JP2013064880A - フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 - Google Patents
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Abstract
Description
[A]1つの酸解離性基を含む構造単位(I)、及び2つ以上の酸解離性基を含む構造単位(II)を有する重合体(以下、「[A]重合体」ともいう)、並びに
[B]酸発生体
を含有するフォトレジスト組成物である。
式(2)中、R4は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。nは、2〜5の整数である。R5は、(n+1)価の連結基である。R6は、酸解離性基である。但し、複数のR6は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。)
(1)本発明のフォトレジスト組成物を用いて、基板上にレジスト膜を形成する工程、
(2)上記レジスト膜を露光する工程、及び
(3)上記露光されたレジスト膜を現像する工程
を有する。
式(2)中、R4は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。nは、2〜5の整数である。R5は、(n+1)価の連結基である。R6は、酸解離性基である。但し、複数のR6は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。)
当該フォトレジスト組成物は、[A]重合体及び[B]酸発生体を含有し、[C]フッ素原子含有重合体、[D]酸拡散制御体及び[E]溶媒を好適成分として含有する。さらに、本発明の効果を損なわない限り上記以外のその他の成分を含有してもよい。以下、各成分について詳述する。
[A]重合体は、1つの酸解離性基を含む構造単位(I)、及び2つ以上の酸解離性基を含む構造単位(II)を有する重合体である。また、ラクトン基、環状カーボネート基及びスルトン基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含む構造単位(III)を有することが好ましい。なお、本発明の効果を損なわない限り、その他の構造単位を有していてもよい。各構造単位は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。以下、各構造単位について詳述する。
構造単位(I)は1つの酸解離性基を含む構造単位である。構造単位(I)は、1つの酸解離性基を含む基であれば特に限定されないが、上記式(1)で表される構造単位であることが好ましい。
構造単位(II)は、2つ以上の酸解離性基を含む構造単位である。構造単位(II)としては、1つの構造単位中に2つ以上の酸解離性基を含む構造単位であれば特に限定されないが、上記式(2)で表される構造単位であることが好ましい。
[A]重合体は、ラクトン基、環状カーボネート基及びスルトン基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含む構造単位(III)を有することが好ましい。[A]重合体が構造単位(III)をさらに有することで、当該フォトレジスト組成物から形成されるレジスト膜は、基板への密着性を向上することができる。ここで、ラクトン基とは、−O−C(O)−で表される構造を含むひとつの環(ラクトン環)を含有する基をいう。また、環状カーボネート基とは、−O−C(O)−O−で表される構造を含むひとつの環(環状カーボネート環)を含有する基をいう。スルトン基とは、−O−SO2−で表される構造を含むひとつの環(スルトン環)を含有する基をいう。なお、ラクトン環、環状カーボネート環又はスルトン環を1つめの環として数え、ラクトン環、環状カーボネート環又はスルトン環のみの場合は単環式基、さらに他の環構造を有する場合は、その構造に関わらず多環式基という。
[A]重合体は、構造単位(I)〜(III)以外の他の構造単位として、本発明の効果を損なわない限り、極性基を含む構造単位等をさらに有してもよい。[A]重合体が極性基を含む構造単位をさらに有することで、[A]重合体と、[B]酸発生体等の他の成分との相溶性が向上するため、当該フォトレジスト組成物の解像性及びLWRを優れた値とすることができる。
[A]重合体は、例えば所定の各構造単位に対応する単量体を、ラジカル重合開始剤を使用し、適当な溶媒中で重合することにより製造できる。例えば、単量体及びラジカル開始剤を含有する溶液を、反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法、単量体を含有する溶液と、ラジカル開始剤を含有する溶液とを各別に、反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法、各々の単量体を含有する複数種の溶液と、ラジカル開始剤を含有する溶液とを各別に、反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法等の方法で合成することが好ましい。
n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン等のアルカン類;
シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカン類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等の芳香族炭化水素類;
クロロブタン類、ブロモヘキサン類、ジクロロエタン類、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;
酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、プロピオン酸メチル等の飽和カルボン酸エステル類;
アセトン、2−ブタノン、4−メチル−2−ペンタノン、2−ヘプタノン等のケトン類;
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン類、ジエトキシエタン類等のエーテル類;
メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、4−メチル−2−ペンタノール等のアルコール類等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく2種以上を併用してもよい。
[B]酸発生体は、パターン形成方法における露光工程において、放射線照射により酸を発生する化合物である。その酸の作用により[A]重合体中に存在する構造単位(I)及び(II)が有する酸解離性基が解離し極性基が発生する。その結果、[A]重合体がアルカリ現像液に溶解性となる。当該フォトレジスト組成物における[B]酸発生体の含有形態としては、後述するような化合物の形態(以下、適宜「[B]酸発生剤」ともいう)でも、重合体の一部として組み込まれた形態でも、これらの両方の形態でもよい。
当該フォトレジスト組成物は、[C]フッ素原子含有重合体(以下、「[C]重合体」ともいう)を含有することができる。上記フォトレジスト組成物が[C]重合体を含有することで、レジスト膜を形成した際に、[C]重合体の撥水性的特徴により、その分布がレジスト膜表層に偏在化する傾向があるため、液浸露光時において、膜中の酸発生剤や酸拡散制御剤等の液浸媒体への溶出を抑制することができ、後述する液浸用保護膜を用いなくても液浸露光が可能となる。
9,6−オクタフルオロヘキシル)(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。
[D]酸拡散制御体は、露光により[B]酸発生体から生じる酸のレジスト膜中における拡散現象を制御し、未露光部における好ましくない化学反応を抑制する効果を奏する成分である。フォトレジスト組成物が[D]酸拡散制御体を含有することで、得られるフォトレジスト組成物の貯蔵安定性がさらに向上し、またレジストとしての解像性がさらに向上する。また、露光から現像処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れた組成物が得られる。なお、[D]酸拡散制御体の本発明におけるフォトレジスト組成物における含有形態としては、遊離の化合物の形態(以下、適宜「[D]酸拡散制御剤」ともいうこともある)でも、重合体の一部として組み込まれた形態でも、これらの両方の形態でもよい。
当該フォトレジスト組成物は通常[E]溶媒を含有する。[E]溶媒は少なくとも[A]重合体、[B]酸発生体、好適成分である[C]重合体、[D]酸拡散制御剤及び任意成分を溶解できれば特に限定されない。[E]溶媒としては、例えばアルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒及びその混合溶媒等が挙げられる。
メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、i−ペンタノール、2−メチルブタノール、sec−ペンタノール、tert−ペンタノール、3−メトキシブタノール、n−ヘキサノール、2−メチルペンタノール、sec−ヘキサノール、2−エチルブタノール、sec−ヘプタノール、3−ヘプタノール、n−オクタノール、2−エチルヘキサノール、sec−オクタノール、n−ノニルアルコール、2,6−ジメチル−4−ヘプタノール、n−デカノール、sec−ウンデシルアルコール、トリメチルノニルアルコール、sec−テトラデシルアルコール、sec−ヘプタデシルアルコール、フルフリルアルコール、フェノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等のモノアルコール系溶媒;
エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2,4−ヘプタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール等の多価アルコール系溶媒;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノ−2−エチルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル等の多価アルコール部分エーテル系溶媒等が挙げられる。
n−ペンタン、i−ペンタン、n−ヘキサン、i−ヘキサン、n−ヘプタン、i−ヘプタン、2,2,4−トリメチルペンタン、n−オクタン、i−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、メチルエチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、i−プロピルベンゼン、ジエチルベンゼン、i−ブチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ジ−i−プロピルベンセン、n−アミルナフタレン等の芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられる。
当該フォトレジスト組成物は、その他の任意成分として、界面活性剤、脂環式骨格含有化合物、増感剤等を含有できる。なお、上記フォトレジスト組成物は、上記その他の任意成分をそれぞれ1種のみ含有してもよいし、2種以上を含有してもよい。
界面活性剤は、当該パターン形成方法に用いられるフォトレジスト組成物の塗布性、ストリエーション、現像性等を改良する効果を奏する。
脂環式骨格含有化合物は、当該パターン形成方法に用いられるフォトレジスト組成物のドライエッチング耐性、パターン形状、基板との接着性等を改善する効果を奏する。
増感剤は、[B]酸発生体からの酸の生成量を増加する作用を示すものであり、当該パターン形成方法に用いられるフォトレジスト組成物の「みかけの感度」を向上させる効果を奏する。
当該パターン形成方法に用いられるフォトレジスト組成物は、例えば[E]溶媒中で[A]重合体、[B]酸発生体、[C]重合体、[D]酸拡散制御剤及び任意成分を所定の割合で混合することにより調製できる。また、当該組成物は、適当な[E]溶媒に溶解又は分散させた状態に調製され使用され得る。
本発明のレジストパターン形成方法は、
(1)本発明のフォトレジスト組成物を用いて、基板上にレジスト膜を形成する工程、
(2)上記レジスト膜を露光する工程、及び
(3)上記露光されたレジスト膜を現像する工程
を有する。以下、各工程について詳述する。
本工程では、当該フォトレジスト組成物を基板上に塗布し、レジスト膜を形成する。基板としては、例えばシリコンウェハ、アルミニウムで被覆されたウェハ等の従来公知の基板を使用できる。また、例えば特公平6−12452号公報や特開昭59−93448号公報等に開示されている有機系又は無機系の下層反射防止膜を基板上に形成してもよい。
本工程では、(1)工程で形成されたレジスト膜の所望の領域に特定パターンのマスク、及び必要に応じて液浸液を介して縮小投影することにより露光を行う。例えば、所望の領域にアイソラインパターンマスクを介して縮小投影露光を行うことにより、アイソラインパターンを形成できる。同様にして、ドットパターンマスクを介して縮小投影露光を行うことによりホールパターンを形成することができる。また、露光は所望のパターンとマスクパターンによって2回以上行ってもよい。2回以上露光を行う場合、露光は連続して行うことが好ましい。なお、露光の際に用いられる液浸液としては水やフッ素系不活性液体等が挙げられる。液浸液は、露光波長に対して透明であり、かつ膜上に投影される光学像の歪みを最小限に留めるよう屈折率の温度係数ができる限り小さい液体が好ましいが、特に露光光源がArFエキシマレーザー光(波長193nm)である場合、上述の観点に加えて、入手の容易さ、取り扱いのし易さといった点から水を用いるのが好ましい。
本工程は、(2)工程において露光されたレジスト膜を本発明の現像液で現像しパターンを形成する工程である。現像後は、水で洗浄し、乾燥することが一般的である。現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、n−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等のアルカリ性化合物の少なくとも1種を溶解したアルカリ水溶液が好ましい。
本発明の重合体は、上記式(1)で表される構造単位(I)、及び上記式(2)で表される構造単位(II)を有する。当該重合体が有する上記特定構造の構造単位(II)においては、酸解離性基が結合するそれぞれのエステル同士の距離が短いため、酸の作用による解離反応がより起こり易くなる。当該重合体は、構造単位(I)に加えて、このような構造単位(II)を有するため、フォトレジスト組成物として用いた場合に、感度等の基本特性を十分満足すると共に、DOFにより優れる。なお、当該重合体については、当該フォトレジスト組成物が含有する[A]重合体についての説明を適用することができる。
重合体の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、東ソー社製のGPCカラム(G2000HXL 2本、G3000HXL 1本、G4000HXL 1本)を使用し、以下の条件により測定した。また、分散度(Mw/Mn)は、Mw及びMnの測定結果より算出した。
流量:1.0mL/分、
溶出溶媒:テトラヒドロフラン、
カラム温度:40℃
試料濃度:1.0質量%
試料注入量:100μL
検出器:示差屈折計
標準物質:単分散ポリスチレン
1H−NMR分析及び13C−NMR分析は、核磁気共鳴装置(JNM−EX270、日本電子社)により行った。
(単量体化合物の合成)
[合成例1]
2−ブロモエタノール40g(0.32mol)とt−ブチルジメチルクロロシラン53gを1Lの反応フラスコに入れ、THF400mLを加えた後、この溶液を0℃に冷却した。THF100mLにトリエチルアミン36g(0.35mol)とN,N−ジメチル−4−アミノピリジン3.9g(0.03mmol)を溶解させた溶液を、ゆっくりと滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応終了後、生じた沈殿物を吸引ろ過で除き、液層のTHFをエバポレーターにて留去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。さらに水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、減圧濃縮して得られた残渣を減圧蒸留にて精製することにより下記式(m−1)で表される化合物を66.0g(収率86%)得た。
得られた化合物(M−1)の1H−NMRデータを以下に示す。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.46(s,18H,CH3)、1.92(s,3H,CH3)、2.21(q,2H,CH2)、3.30(t,1H,CH)、4.19(t,2H,CH2)、5.54(s,1H,CH)、6.11(s,1H,CH).
構造単位(II)を与える化合物(M−1)4.7g(10mol%)、構造単位(I)を与える化合物(M−2)9.5g(40mol%)、構造単位(III)を与える化合物(M−5)15.8g(50mol%)及びAIBN 1.17gを2−ブタノン60gに溶解し、単量体溶液を準備した。一方、30gの2−ブタノンを300mLの三口フラスコに投入し、30分間窒素ガスによりパージした。窒素パージの後、三口フラスコ内の2−ブタノンを攪拌しながら、80℃に加熱した。次いで、事前に準備した上記単量体溶液を、滴下漏斗を用いて、3時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに、80℃で3時間撹拌した。重合終了後、重合溶液を水冷により、30℃以下に冷却した。そして、この重合反応溶液をメタノール/水=4/1の混合溶液600g中へ投入し、白色粉末を析出させ、その後、これを濾別した。濾別された白色粉末を、2度、120gのメタノールを用いてスラリー洗浄した後、濾別した。次いで、白色粉末(共重合体)を50℃で17時間乾燥することにより重合体(A−1)21.0gを得た(収率70%)。得られた重合体(A−1)のMwは7,100であり、Mw/Mnは1.42であった。また、13C−NMR分析の結果、化合物(M−1)由来の構造単位:化合物(M−2)由来の構造単位:化合物(M−5)由来の構造単位の含有率は、10:38:52(mol%)であった。
表1に記載の種類の単量体を所定量配合した以外は、実施例1と同様に操作して重合体(A−2)〜(A−4)及び(a−1)〜(a−2)を得た。また、得られた各重合体のMw、Mw/Mn、収率(%)及び各重合体における各単量体に由来する構造単位の含有率を合わせて表1に示す。
フォトレジスト組成物の調製に用いた[B]酸発生剤、[D]酸拡散制御剤、[E]溶媒を以下に示す。
B−1:4−シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロ−n−ブタンスルホネート(下記式(B−1)で表される化合物)
B−2:トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−n−ブタンスルホネート(下記式(B−2)で表される化合物)
D−1:N−t−ブトキシカルボニル−4−ヒドロキシピペリジン
E−1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
E−2:シクロヘキサノン
E−3:γ−ブチロラクトン
重合体(A−1)100質量部、酸発生剤(B−1)12.0質量部及び(B−2)2.9質量部、酸拡散制御剤(D−3)1.7質量部、並びに溶媒(E−1)1,985質量部、(E−2)850質量部及び(E−3)30質量部を混合し、得られた混合溶液を孔径0.2μmのフィルターでろ過して、フォトレジスト組成物を調製した。
表2に示す種類、量の各成分を用いた以外は実施例5と同様に操作して、各フォトレジスト組成物を調製した。
12インチシリコンウェハ上に、下層反射防止膜形成用組成物(ARC66、日産化学製)を、塗布/現像装置(CLEAN TRACK Lithius Pro i、東京エレクトロン製)を用いてスピンコートした後、205℃で60秒間ベークして、膜厚105nmの下層反射防止膜を形成した。この下層反射防止膜上に、上記フォトレジスト組成物を、塗布/現像装置(CLEAN TRACK ACT12、東京エレクトロン製)を用いてスピンコートし、100℃で60秒間ソフトベークを行い、膜厚100nmのレジスト膜を形成した。次に、このレジスト膜上に、国際公開第2008/47678号パンフレットの実施例1に記載の上層膜形成用組成物(液浸用保護膜用組成物)を、上記塗布/現像装置を用いてスピンコートし、90℃で60秒間プレベークして、膜厚30nmの上層膜を形成した。続いて、形成されたレジスト膜を、ArFエキシマレーザー液浸露光装置(NSR S610C、NIKON製)を用い、NA=1.3、ratio=0.675、Annularの条件により、70nmLine140nmPitchのマスクパターンを介して露光した。露光後、表2に記載の温度(℃)で60秒間PEBを行った。その後、2.38質量%のTMAH水溶液により現像し、水洗し、乾燥して、ポジ型のレジストパターンを形成した。
[感度]
70nmライン140nmピッチのパターン形成用のマスクパターンを介して露光した部分が線幅70nmのラインを形成する露光量を最適露光量(Eop)とし、この最適露光量を感度(mJ/cm2)とした。上記線幅の測長には走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社、CG4100)を用いた。
上記最適露光量にて、48nmライン105nmピッチ、50nmライン105nmピッチ、52nmライン105nmピッチ、54nmライン105nmピッチ、56nmライン140nmピッチとするパターン形成用のマスクパターンをそれぞれ介してLSパターンを形成した。このとき、マスクのラインサイズ(nm)を横軸に、各マスクパターンを用いてレジスト膜に形成されたライン幅(nm)を縦軸にプロットしたときの直線の傾きをMEEFとして算出した。MEEF(直線の傾き)は、その値が1に近いほどマスク再現性が良好であると判断される。結果を表2に合わせて示す。
上記Eopにて、形成されるトレンチ(スペース部分)の幅が63nm〜77nmに収まるような焦点深度(μm)をDense DOFとした。Dense DOFが0.04μm以上であれば「良好」、0.02μm以上0.04μm未満であれば「やや良好」であるといえる。
50nmトレンチ1,000nmピッチのマスクパターンを介して上記Eopにて露光した以外は、上記70nmライン140nmピッチパターンの形成の場合と同様にして、ポジ型のレジストパターンを形成した。このとき、形成されるトレンチの幅が、45nm〜55nmに収まるような焦点深度(μm)をIso DOFとした。Iso DOFが0.06μm以上であれば良好であるといえる。
Claims (11)
- [A]1つの酸解離性基を含む構造単位(I)、及び2つ以上の酸解離性基を含む構造単位(II)を有する重合体、並びに
[B]酸発生体
を含有するフォトレジスト組成物。 - 上記式(2)におけるR5が、置換基を有してもよい炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基である請求項2又は請求項3に記載のフォトレジスト組成物。
- 上記式(3)におけるR7〜R9が、それぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基である請求項3又は請求項4に記載のフォトレジスト組成物。
- 上記式(3)におけるR7〜R9のいずれか2つが互いに結合して、それらが結合している炭素原子と共に2価の脂環式基を形成し、この脂環式基の炭素数が4〜8である請求項3又は請求項4に記載のフォトレジスト組成物。
- [A]重合体が、ラクトン基、環状カーボネート基及びスルトン基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含む構造単位(III)をさらに有する請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物。
- 構造単位(II)の含有割合が、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、1モル%以上40モル%以下である請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物。
- [A]重合体における構造単位(II)の含有割合に対する構造単位(I)の含有割合の比が、1以上20以下である請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物。
- (1)請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物を用いて、基板上にレジスト膜を形成する工程、
(2)上記レジスト膜を露光する工程、及び
(3)上記露光されたレジスト膜を現像する工程
を有するレジストパターン形成方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150046613A (ko) * | 2013-10-22 | 2015-04-30 | 주식회사 동진쎄미켐 | 미세패턴 형성용 코팅 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법 |
KR20220151331A (ko) * | 2021-05-06 | 2022-11-15 | 주식회사 켐폴 | 반도체 소자 제조용 재료 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000136219A (ja) * | 1998-10-29 | 2000-05-16 | Samsung Electronics Co Ltd | 化学増幅型レジスト用感光性ポリマ―とこれを含む化学増幅型レジスト化合物 |
JP2010237656A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-10-21 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 |
JP2011052211A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-03-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 新規化合物、樹脂、フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2012208432A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Fujifilm Corp | パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス |
-
2011
- 2011-09-16 JP JP2011203685A patent/JP5772432B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000136219A (ja) * | 1998-10-29 | 2000-05-16 | Samsung Electronics Co Ltd | 化学増幅型レジスト用感光性ポリマ―とこれを含む化学増幅型レジスト化合物 |
JP2010237656A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-10-21 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 |
JP2011052211A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-03-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 新規化合物、樹脂、フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2012208432A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Fujifilm Corp | パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150046613A (ko) * | 2013-10-22 | 2015-04-30 | 주식회사 동진쎄미켐 | 미세패턴 형성용 코팅 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법 |
KR102182320B1 (ko) | 2013-10-22 | 2020-11-24 | 주식회사 동진쎄미켐 | 미세패턴 형성용 코팅 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법 |
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