JP2013071258A - ガスバリア積層体およびその製造方法 - Google Patents
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- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims abstract description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 53
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims abstract description 19
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 50
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 42
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 31
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 19
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 3
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 29
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 3
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 125000003011 styrenyl group Chemical class [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002925 chemical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】ポリエチレンテレフタレート基材(1)と、前記基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素薄膜(2)とを有し、前記ポリエチレンテレフタレートフィルムは位相差測定法によるZ方向の屈折率Nzが1.555以上であることを特徴とするガスバリア積層体。
【選択図】図1
Description
第1実施形態に係るガスバリア積層体は、ポリエチレンテレフタレートフィルム(PET)からなる基材と、前記基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素薄膜とを備える。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、位相差測定法によるZ方向(膜厚方向)の屈折率Nzが1.555以上である。Z方向の屈折率Nzの上限は、1.565であることが好ましい。
第2実施形態に係るガスバリア積層体の製造方法は、最初に、PETフィルムから位相差測定法によるZ方向(膜厚方向)の屈折率Nzが1.555以上のPETフィルムを選択し、これを基材として用いる。位相差測定は、後述する実施例の位相差測定装置を用いて行うことができる。
まず、厚さ12μmのPETフィルム(基材)を8種用意し、それぞれ位相差を測定して面配向係数を求めた。すなわち、位相差測定装置(王子計測機器社製、KOBRA−WR)によりPETフィルムの40mm×40mmの面積について、0°〜50°(10°ピッチ)の入射角で位相差を測定した。算出された8種類のPETフィルムの入射角度40°の時のZ方向の屈折率Nzを下記表1に示す。
Claims (8)
- ポリエチレンテレフタレート(PET)からなる基材と、前記基材の少なくとも一方の面に形成された酸化珪素薄膜を有し、前記ポリエチレンナフタレートは、位相差測定法によるZ方向の屈折率Nzが1.555以上であることを特徴とするガスバリア積層体。
- 前記酸化珪素薄膜は、X線光電子分光法によって算出される酸素と珪素の比(O/Si)が1.6〜2.0の範囲内であることを特徴とする請求項1記載のガスバリア積層体。
- 前記酸化珪素薄膜は、10〜300nmであることを特徴とする請求項1または2記載のガスバリア積層体。
- 前記基材と前記酸化珪素薄膜との間にアンカーコート層をさらに有することを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のガスバリア積層体。
- 前記アンカーコート層の材質は、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル系樹脂及びオキサゾリン基含有樹脂から選択されることを特徴とする請求項4記載のガスバリア積層体。
- 前記酸化珪素薄膜が積層された前記基材の面は、リアクティブイオンエッチング処理に織る下地層がさらに形成されていることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のガスバリア積層体。
- 前記リアクティブエッチング処理は、アルゴン、窒素、酸素、および水素からなる群から選択される少なくとも1種類のガスを用いて行われる処理であることを特徴とする請求項6記載のガスバリア積層体。
- 位相差測定法によるZ方向の屈折率Nzが1.555以上であるポリエチレンテレフタレートフィルムを基材として選択する工程と、前記基材の少なくとも一方の面に、酸化珪素薄膜を積層する工程とを含むことを特徴とするガスバリア積層体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011209700A JP5477351B2 (ja) | 2011-09-26 | 2011-09-26 | ガスバリア積層体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011209700A JP5477351B2 (ja) | 2011-09-26 | 2011-09-26 | ガスバリア積層体およびその製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013071258A true JP2013071258A (ja) | 2013-04-22 |
JP2013071258A5 JP2013071258A5 (ja) | 2013-08-01 |
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ID=48476169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011209700A Active JP5477351B2 (ja) | 2011-09-26 | 2011-09-26 | ガスバリア積層体およびその製造方法 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP5477351B2 (ja) |
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---|---|
JP5477351B2 (ja) | 2014-04-23 |
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RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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A977 | Report on retrieval |
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