JP2013027832A5 - 静電噴霧装置 - Google Patents

Claims (7)

1. 静電噴霧される物質に対して電気的に作用することにより、当該物質を静電噴霧するスプレー部位と、
   上記スプレー部位と電気的に接続可能なスプレー電極と、基準電極と、電源装置とを備え、
   上記基準電極は、上記スプレー電極と当該基準電極との間に電圧が印加されたときに、上記静電噴霧される物質が上記スプレー部位から噴霧されるように配置されており、
   上記電源装置は、上記スプレー電極と上記基準電極との間に電圧を印加し、上記スプレー部位の電気的特性を監視できるとともに、監視された上記スプレー部位の電気的特性に基づいて上記スプレー電極と上記基準電極との間に印加される電圧を調節することができ、
   さらに、上記スプレー部位から噴霧される物質の電荷が、少なくとも同量の逆の極性の電荷が上記基準電極において生成されることにより平衡化されるように、上記スプレー電極および上記基準電極が配置され、
   上記電源装置は、上記基準電極における電流を測定することにより上記スプレー部位における電流を監視することを特徴とする静電噴霧装置。
2. 荷電粒子の少なくとも一部が上記基準電極に到達しないように、上記スプレー部位から噴霧される物質を、上記静電噴霧装置から遠ざける方向制御手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の静電噴霧装置。
3. 上記方向制御手段は、上記スプレー部位の近傍に配置された誘電体をさらに備え、噴霧時に、噴霧される物質の極性と同じ電荷が、上記誘電体の側面における上記スプレー部位の近傍に蓄積され、その電荷は、上記スプレー部位から噴霧される物質を、上記静電噴霧装置から遠ざけ、
   上記誘電体は、上記スプレー電極と上記基準電極との間に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の静電噴霧装置。
4. 上記電源装置は、制御回路をさらに備え、
   上記制御回路は、少なくとも１つの電圧制御信号を供給するマイクロプロセッサを備え、
   上記電圧制御信号は、上記電源装置によって上記スプレー電極と上記基準電極との間に印加される電圧の特性を決定するものであり、
   上記マイクロプロセッサは、上記電源装置によって監視された電流または電圧の値を処理することにより上記電圧制御信号を供給し、
   上記制御回路による処理は、周囲の環境条件に関する少なくとも１つの電圧制御信号を補償するように設定されており、
   上記環境条件には、温度、湿度および／または大気圧、および／または噴霧量が含まれ、
   上記制御回路は、上記電源装置によって印加される電圧の間隔、デューティーサイクル、振幅またはオンーオフ時間のいずれか、またはその組み合わせを変化させることにより補償を行うことができることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の静電噴霧装置。
5. 第１スプレー部位において噴霧される物質の極性とは逆の極性の電荷を有する物質を噴霧する第２スプレー部位をさらに備え、
   上記基準電極は、上記第２スプレー部位と電気的に接続され、
   上記第１スプレー部位は、上記スプレー電極によって第１の極性に帯電されており、
   上記第２スプレー部位は、上記基準電極によって上記第１の極性とは逆の極性に帯電されており、
   上記スプレー電極および上記基準電極は、１つの電源によって電気的にバイアスをかけられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の静電噴霧装置。
6. 静電噴霧される第２の物質に対して電気的に作用することにより、当該第２の物質を静電噴霧する第２スプレー部位をさらに備え、
   上記基準電極は、上記第２スプレー部位と電気的に接続可能に配置されており、噴霧時に上記基準電極と上記スプレー電極との間に電圧が印加されたときに、第１スプレー部位から物質が噴霧され、上記第２スプレー部位から上記第２の物質が噴霧されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の静電噴霧装置。
7. 物質を噴霧する第１スプレー部位および第２スプレー部位と、
   上記第１スプレー部位と電気的に接続される第１電極と、
   上記第２スプレー部位と電気的に接続される第２電極と、
   電源装置とを備え、
   上記第１スプレー部位および上記第２スプレー部位は、第１および第２リザーバーにそれぞれ貯蔵された、噴霧される物質に対して噴霧時に電気的に作用するように配置されており、
   上記第１および第２電極間に電圧が印加されたときに、上記第１リザーバー内の噴霧される物質が上記第１スプレー部位から噴霧され、上記第２リザーバー内の噴霧される物質が上記第２スプレー部位から噴霧され、
   上記電源装置は、上記第１電極と上記第２電極との間に電圧を印加することができ、
   上記第１または第２スプレー部位から噴霧される物質の電荷が、少なくとも同量の逆の電荷が上記第１または第２スプレー部位においてそれぞれ生成されることにより平衡化されるように、上記第１および第２電極が配置されていることを特徴とする静電噴霧装置。