JP2013030158A - 画像処理方法、画像表示方法、画像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
画像処理方法、画像表示方法、画像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013030158A JP2013030158A JP2012123198A JP2012123198A JP2013030158A JP 2013030158 A JP2013030158 A JP 2013030158A JP 2012123198 A JP2012123198 A JP 2012123198A JP 2012123198 A JP2012123198 A JP 2012123198A JP 2013030158 A JP2013030158 A JP 2013030158A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- image processing
- tone curve
- substrate
- histogram
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 106
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 96
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 55
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 18
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 4
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 132
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 70
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 53
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 27
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T5/00—Image enhancement or restoration
- G06T5/90—Dynamic range modification of images or parts thereof
- G06T5/92—Dynamic range modification of images or parts thereof based on global image properties
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T5/00—Image enhancement or restoration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Immunology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Facsimile Image Signal Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】基板を撮像し、当該撮像された基板画像の画素値を変換する画像処理の方法において、撮像された基板画像の画素値をヒストグラム化し、ヒストグラムにおける画素値の分布に基づいて、所定の振幅、所定の周期の三角関数からなるトーンカーブTを作成する。トーンカーブTにより、撮像された基板画像の画素値を変換することで、高コントラストな基板画像を得る。
【選択図】図8
Description
Y={(2C/2)−N}×[sin{(X−A)/B}+1]
で示される式により求められるものであってもよい。この際、Yは変換後の画素値、Cは基板画像のbit数、Nは1/2以上の正の定数、Xは撮像された基板画像の画素値、Aは位相、Bは周期である。かかる場合、前記三角関数におけるAは、前記ヒストグラムにおける画素値の最頻値であってもよい。
Y={(2C/2)−N}×[sin{(X−A)/B}+1]
で示される式により求められるものであってもよい。この際、Yは変換後の画素値、Cは基板画像のbit数、Nは1/2以上の正の定数、Xは撮像された基板画像の画素値、Aは位相、Bは周期である。かかる場合、前記三角関数におけるAは、前記ヒストグラムにおける画素値の最頻値であってもよい。
Y={(2C/2)−N}×[sin{(X−A)/B}+1] ・・・(1)
式(1)から明らかなように、演算部161で作成されるトーンカーブは、三角関数である。式(1)のCは基板画像のbit数であり、Nは式(1)で求められるトーンカーブの振幅を決定する定数である。Xは欠陥検査ユニット63で撮像された基板画像における画素値であり、Aは当該三角関数の位相であり、Bは当該三角関数の周期である。ここで、式(1)のトーンカーブを用いた本発明の画像処理の原理について簡単に説明する。
式(2)のH(i)は各画素値(i=0〜255)の頻度である。
したがって、ヒストグラムの全体の積分値Fに対する画素値範囲R内の頻度の総和Jの割合Lは、次の式(4)のように表される。
L=J/F×100 ・・・(4)
Y=(127)×[sin{(X−111)/6}+1] ・・・(5)
そして、この式(5)を横軸が入力画像の画素値X、縦軸が変換後の画素値Yとなるように描図すると、図11に示されるように、ヒストグラムの画素値の総和の80%が周期Bの半分の領域内に含まれる三角関数状のトーンカーブTが得られる。
Y3=(a×Y1)+{(1−a)×Y2} ・・・(6)
ここで式(6)の「a」は、出力画素値Y1を求めるトーンカーブT1と、出力画素値Y2を求めるトーンカーブT2とを合成する際の重み計数であり、0〜1の間で任意の値を取りうる。なお、「a」を1とした場合、トーンカーブT3はトーンカーブT1と同じになり、「a」を0(ゼロ)とした場合トーンカーブT3はトーンカーブT2と同じになる。
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光装置
5 インターフェイスステーション
6 制御装置
10 カセット搬入出部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13 載置板
20 搬送路
21 ウェハ搬送装置
30 現像処理ユニット
31 下部反射防止膜形成ユニット
32 レジスト塗布ユニット
33 上部反射防止膜形成ユニット
40 熱処理ユニット
41 アドヒージョンユニット
42 周辺露光ユニット
70 ウェハ搬送装置
80 シャトル搬送装置
90 ウェハ搬送装置
100 ウェハ搬送装置
110 ケーシング
120 載置台
121 回転駆動部
122 ガイドレール
123 駆動装置
130 撮像装置
131 ハーフミラー
132 照明装置
150 画像処理装置
160 算出部
161 演算部
162 変換部
163 入力部
164 出力表示部
W ウェハ
D ウェハ搬送領域
C カセット
Claims (18)
- 基板を撮像し、当該撮像された基板画像の画素値を変換する画像処理の方法であって、
撮像された基板画像の画素値をヒストグラム化し、
前記ヒストグラムにおける画素値の分布に基づいて、所定の振幅、所定の周期の周期関数からなるトーンカーブを作成し、
前記トーンカーブにより、前記撮像された基板画像の画素値を変換することを特徴とする、画像処理方法。 - 前記周期関数は、三角関数であることを特徴とする、請求項1に記載の画像処理方法。
- 前記三角関数は、
Y={(2C/2)−N}×[sin{(X−A)/B}+1]
で示される式により求められるものであることを特徴とする、請求項2に記載の画像処理方法。
Y:変換後の画素値
C:基板画像のbit数
N:1/2以上の正の定数
X:撮像された基板画像の画素値
A:位相
B:周期 - 前記三角関数におけるAは、前記ヒストグラムにおける画素値の最頻値であることを特徴とする、請求項3に記載の画像処理方法。
- 前記トーンカーブの形状は、のこぎり波状であることを特徴とする、請求項1に記載の画像処理方法。
- 前記周期関数は、複数の三角関数を合成したものであることを特徴とする、請求項2または3のいずれかに記載の画像処理方法。
- 前記複数の三角関数は、前記ヒストグラムに複数存在する画素値のピークごとに求められ、それぞれ異なった周期または位相を有するものであることを特徴とする、請求項6に記載の画像処理方法。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の画像処理方法により変換して求めた画像を、画像表示装置に表示することを特徴とする、画像表示方法。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の画像処理方法を基板処理システムによって実行させるために、当該基板処理システムを制御する制御装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項9に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 撮像装置で撮像された基板画像の画素値を変換する画像処理装置であって、
撮像された基板画像の画素値をヒストグラム化する算出部と、
前記ヒストグラムにおける画素値の分布に基づいて、所定の振幅、所定の周期の周期関数からなるトーンカーブを作成する演算部と、
前記トーンカーブにより、前記撮像された基板画像の画素値を変換する変換部と、を有することを特徴とする、画像処理装置。 - 前記周期関数は、三角関数であることを特徴とする、請求項11に記載の画像処理装置。
- 前記三角関数は、
Y={(2C/2)―N}×[sin{(X−A)/B}+1]
で示される式により求められるものであることを特徴とする、請求項12に記載の画像処理装置。
Y:変換後の画素値
C:画像のbit数
N:1/2以上の正の定数
X:撮像された画像の画素値
A:位相
B:周期 - 前記三角関数におけるAは、前記ヒストグラムにおける画素値の最頻値であることを特徴とする、請求項13に記載の画像処理装置。
- 前記トーンカーブの形状は、のこぎり波状であることを特徴とする、請求項11に記載の画像処理装置。
- 前記周期関数は、複数の前記三角関数を合成したものであることを特徴とする、請求項12または13のいずれかに記載の画像処理装置。
- 前記複数の三角関数は、前記ヒストグラムに複数存在する画素値のピークにそれぞれ対応して求めたものであることを特徴とする、請求項16に記載の画像処理装置。
- 前記変換部で画素値が変換された画像を表示する画像表示装置を有することを特徴とする、請求項11〜17に記載の画像処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012123198A JP5777570B2 (ja) | 2011-06-24 | 2012-05-30 | 画像処理方法、画像表示方法、画像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
US13/524,085 US8873849B2 (en) | 2011-06-24 | 2012-06-15 | Image processing method, image display method, image processing apparatus and a non-transitory computer-readable recording medium |
KR1020120067311A KR101839156B1 (ko) | 2011-06-24 | 2012-06-22 | 화상 처리 방법, 화상 표시 방법, 화상 처리 장치, 및 컴퓨터 기억 매체 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011141128 | 2011-06-24 | ||
JP2011141128 | 2011-06-24 | ||
JP2012123198A JP5777570B2 (ja) | 2011-06-24 | 2012-05-30 | 画像処理方法、画像表示方法、画像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013030158A true JP2013030158A (ja) | 2013-02-07 |
JP5777570B2 JP5777570B2 (ja) | 2015-09-09 |
Family
ID=47361908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012123198A Active JP5777570B2 (ja) | 2011-06-24 | 2012-05-30 | 画像処理方法、画像表示方法、画像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8873849B2 (ja) |
JP (1) | JP5777570B2 (ja) |
KR (1) | KR101839156B1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020166147A1 (ja) * | 2019-02-14 | 2020-08-20 | 株式会社日立製作所 | 漏油検出装置及び漏油検出方法 |
JP2020160616A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | ブラザー工業株式会社 | 生成装置、コンピュータプログラム、生成方法 |
WO2021020627A1 (ko) * | 2019-07-31 | 2021-02-04 | 엘지전자 주식회사 | 디스플레이 장치 및 그의 동작 방법 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106093069B (zh) * | 2016-08-15 | 2019-01-11 | 国网山西省电力公司电力科学研究院 | 一种高压绝缘子串绝缘污秽故障的监测方法 |
US10269602B1 (en) * | 2017-11-28 | 2019-04-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Wafer warpage inspection system and method using the same |
CN114972325B (zh) * | 2022-07-11 | 2022-11-04 | 爱普车辆股份有限公司 | 一种基于图像处理的汽车轮毂缺陷检测方法 |
CN116337879B (zh) * | 2023-05-23 | 2023-08-04 | 青岛豪迈电缆集团有限公司 | 一种电缆绝缘表皮磨损缺陷快速检测方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6218109U (ja) * | 1985-07-15 | 1987-02-03 | ||
JPH05300517A (ja) * | 1992-04-17 | 1993-11-12 | Toshiba Seiki Kk | 画像処理方法 |
JP2000099762A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-07 | Honda Motor Co Ltd | 3次元cadモデルに対する陰影処理方法およびその装置 |
JP2003051944A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-02-21 | Canon Inc | 画像処理方法、画像処理システム、プログラム及び記憶媒体 |
US20050100242A1 (en) * | 2001-07-06 | 2005-05-12 | Trifonov Mikhail I. | Automatic contrast enhancement |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3927353B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2007-06-06 | 株式会社日立製作所 | 比較検査における画像の位置合せ方法、比較検査方法及び比較検査装置 |
US7127098B2 (en) * | 2001-09-13 | 2006-10-24 | Hitachi, Ltd. | Image detection method and its apparatus and defect detection method and its apparatus |
JP3867724B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2007-01-10 | オムロン株式会社 | 表面状態検査方法およびその方法を用いた表面状態検査装置ならびに基板検査装置 |
JP4468734B2 (ja) * | 2004-04-27 | 2010-05-26 | オリンパス株式会社 | 映像信号処理装置と映像信号処理プログラム |
JP4692196B2 (ja) * | 2005-10-04 | 2011-06-01 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法および撮像装置 |
US8064665B2 (en) * | 2006-11-21 | 2011-11-22 | Carestream Health, Inc. | Tone scale transformation for radiological images |
US8355595B2 (en) * | 2007-05-15 | 2013-01-15 | Xerox Corporation | Contrast enhancement methods and apparatuses |
JP4914854B2 (ja) | 2008-03-10 | 2012-04-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 欠陥検査方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP5100565B2 (ja) * | 2008-08-05 | 2012-12-19 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置及び画像処理方法 |
JP5424921B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2014-02-26 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置及びその制御方法 |
JP5645142B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2014-12-24 | エルジー・ケム・リミテッド | 色差分析を用いた偏光板のムラ自動検査装置及び検査方法 |
-
2012
- 2012-05-30 JP JP2012123198A patent/JP5777570B2/ja active Active
- 2012-06-15 US US13/524,085 patent/US8873849B2/en active Active
- 2012-06-22 KR KR1020120067311A patent/KR101839156B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6218109U (ja) * | 1985-07-15 | 1987-02-03 | ||
JPH05300517A (ja) * | 1992-04-17 | 1993-11-12 | Toshiba Seiki Kk | 画像処理方法 |
JP2000099762A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-07 | Honda Motor Co Ltd | 3次元cadモデルに対する陰影処理方法およびその装置 |
US20050100242A1 (en) * | 2001-07-06 | 2005-05-12 | Trifonov Mikhail I. | Automatic contrast enhancement |
JP2003051944A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-02-21 | Canon Inc | 画像処理方法、画像処理システム、プログラム及び記憶媒体 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020166147A1 (ja) * | 2019-02-14 | 2020-08-20 | 株式会社日立製作所 | 漏油検出装置及び漏油検出方法 |
JP2020134189A (ja) * | 2019-02-14 | 2020-08-31 | 株式会社日立製作所 | 漏油検出装置及び漏油検出方法 |
JP2020160616A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | ブラザー工業株式会社 | 生成装置、コンピュータプログラム、生成方法 |
WO2021020627A1 (ko) * | 2019-07-31 | 2021-02-04 | 엘지전자 주식회사 | 디스플레이 장치 및 그의 동작 방법 |
US12008741B2 (en) | 2019-07-31 | 2024-06-11 | Lg Electronics Inc. | Display device and operation method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8873849B2 (en) | 2014-10-28 |
JP5777570B2 (ja) | 2015-09-09 |
KR101839156B1 (ko) | 2018-03-15 |
US20120328194A1 (en) | 2012-12-27 |
KR20130007448A (ko) | 2013-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5777570B2 (ja) | 画像処理方法、画像表示方法、画像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP6035279B2 (ja) | 膜厚測定装置、膜厚測定方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
KR102562020B1 (ko) | 기판의 검사 방법, 기판 처리 시스템 및 컴퓨터 기억 매체 | |
JP5156452B2 (ja) | 欠陥分類方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び欠陥分類装置 | |
US7664308B2 (en) | Photomask inspection apparatus comparing optical proximity correction patterns to minimum and maximum limits | |
JP5717711B2 (ja) | 基板の基準画像作成方法、基板の欠陥検査方法、基板の基準画像作成装置、基板の欠陥検査ユニット、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
KR101994524B1 (ko) | 포커싱 장치, 포커싱 방법 및 패턴 검사 방법 | |
WO2019244696A1 (ja) | 基板の欠陥検査方法、記憶媒体及び基板の欠陥検査装置 | |
JP2023052161A (ja) | 基板検査装置、基板検査システム及び基板検査方法 | |
WO2014091928A1 (ja) | 基板の欠陥検査方法、基板の欠陥検査装置及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2014109436A (ja) | 基板の欠陥検査方法、基板の欠陥検査装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2005317818A (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
KR101689964B1 (ko) | 데이터 보정 장치, 묘화 장치, 검사 장치, 데이터 보정 방법, 묘화 방법, 검사 방법 및 프로그램을 기록한 기록 매체 | |
WO2014155830A1 (ja) | 描画装置、露光描画装置、プログラムを記録した記録媒体及び描画方法 | |
JP6524185B2 (ja) | 基板処理システム | |
JP2018056575A (ja) | 基板処理システム | |
JP5336301B2 (ja) | パターン描画方法、パターン描画装置および描画データ生成方法 | |
JP4484673B2 (ja) | 電子部品の実装検査装置、実装検査方法および実装検査プログラム | |
JP6326170B2 (ja) | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 | |
JP6234694B2 (ja) | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 | |
CN117745770A (zh) | 模板生成装置、描绘系统、模板生成方法以及存储介质 | |
JP2018159956A (ja) | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140612 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150415 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150623 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150707 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5777570 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |