JP2013030490A - アニールされたポリマー電解質膜を有する膜電極アセンブリ - Google Patents

アニールされたポリマー電解質膜を有する膜電極アセンブリ Download PDF

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Abstract

【課題】アニールされたポリマー電解質膜(PEM)を含んでなる膜電極アセンブリ(MEA)を提供する。
【解決手段】アニールされたポリマー電解質膜(PEM)を含んでなる膜電極アセンブリ(MEA)が提供され、さらに、MEAはアニールされた触媒層を含有してもよい。この触媒層はアニールされたPEMと接触してアニールされている。さらに、製造方法が提供される。本発明によるMEAは、水素燃料電池のような電気化学的電池において使用されてよい。
【選択図】なし

Description

本発明は、水素燃料電池のような電気化学的電池において使用される膜電極アセンブリ(MEA)に関する。この膜電極アセンブリはアニールされたポリマー電解質膜(PEM)を含んでなり、そしてアニールされた触媒層をさらに含んでいてもよい。
簡潔に言えば、本発明は、アニールされたポリマー電解質膜(PEM)を含んでなる膜電極アセンブリ(MEA)を提供する。ポリマー電解質は分散系からキャストされるか、コートされるか又は別の方法で形成され、そしてその後120℃以上又はより好ましくは130℃以上の温度までアニールされる。
もう一つの態様において、本発明は、アニールされた触媒層を一層以上有するMEAを提供する。この触媒層は、アニールされたPEMの表面にアニールされている。
優れた機械的強度および耐久性をはじめとする、水素燃料電池における優れた性能を有するMEAを提供することが本発明の有利な点である。
本発明は、アニールされたポリマー電解質膜(PEM)および任意に一層以上のアニールされた触媒層を含んでなる膜電極アセンブリ(MEA)を提供する。
本発明において有用なポリマー電解質は、好ましくはナフィオン(Nafion)(登録商標)(DuPont Chemicals、デラウェア州、Wilmington)およびフレミオンTM(FlemionTM)(旭硝子株式会社、日本、東京)のような酸官能性フルオロポリマー又はそれらの塩である。本発明において有用なポリマー電解質は、好ましくはテトラフルオロエチレンおよび一種以上のフッ素化酸官能性コモノマーのコポリマーである。好ましくはポリマー電解質はスルホネート官能基を有する。最も好ましくはポリマー電解質はナフィオンである。ポリマー電解質は好ましくは1200以下、より好ましくは1100以下、より好ましくは1050以下、そして最も好ましくは約1000の酸当量を有する。ポリマー電解質は好ましくは水性分散系として得られる。この分散系はアルコールをはじめとする有機溶媒を包含してもよい。より好ましくは分散系は水およびアルコールの混合物を包含する。かかる分散系は時々、溶液と称される。好ましくは分散系は100℃より高い、即ち水の沸点より高い沸点を有する溶媒を除外する。
ポリマー電解質は、最初に分散系からキャストされるか、コートされるか又は他の方法で形成されて適切な形状、好ましくは薄層とされ、そしてその後アニールされる。バーコーティング、スプレーコーティング、スリットコーティング、刷毛コーティング等をはじめとする適当なコーティング又はキャスティング方法はいずれも使用されてもよい。
アニーリング温度は好ましくは120℃より高く、そしてより好ましくは130℃以上である。アニーリング時間は好ましくはポリマー電解質の表面を適切なアニーリング温度に到達させるのに十分な程度、そしてより好ましくはポリマー電解質の全部分を適切なアニーリング温度に到達させるのに十分な程度である。薄層においては1分未満の時間で十分であろう。分散系において識別可能であり、そしてキャストされたか又はコートされた膜においても識別可能のままであるポリマー粒子は、アニールされた材料においては合体して、境界が減少するか又は好ましくは消滅して、連続的固体相を形成する。
本発明によるポリマー電解質膜(PEM)は好ましくは50μm未満、より好ましくは40μm未満、より好ましくは30μm未満、そして最も好ましくは約25μmの厚さを有する。好ましくはPEMはポリマー電解質に加えて支持構造材料又はマトリックスを含有せず、そしてより好ましくはPEMはアニールされたポリマー電解質のみから構成される。
本発明によるPEMは、二層の触媒コート気体拡散層(CCGDL)の間に挟まれて膜電極アセンブリ(MEA)を形成してもよい。CCGDLは、気体拡散層(GDL)を触媒インクでコートすることにより形成されてもよい。触媒インクは好ましくは、事前にアニールされたPEMに結合する間にアニールされる付加的なポリマー電解質材料を含んでなる。アニーリング温度は好ましくは120℃より高く、そしてより好ましくは130℃以上である。
一つの好ましい方法において、触媒分散系又はインクは最初に、ポリマー電解質分散系において炭素担持触媒粒子を分散することにより製造される。炭素担持触媒粒子は好ましくは50〜60重量%の炭素および40〜50重量%の触媒金属であり、触媒金属は好ましくはカソード用Pt、並びに重量比において2:1のアノード用PtおよびRuを含んでなる。電解質分散系は好ましくは水性分散系であり、好ましくはナフィオンTM(DuPont Chemicals、デラウェア州、Wilmington)のような固体ポリマー電解質の水性分散系である。ポリマー電解質は好ましくは1200以下、より好ましくは1100以下、より好ましくは1050以下、そして最も好ましくは約1000の当量を有する。この混合物は好ましくは高剪断撹拌下で30分間加熱され、そしてコート可能な粘稠度まで希釈される。
気体拡散層は導電性であり、流体に透過性であり、そして好ましくは炭素繊維のような炭素を含んでなる。気体拡散層は好ましくは東レカーボン紙(東レ、日本、東京)である。触媒分散系でコートする前に、気体拡散層は好ましくはテフロンTMのような疎水性層で、好ましくはその水性分散系に浸漬することによりコートされ、次いで好ましくはカーボンブラック分散系でコートされる。カーボンブラック分散系は好ましくは、カーボンブラックおよびテフロン、並びに任意にTRITON X−100(Union Carbide Corp.、コネチカット州、Danbury)のような界面活性剤を含んでなる水性分散系である。より好ましくは、この分散系は水およびイソプロピルアルコールの組み合わせであり、好ましくは60重量%を超えるイソプロピルアルコールを含んでなる。カーボンブラック分散系は好ましくは、乾燥東レ紙上に0.01〜0.1mmの湿潤厚さでコートされる。テフロンおよびカーボンブラックコートGDLは好ましくは380℃で10分間、オーブン中で乾燥される。このコートGDLは次いで、上記の通り調製された触媒分散系により、好ましくは1平方センチメートルあたり0.2〜5mgの触媒金属(Pt又はPt+Ru)、好ましくは1平方センチメートルあたり約0.5mgの触媒金属(Pt又はPt+Ru)が得られる量で更にコートされ、触媒コート気体拡散層(CCGDL)が形成される。
本発明によるPEMは、触媒コーティングがPEMに面するように、二層の触媒コート気体拡散層(CCGDL)の間に挟まれる。好ましくはMEAはプレス加工され、最も好ましくはその最初の厚さの固定分数(fixed fraction)までプレス加工される。プレス加工の前にテフロンコートガラス繊維のガスケットを各側に置く。CCGDLはPEMより表面積が小さく、そして各々は各々のガスケットの窓に適合する。ガスケットの高さはCCGDLの高さの70%であり、全アセンブリがプレス加工されるときにCCGDLの30%圧縮を許容する。好ましくは圧縮の程度は0%〜60%の間であり、より好ましくは10%〜50%、より好ましくは20%〜40%、そして最も好ましくは表示された通り約30%である。プレス加工温度は好ましくは120℃以上、又はより好ましくは130℃以上であり、それによりインクはプレス加工の間に、事前にアニールされたPEMにアニールされる。
或は、触媒インクはPEMおよび二層のGDLの間に挟まれた触媒コートPEMの両面に被着されてもよい。
本発明の目的および有利な点は以下の実施例により更に説明されるが、これらの実施例に列挙されたそれらの特定の材料および量、並びに他の条件および詳細は、不当に本発明を限定するように解釈されるべきではない。
触媒分散系
炭素担持触媒粒子(エヌ・イー・ケムキャット株式会社、日本、大阪)(50〜60重量%の炭素および40〜50重量%の触媒金属、触媒金属はカソード使用のためのPt、又は重量比で2:1のアノード使用のためのPtおよびRuであると明示されている)をナフィオンTM1000の水性分散系(SE10172、主として水中の10%ナフィオン1000(DuPont Chemicals、デラウェア州、Wilmington)中に分散し、そして標準的な磁気撹拌棒を使用して撹拌しながら100℃まで30分間加熱する。次いで、この混合物を冷却し、そしてコート可能な粘稠度まで水で希釈し、続いてHandishearTMハンドヘルド撹拌機(Virtis Co.、ニューヨーク州、Gardiner)により5分間、30000rpmで高剪断撹拌を行う。
触媒コート気体拡散層
0.2mm厚の東レカーボン紙(触媒番号TGP−H−060、東レ、日本、東京)の試料をほぼ1〜20%固形分、好ましくは1〜6%固形分、最も好ましくは5%固形分水性テフロンTM分散系(60%固形分水性分散系(触媒番号T−30、DuPont)を希釈することにより調製される)中に手で浸し、次いでエアオーブン中50〜60℃で乾燥して水を除去し、そして気体拡散層(GDL)を形成する。
以下の通り、GDLをカーボンブラック分散系でコートする。7.6cmの刃を装備したRoth混合機を使用して4500rpmで高剪断撹拌下に、VULCANTM X72カーボンブラック(Cabot Corp.、マサチューセッツ州、Waltham)の水中分散系を調製する。別の容器においてテフロンTMの水性分散系(T−30、duPont)を5%固形分までDI水で希釈し、それにカーボンブラック分散系を撹拌しながら添加する。得られた混合物を真空下で濾過し、水、テフロンTMおよびカーボンブラックのほぼ20%固形分混合物である保留物を得る。このペースト状混合物をほぼ3.5重量%の表面活性剤(TRITON X−100、Union Carbide Corp.、コネチカット州、Danbury)で処理し、続いてイソプロピルアルコール(IPA、Aldrich Chemical Co.、ウィスコンシン州、Milwaukee)をIPA対ペーストの重量比が1.2:1であるように添加する。高剪断下で3本刃VersaMixer(80rpmでアンカー刃、7000rpmで分散固定子、および5000rpmで回転固定子乳化機)を使用して、50分間10℃で希釈混合物を再撹拌する。
そのようにして得られた分散系をほぼ0.050mmの湿潤厚で、ノッチバーコーターを使用して乾燥東レ紙上にコートする。23℃において一晩乾燥させることによりIPAを除去し、続いてオーブン中380℃で10分間乾燥させてほぼ0.025mmの厚さおよびほぼ25g/m2の基本重量(カーボンブラック+テフロンTM)のコートGDLを製造する。
そのようにしてカーボンブラックでコートされたHGDLを、次いで上記の通り調製された触媒分散系で、1平方センチメートルあたり0.5mgの触媒金属(Pt又はPt+Ru)が得られる量で手でコート(刷毛塗り)し、そして乾燥させて触媒コート気体拡散層(CCGDL)を形成する。
ポリマー電解質膜
ポリ(塩化ビニル)下塗りされたポリ(エチレンテレフタレート)の基材(3M Co.、ミネソタ州、St.Paul)上に、ナフィオンTM1000(DuPont Chemical Co.)の水性分散系を、最終乾燥フィルムが厚さほぼ25μmであるような装填量でノッチコートすることにより、ポリマー電解質膜(PEM)を調製した。キャストフィルムを最初に50〜60℃で乾燥オーブン中に通し(ほぼ3〜4分のドウェル時間)、次いで空気衝突オーブン中で4分間130℃で乾燥して溶媒の残りを除去し、そしてナフィオンTMフィルムをアニールする。その後の使用のために、基材から乾燥フィルムを剥離する。
五層膜電極アセンブリ
次いで、触媒コーティングがPEMに面している二層のCCGDLの間にPEMを挟む。また各側にテフロンコートガラス繊維のガスケットを置く。CCGDLは表面積がPEMより小さく、そして各々は各々のガスケットの窓に適合する。ガスケットの高さはCCGDLの高さの70%であり、全アセンブリがプレス加工されるときにCCGDLの30%圧縮を許容する。Carver Press(Fred Carver Co.、インディアナ州、Wabash)において10分間、30kg/cm2の圧力および130℃の温度でプレス加工して最終膜電極アセンブリ(MEA)を形成する。
MEA試験
上記の通り製造されたMEAは、水素試験電池において優れた性能を実証した。
本発明の様々な修正および変更は、本発明の範囲および原理から逸脱することなく、当業者に明白となるであろうし、そして本発明は、前述された説明のための実施形態に不当に限定されないことが理解されるべきである。全ての出版物および特許は、それぞれ個々の出版物又は特許が明確にそして個々に参照のために援用されるよう示された場合と同範囲まで参照のために本明細書に援用される。

Claims (24)

  1. アニールされたポリマー電解質膜を含んでなる膜電極アセンブリ。
  2. 前記アニールされたポリマー電解質膜が、120℃以上のアニーリング温度までアニールされたポリマー電解質を含んでなる、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
  3. 前記アニールされたポリマー電解質膜が、130℃以上のアニーリング温度までアニールされたポリマー電解質を含んでなる、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
  4. 前記アニールされたポリマー電解質膜と接触しているアニールされた触媒層の少なくとも一層をさらに含んでなり、前記触媒層がポリマー電解質および触媒を含んでなる、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
  5. 前記アニールされた触媒層が、120℃以上のアニーリング温度までアニールされたポリマー電解質を含んでなる、請求項4に記載の膜電極アセンブリ。
  6. 前記アニールされた触媒層が、130℃以上のアニーリング温度までアニールされたポリマー電解質を含んでなる、請求項4に記載の膜電極アセンブリ。
  7. 前記アニールされたポリマー電解質膜が30μm以下の厚さを有する、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
  8. 前記アニールされたポリマー電解質膜が1200以下の当量を有するポリマー電解質を含んでなる、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
  9. 前記アニールされたポリマー電解質膜が1050以下の当量を有するポリマー電解質を含んでなる、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
  10. 前記アニールされたポリマー電解質膜がポリマー電解質を含んでなり、そして前記ポリマー電解質に加えて支持構造材料を含まない、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
  11. 前記アニールされたポリマー電解質膜が、スルホネート官能基を有するフルオロポリマーであるポリマー電解質を含んでなる、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
  12. 前記アニールされたポリマー電解質膜が、ナフィオン(登録商標)であるポリマー電解質を含んでなる、請求項11に記載の膜電極アセンブリ。
  13. a)第一ポリマー電解質の分散系をキャストして膜を形成する工程と、
    b)120℃以上の第一アニーリング温度まで加熱することにより前記膜をアニールする工程と、
    c)引き続き、第二ポリマー電解質および触媒を含んでなる触媒層の少なくとも一層を前記ポリマー電解質膜に被着する工程と、
    d)120℃以上の第二アニーリング温度まで加熱することにより、前記ポリマー電解質膜と接触している前記触媒層をアニールする工程と、
    から構成される膜電極アセンブリを製造する方法。
  14. 前記第一アニーリング温度が130℃以上である、請求項13に記載の方法。
  15. 前記第二アニーリング温度が130℃以上である、請求項13に記載の方法。
  16. 前記第一ポリマー電解質が1200以下の当量を有する、請求項13に記載の方法。
  17. 前記第一ポリマー電解質が1050以下の当量を有する、請求項13に記載の方法。
  18. 前記第二ポリマー電解質が1200以下の当量を有する、請求項13に記載の方法。
  19. 前記第二ポリマー電解質が1050以下の当量を有する、請求項13に記載の方法。
  20. 前記触媒層が、前記ポリマー電解質膜に被着される前に導電性、気体透過性の気体拡散層にコートされる、請求項13に記載の方法。
  21. 前記ポリマー電解質膜と接触している前記触媒層をアニールする前記段階が、10〜35kg/cm2以上の圧力で成し遂げられる、請求項13に記載の方法。
  22. 前記第一および第二ポリマー電解質が、スルホネート官能基を有するフルオロポリマーである、請求項13に記載の方法。
  23. 前記第一および第二ポリマー電解質がナフィオン(登録商標)である、請求項13に記載の方法。
  24. 第一気体拡散層、第一触媒層、アニールされたポリマー電解質膜、第二触媒層、および第二気体拡散層を、この順番で含んでなる、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。
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