JP2013040813A5 - - Google Patents
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次に、光学特性測定装置１００で試料を測定（シミュレーション）して得られた結果について説明する。まず、図７は、従来の光学特性測定装置で試料を測定して得られた結果を示すグラフである。図７（ａ）に、試料１の反射率スペクトル、試料１の膜の光学定数ｎ，ｋのグラフ、図７（ｂ）に、試料２の反射率スペクトル、試料２の膜の光学定数ｎ，ｋのグラフ、図７（ｃ）に、試料３の反射率スペクトル、試料３の膜の光学定数ｎ，ｋのグラフがそれぞれ示されている。なお、反射率スペクトルのグラフの横軸は波長、縦軸は反射率をそれぞれ示し、膜の光学定数ｎ，ｋのグラフの横軸は波長、左側縦軸は屈折率、右側縦軸は消衰係数をそれぞれ示している。また、試料１〜試料３は、Ｓｉ基板上にそれぞれ膜厚の異なる樹脂膜を形成してある。
図７に示すように、消衰係数ｋは、試料１〜試料３により変化せず同じ値であるが、屈折率ｎは、試料１と、試料２，３とで異なるので、樹脂膜の光学定数ｎ，ｋを唯一の値として算出することができない。なお、試料１の樹脂膜の膜厚は４９．１ｎｍ、試料２の樹脂膜の膜厚は４５．６ｎｍ、試料３の樹脂膜の膜厚は６５．４ｎｍとそれぞれ算出される。
図８に示すように、光学定数ｎ，ｋは、試料４〜試料６により変化せず、樹脂膜の光学定数を示す唯一の値として算出することができる。なお、試料４の樹脂膜の膜厚は６０．８ｎｍ、試料５の樹脂膜の膜厚は４０．８ｎｍ、試料６の樹脂膜の膜厚は１９．８ｎｍと
それぞれ算出される。
それぞれ算出される。
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|---|---|---|---|---|
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