JP2013066975A - 研磨パッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の研磨パッドは、連続気泡を有するポリウレタン樹脂発泡体からなる研磨層を有しており、前記ポリウレタン樹脂発泡体は、原料成分として、(A)イソシアネート成分、(B)ポリオール成分、及び(C)水酸基を1つ有する芳香族化合物及び/又はアミノ基を1つ有する芳香族化合物を含むことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
R1−(OCH2CHR2)n−OH (1)
(式中、R1は芳香族炭化水素基であり、R2は水素又はメチル基であり、nは1〜5の整数である。)
R1−(OCH2CHR2)n−OH (1)
(式中、R1は芳香族炭化水素基であり、R2は水素又はメチル基であり、nは1〜5の整数である。)
(平均気泡径の測定)
作製したポリウレタン樹脂発泡体を厚み1mm以下になるべく薄くカミソリ刃で平行に切り出したものをサンプルとした。サンプルをスライドガラス上に固定し、SEM(S−3500N、日立サイエンスシステムズ(株))を用いて100倍で観察した。得られた画像を画像解析ソフト(WinRoof、三谷商事(株))を用いて、任意範囲の全気泡径を測定し、平均気泡径を算出した。ただし、楕円球状の気泡の場合は、その面積を円の面積に換算し、円相当径を気泡径とした。
連続気泡率はASTM−2856−94−C法に準拠して測定した。ただし、円形に打ち抜いたポリウレタン樹脂発泡体を10枚重ねたものを測定サンプルとした。測定器は、空気比較式比重計930型(ベックマン株式会社製)を用いた。連続気泡率は下記式により算出した。
連続気泡率(%)=〔(V−V1)/V〕×100
V:サンプル寸法から算出した見かけ容積(cm3)
V1:空気比較式比重計を用いて測定したサンプルの容積(cm3)
JIS Z8807−1976に準拠して行った。作製したポリウレタン樹脂発泡体を4cm×8.5cmの短冊状(厚み:任意)に切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定には比重計(ザルトリウス社製)を用い、比重を測定した。
JIS K−7312に準拠して行った。作製したポリウレタン樹脂発泡体を5cm×5cm(厚み:任意)の大きさに切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定時には、サンプルを重ね合わせ、厚み10mm以上とした。硬度計(高分子計器社製、アスカーC型硬度計、加圧面高さ:3mm)を用い、加圧面を接触させてから60秒後の硬度を測定した。
作製したポリウレタン樹脂発泡体の40℃における貯蔵弾性率E’(40℃)は、動的粘弾性測定装置(メトラー・トレド社製、DMA861e)を用いて下記条件で測定した。
周波数:1.6Hz
昇温速度:2.0℃/min
測定温度範囲:0〜60℃
サンプル形状:長さ19.5mm、幅3.0mm、厚み1.0mm
スピードファム社製9B型両面研磨機に、作製した研磨パッドを貼り付け、その表面をダイヤモンドドレッサー(スピードファム社製、#100仕様、ダイヤペレット24個取付)4枚を用いて回転させながら均一にドレッシングした。この時のドレッサー荷重は100g/cm2、研磨定盤回転数は50rpm、ドレス時間は20minとした。そして、ドレス前後の研磨パッドの厚さからカットレート(μm/min)を算出した。
容器にポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学工業社製、PCL210N、官能基数:2、水酸基価:110mgKOH/g)60重量部、ポリカプロラクトントリオール(ダイセル化学工業社製、PCL305、官能基数:3、水酸基価:305mgKOH/g)25重量部、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物(旭硝子社製、EX−890MP、官能基数:3、水酸基価:865mgKOH/g)2重量部、ジエチレングリコール(DEG、官能基数:2、水酸基価:1058mgKOH/g)13重量部、エチレングリコールモノフェニルエーテル(日本乳化剤社製、イソシアネート基1当量に対する水酸基の当量:0.105)10重量部、シリコン系界面活性剤(ゴールドシュミット社製、B8443)6重量部、及び触媒(花王社製、Kao No.25)0.06重量部を入れて混合した。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、ミリオネートMTL(日本ポリウレタン社製)95.88重量部を添加し、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。
表1に記載の配合を採用した以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。表1中の化合物は以下のとおりである。
・PCL210N(ダイセル化学工業社製、ポリカプロラクトンジオール、官能基数:2、水酸基価:110mgKOH/g)
・PTMG1000(三菱化学社製、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、官能基数:2、水酸基価:112mgKOH/g)
・PCL305(ダイセル化学工業社製、ポリカプロラクトントリオール、官能基数:3、水酸基価:305mgKOH/g)
・EX−890MP(旭硝子社製、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物、官能基数:3、水酸基価:865mgKOH/g)
・DEG(ジエチレングリコール、官能基数:2、水酸基価:1058mgKOH/g)
・PhG(日本乳化剤社製、エチレングリコールモノフェニルエーテル)
・PhDG(日本乳化剤社製、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル)
・PhFG(日本乳化剤社製、プロピレングリコールモノフェニルエーテル)
・B8443(ゴールドシュミット社製、シリコン系界面活性剤)
・Kao No.25(花王社製、触媒)
・ミリオネートMTL(日本ポリウレタン社製、カルボジイミド変性MDI)
2:研磨定盤
3:研磨剤(スラリー)
4:研磨対象物(半導体ウエハ)
5:支持台(ポリシングヘッド)
6、7:回転軸
Claims (6)
- 連続気泡を有するポリウレタン樹脂発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドにおいて、前記ポリウレタン樹脂発泡体は、原料成分として、(A)イソシアネート成分、(B)ポリオール成分、及び(C)水酸基を1つ有する芳香族化合物及び/又はアミノ基を1つ有する芳香族化合物を含むことを特徴とする研磨パッド。
- 水酸基を1つ有する芳香族化合物が、下記一般式(1)で表される化合物である請求項1記載の研磨パッド。
R1−(OCH2CHR2)n−OH (1)
(式中、R1は芳香族炭化水素基であり、R2は水素又はメチル基であり、nは1〜5の整数である。) - アミノ基を1つ有する芳香族化合物が、アニリン又はその誘導体である請求項1又は2記載の研磨パッド。
- 水酸基を1つ有する芳香族化合物及び/又はアミノ基を1つ有する芳香族化合物の含有量は、イソシアネート成分のイソシアネート基1当量に対して、当該芳香族化合物の活性水素基(水酸基及び/又はアミノ基)当量が0.01〜0.3となる量である請求項1〜3のいずれかに記載の研磨パッド。
- カットレートが3.5〜10μm/minである請求項1〜4のいずれかに記載の研磨パッド。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を含む半導体デバイスの製造方法。
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