JP2013022611A - レーザスクライブ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 枠材で立体に組成されたフレーム1と、フレーム1の内部で設置面R近傍で下部横枠1bに支持される底部支持板2と、底部支持板2上に載置される石定盤3と、石定盤3の上面に取り付けられる移動ステージ13と、該移動ステージ13上に支持され脆性材料基板Wが載置されるテーブル15と、レーザ光源16を支持する上部支持板20と、該レーザ光源16からのレーザ光をテーブル15上に載置した脆性材料基板Wに照射するレーザ光照射部17とからなる構成とする。
【選択図】図2
Description
金属製の枠材で組成された下部フレーム31の上面に、高さ調整可能な連結部32を介して石定盤33を基台とする金属製の上部フレーム34が固定されている。石定盤33の上面には、X方向(図4の前後方向)に延設されたレール35に沿って移動可能に配置されたXステージ36と、このXステージ上でY方向(図4の左右方向)に延設されたレール37に沿って移動可能に配置されたYステージ38とからなるX−Yステージ39が設けられている。Yステージ38上には鉛直軸(縦軸)の周りで回転する回転機構40を介してテーブル41が設けられ、テーブル41上に加工すべき脆性材料基板Wが載置される。
すなわち、石定盤33は、通常、石定盤33の上面に機器を載置して作業者がそれらの機器を使用するため、上面の高さが人の作業しやすい高さになるように、石定盤載置面の高さL1を800〜850mm程度にした下部フレーム31と石定盤33とがセットとして使用されるのが一般的である。
発生した振動は時間とともに減衰することになるが、前回のテーブル移動で生じた振動が完全に減衰しきれていない状態で、次回のテーブル移動(前回と逆方向への移動)が始まると振動が残ったまま移動することとなり、移動中にレーザスクライブ加工が行われると、振動の影響を受けたスクライブ溝が形成されることになり、スクライブ精度を高めることが困難になる。
したがって、スクライブ精度を高めるには、本来X−Yステージが発揮できる最大の移動速度よりも小さな速度で往復運動を行うようにしたり、端まで移動した時点で振動が完全に終息するまで待機してから次の移動を開始したりするようにして振動を抑える必要があった。
そのため、振動の影響を抑える必要上、スクライブ加工のスループットを向上させることに限界があった。
ここで、設置面から底部支持板の上面までの高さである石定盤載置面高さL2は50mm〜400mmとするのが好ましい。
したがって、本発明では、装置の設置面に近接する位置に底部支持板を配置し、その上に石定盤を配置した構造として、設置面から石定盤の載置面までの高さを短くするようにしている。これにより、テーブルの急停止によって振動が発生しても、短周期振動のため、短時間のうちに減衰するようになり、次回のテーブル移動が始まる前に前回の振動は完全に終息するようになり、振動の影響の少ないスクライブ加工が可能になる。
これにより、スクライブ溝の加工を精度よく行うことができるとともに、移動ステージの高速運転も可能となり、装置性能を高めることができる。
ここで、設置面から石定盤の載置面までの高さである石定盤載置面高さL2が50mm〜400mmとすれば、水平方向の振動を大幅に減衰させることができ、高さを低くするほど、より減衰効果を増すことができる。
また、石定盤は底部支持板を介して下部横枠(フレーム)に支持されるようにして、石定盤が直接フレームに固定されないようにしているので、温度変化によるフレームと石定盤との熱膨張率差に起因する変形の影響を抑えることができる。
熱膨張率差による底部支持板の変形を抑える逃がし機構を備えたので、温度変化に対して精度の高いレーザスクライブ加工ができるようになる。
フレーム1は四隅に垂直に立設された4本の柱枠1aと、これら柱枠1aの間を水平に連結する下部横枠1bおよび上部横枠1cと、補強のために必要に応じて設けられる中部横枠1dとによって立方体状(直方体でもよい)に組成されている。これらの枠材1a、1b、1c、1dは同一金属材料の角パイプで、例えば板厚9mm程度の鉄やステンレススチールで形成されるようにしてある。
また、移動ステージは、X−Yステージに代えて一方向だけに移動するXステージであってもよい。
W 脆性材料基板
1 フレーム
1a 柱枠
1b 下部横枠
1c 上部横枠
2 底部支持板
3 石定盤
13 X−Yステージ(移動ステージ)
15 テーブル
16 レーザ光源
17 レーザ光照射部
Claims (3)
- 少なくとも、四隅に立設される柱枠、前記柱枠の下部で前記柱枠の間を水平に連結する下部横枠、前記柱枠の上部で前記柱枠の間を水平に連結する上部横枠を含む枠材で立体に組成されたフレームと、
前記フレームに囲まれた内側の空間における設置面近傍で前記下部横枠に支持される底部支持板と、
前記底部支持板上に載置される石定盤と、
前記石定盤の上面に取り付けられる移動ステージと、
前記移動ステージによって移動可能に支持され脆性材料基板が載置されるテーブルと、
前記石定盤の上方で前記上部横枠に支持される上部支持板と、
前記上部支持板に支持されるレーザ光源、および、前記レーザ光源からのレーザ光を前記脆性材料基板に照射するレーザ光照射部を備えたことを特徴とするレーザスクライブ装置。 - 設置面から前記底部支持板の上面までの高さである石定盤載置高さL2は50mm〜400mmである請求項1に記載のレーザスクライブ装置。
- 前記石定盤と前記底部支持板とは、片側が固定され、他方側は自由に膨張できるようにして熱膨張率の差による底部支持板の変形を避けるようにして支持される請求項1または請求項2に記載のレーザスクライブ装置。
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