チャンネルを通る実際の流量比の計測値を提供し、前記流量比制御装置は、実際の流量比を流量比設定点の組と比較し、これと対応して前記二次チャンネルのバルブを制御し、実際の流量比を対応する流量比設定点の組と等しいように維持する、システム。 - 多チャンネルガス送出システムにおいて、
一次チャンネルと、
少なくとも二つの二次チャンネルと、
前記一次チャンネルを通してガスを受け取り、前記二次チャンネルの各々を通るガスの流量の、全流量に対する流量比を制御するように、前記一次チャンネル及び前記複数の二次チャンネルに連結された流量比制御装置とを含み、
前記流量比制御装置は、二次チャンネルの各々について、流れセンサ及びバルブを含み、前記バルブは、ターゲット流量比設定点を達成するため、単入力単出力(SISO)フィードバック制御装置によって積極的に制御される、多チャンネルガス送出システム。 - 請求項13に記載の多チャンネルガス送出システムにおいて、
前記SISOフィードバック制御装置は、PID制御装置、進み遅れ制御装置、モデルベースト予測制御装置のうちの少なくとも一つを含む、多チャンネルガス送出システム。 - 請求項13に記載の多チャンネルガス送出システムにおいて、
各二次チャンネルは、センサ、バルブ、及びフィードバック制御装置を含む二次チャンネル制御ループを含み、前記システムは、更に、各二次チャンネル制御ループの各々に線型サチュレータを含む、多チャンネルガス送出システム。 - 請求項15に記載の多チャンネルガス送出システムにおいて、
全てのSISOフィードバック制御装置は実質的に同じであり、全ての線型サチュレータは実質的に同じである、多チャンネルガス送出システム。 - 多チャンネルガス送出システムにおいて、
ガス入口チャンネル及び少なくとも二つの二次チャンネルと、
前記二次チャンネルの各々を通る流量を制御するように構成された、流れセンサ及びバルブを含む流量計と、
少なくとも二つの二次チャンネルの各々を通るガスの流量の、全ての前記二次チャンネルを通る全組み合わせ流量に対する流量比を制御するように形成されており且つ構成されたマルチ反対称最適(MAO)制御装置とを含み、
前記制御装置は、
(a)前記二次流量の前記総流量に対する流量比を維持するように、前記二次流れライン内の質量流量の実質的に最適の制御を提供し、
(b)前記二次流れラインの各々の質量流量を制御し、この制御は、一つの流れライン内の流量が減少し、前記二次流れの流量比が前記所定の設定点から外れた場合に、前記制御装置が、前記二次流れラインを通る相対的二次流れを調節し、前記流量比を所定の設定点に戻すように、前記二次流れの流量比を所定の設定点に維持するように形成されており、
前記バルブのうちの少なくとも一つのバルブは、作動の任意の一つの時期に、実質的に最大の許容可能なバルブコンダクタンス位置を提供し、この際、他のバルブは、対応する二次チャンネルの各々を通る流量比の所定の値を維持するように積極的に制御される、多チャンネルガス送出システム。 - 多チャンネル流量比制御装置システムにおいて、
(a)前記制御装置システムを一次チャンネルに連結するように形成されており且つ構成された入力と、
(b)前記制御装置システムを対応する多くの二次チャンネルに連結するように形成されており且つ構成された複数の出力と、
(c)対応する複数の流れセンサ、制御バルブ、及びSISO制御装置とを含む流量比制御装置を含み、
(i)流れセンサ、(ii)制御バルブ、及び(iii)SISO制御装置は、各二次チャンネルを通る流れを制御するために設けられており、
前記流量比制御装置は、前記一次チャンネルを通してガスを受け取り、前記二次チャンネルの各々を通るガスの流量の全流量に対する流量比を制御し、流量比設定点の所与の組{rspi} についての実質的に最適の制御解を任意の時期に得るように形成されており且つ構成されており、前記実質的に最適の制御解は、
(i)前記二次チャンネルの各々を通る計測された流量比を決定し、
(ii)計測された総流量{QTm}を代表する値として前記流れセンサの前記出力{Qmi}の和を決定し、
(iii)前記二次チャンネルの各々を通る計測された流量比を、対応する流量比設定点と比較し、このような二次チャンネルの各々についてのエラー信号を発生し、
(iv)前記エラー信号の各々をSISOフィードバック制御装置に適用し、対応する制御バルブと関連したバルブ制御コマンドを発生し、対応する二次チャンネルを通る流量比設定点の所与の組を得る、多チャンネル流量比制御装置システム。 - 請求項19に記載のシステムにおいて、
前記線型サチュレータは、ソフトウェアで実施される、システム。 - 請求項19に記載のシステムにおいて、
前記線型サチュレータは、ハードウェアで実施される、システム。 - 請求項19に記載の方法において、
少なくとも一つのバルブが、任意の時期に許容可能な最大開放位置にある、方法。 - 一次チャンネルから複数の二次チャンネルの各々を通るガスの流量の、全流量に対する流量比を、任意の時期に、流量比設定点の所与の組{rspi} についての実質的に最適の制御解に従って制御する方法において、
(i)前記二次チャンネルの各々を通る計測された流量比を決定する工程と、
(ii)計測された総流量(QTm)を、前記二次チャンネルの各々を通る計測された流量の関数として決定する工程と、
(iii)前記二次チャンネルの各々を通る計測された流量比を、対応する流量比設定点と比較し、このような二次チャンネルの各々のついてエラー信号を発生する工程と、
(iv)前記エラー信号の各々を対応するSISOフィードバック制御装置に適用し、前記二次チャンネルの夫々を通るガスの流量を制御するのに使用される対応する制御バルブと関連したバルブ制御コマンドを発生し、対応する二次チャンネルを通る流量比設定点の所与の組を得る工程とを含む、方法。 - 請求項25に記載の方法において、
各最適駆動電流の修正はソフトウェアで実行される、方法。 - 請求項25に記載の方法において、
各最適駆動電流の修正はハードウェアで実行される、方法。 - 請求項25に記載の方法において、
少なくとも一つのバルブが、任意の時期に許容可能な最大開放位置にある、方法。
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