JP2013016490A - 電子顕微鏡用試料ケース - Google Patents

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Abstract

【課題】貫通孔と密封栓を備え、繰り返し開けることができ、試料に必要な気体又は液体を入れ、試料の動態観測時間を延長できる電子顕微鏡用試料ケースの提供。
【解決手段】本発明の電子顕微鏡用試料ケースは、第1基板、第2基板、1つ以上の光電素子、及び金属粘着層を含み、前記第1基板が第1表面、第2表面、第1陥凹部、1つ以上の第1貫通孔を備え、前記第1貫通孔が第1基板を貫通し、前記第2基板が第3表面、第4表面、第2陥凹部を備え、前記光電素子が第1基板及び第2基板間に設置され、前記金属粘着層が前記第1基板と前記第2基板の間に設置されて空間が形成され、試料がその中に収容され、本発明はさらに第1貫通孔を密封できる1つ以上の密封栓を含み、本発明の試料ケースを密封して電子顕微鏡でその場観察を行うことができる。
【選択図】図1

Description

本発明は貫通孔を備えた電子顕微鏡用試料ケースに関し、特に、さらに光電素子を備えた電子顕微鏡用試料ケースに関する。
従来技術において、電子顕微鏡を操作して試料を観察するとき、電子顕微鏡内の真空環境が、試料観測の分解能及び正確度に非常に重要である。このため、従来の電子顕微鏡は多くが固体物体の構造を観察したり、生物組織やウイルスに脱水処理後の試料を観察したりするために用いられ、試料の選択性が限られており、また試料の動態状態を観察することはできず、さらには試料が外部の刺激を受けた後の反応を観察することもできない。
このような制限された状況下では、電子顕微鏡の応用範囲も同様に制限を受ける。この状況を解決するため、先行研究者は気体または液体に入れられた試料を観察できる電子顕微鏡用試料装置を発明している。前記電子顕微鏡用試料装置は、前記試料を試料ケース内に入れ、シーラント、または高分子シーラントで密封を行う。しかしながら、前記シーラント及び高分子シーラントは試料の水分を蒸散させやすく、電子顕微鏡の真空度が低下して、試料の分解能及び観察効率に影響する。
以上の問題を解決するため、現在さらに進んだ電子顕微鏡用試料ケースが生み出されており、この試料ケースは試料収容部を備えているほか、別途気室が設けられ、それにより収容部と気室間の気圧を平衡にして、試料の気体または液体が収容部から溢れる欠点を解決している。しかしながら、気室中に充填する圧力を平衡にするための不活性ガスが、試料観察の分解能に影響する可能性があり、またこの試料ケースの構成は非常に複雑であるため、製作コストの増加につながる可能性がある。
さらに、従来の電子顕微鏡用試料装置は、密封後に再度開けることができず、かつ密封空間の酸素が限られた状況では、組織または細胞の生体試料の観察が明らかに制限され、前記試料の動態変化を長時間観察することができず、さらに試料が光、電気的刺激を受けた後の動態変化を観察することはできない。
これに鑑みて、気体または液体に入れられた試料の動態変化を長時間にわたり電子顕微鏡で観察でき、かつ試料の観測条件を増加することに役立つ、高密封度を備え、繰り返し開けることができ、さらに環境刺激(光、電気)を加えることができる、電子顕微鏡用試料ケースを開発した。
本発明の主な目的は、繰り返し開けることができ、試料に必要な気体または液体を入れ、試料の動態観測時間を延長できる、貫通孔、及び密封栓を備えた電子顕微鏡用試料ケースを提供することにある。
本発明の別の目的は、試料が光、電気的刺激を受けた後の動態反応を観測できる、光電素子を備えた電子顕微鏡用試料ケースを提供することにある。
上述の目的を達成するため、本発明の提供する電子顕微鏡用試料ケースは、第1基板、第2基板、前記第1基板と前記第2基板の間に設置された1つ以上の光電素子、前記第1基板と前記第2基板の間に設置された金属粘着層を含み、前記第1基板が第1表面、第2表面、第1陥凹部、及び1つ以上の第1貫通孔を備え、そのうち第1陥凹部が第2表面に設置され、第1表面上に第1陥凹部に対応する第1薄膜が設けられ、且つ第1基板を貫通する1つ以上の第1貫通孔が第1陥凹部の外囲に設けられ、前記第2基板が第3表面、第4表面、及び第2陥凹部を備え、そのうち第2陥凹部が第4表面に設置され、第3表面上に第2陥凹部に対応する第2薄膜が設けられ、前記1つ以上の光電素子が1つ以上の作用端を備え、そのうち、前記第1基板、前記第2基板、及び前記金属粘着層間に気体または液体に入れた試料を入れるための空間が形成され、且つ前記光電素子の作用端が前記空間に設置される。本発明の適用試料は基本的に、試料が電子顕微鏡での観察の要求に適合しさえすれば特別な制限はなく、好ましくは化学原子、分子、化合物、混合物、或いは生物分野の組織、細胞、酵素、神経細胞、光受容細胞、幹細胞等とすることができる。本発明の光電素子の作用端は光の刺激を発することにより、試料の光に対する反応、試料の光学特性を観察することができる。このほか、本発明の光電素子の作用端は、試料と接触して電気的刺激を発し、試料の電気に対する反応を観察することもできる。また、本発明はさらに、試料に対して光と電気の刺激を行うことができ、試料の光と電気的刺激に対する反応を同時に観測することもできる。
上述の第1貫通孔は、好ましくは第1薄膜を貫通し、かつ前記第1基板を貫通して、第1基板、第2基板、及び金属粘着層が形成する空間を外界と連通させ、第1貫通孔から試料ケースの空間内に試料を入れることを可能とし、また気体または液体を第1貫通孔からその中に導入することもできるようにする。
上述の第1陥凹部及び第2陥凹部は、好ましくはフォトリソグラフィプロセスに加え、さらにウェットエッチングプロセス、ドライエッチングプロセス、或いは深反応性イオンエッチング技術(Deep reactive−ion etching)を施してその陥凹部の構造が形成される。そのうち、第1陥凹部及び第2陥凹部の形体には特別な制限はなく、規則的または不規則の形体とすることができ、また円柱体、錐体、正方体、または長方体としてもよく、好ましくは、第1陥凹部及び第2陥凹部はそれぞれ円柱体、錐体、正方体、または長方体とすることができる。
第1基板の第2表面上には1つ以上の第3陥凹部が設けられ、または第2基板の第4表面上には1つ以上の第4陥凹部が設けられ、第3陥凹部及び第4陥凹部は1つ以上の光電素子を設置するために用いられ、且つ光電素子の作用端を前記空間に接触させ、作用端から光、電気信号を発して試料を刺激する。そのうち、第3陥凹部及び第4陥凹部の設置は、第1基板、第2基板、または第1基板及び第2基板上に、フォトリソグラフィプロセスに加え、さらにウェットエッチングプロセス、ドライエッチングプロセス、または深反応性イオンエッチング技術(Deep reactive−ion etching)を施す方法とすることができ、好ましくは、フォトリソグラフィプロセスに加えてウェットエッチングプロセスを施すことができる(実施例において説明を補充する)。そのうち、第3陥凹部、第4陥凹部の位置は、通孔、及び正常な電子顕微鏡による観察に影響しない状況で、特に制限はなく、好ましくは第1基板、第2基板の対角線の位置に配置する。このほか、本発明の光電素子はそれぞれ光を電気エネルギーに変換する素子、電気を光に変換する素子、光素子、或いは電気素子の光電素子とすることができ、好ましくはそれぞれ光ファイバ、または電極とし、そのうち、光ファイバはグレーデッドインデックス型光ファイバ、マルチモードステップインデックス型光ファイバ、シングルモード光ファイバ、マルチモード光ファイバ、フォトニック結晶光ファイバ等とすることができる。本発明の光電素子は、Oリング、シーラント、高分子シーラント、またはハンダ等で第3陥凹部、第4陥凹部内に固定かつ密封され、好ましくはハンダとする。
上述の金属粘着層は、第2表面と第4表面の間、または第2表面と第2薄膜の間に設置でき、異なる体積及び形状の試料ケース内部空間を形成し、異なる体積の試料及び異なる分解能の観察ニーズに合わせて調整することができる。そのうち前記空間の体積は、0.01〜100立方ミリメートルとし、好ましくは0.05〜50立方ミリメートルとし、より好ましくは0.1〜10立方ミリメートルとする。前記空間の高さは10ミクロン〜1000ミクロンの間とし、好ましくは20〜700の間、より好ましくは30〜550の間とする。前述の金属粘着層の材料は、金属材料を含み、この金属材料は、チタン、錫、クロム、ニッケル、亜鉛、金、インジウム、ビスマス、銅、銀、チタンタングステン合金、またはその組み合わせから構成される群から選択され、好ましい金属材料は錫、ニッケル、亜鉛、金、インジウムであり、より好ましい金属材料は錫、金である。しかしながら、この金属粘着層中において、その構成はさらに接着層、冶金層、はんだ付け層を含むことができ、そのうち接着層はチタン、チタンタングステン合金、またはクロムとし、冶金層はニッケル、銅、または金とする。そのうち、本発明において適用される金属粘着層の金属材料は防水性に優れ、密封度が良好であり、生物排斥性がないという利点を備えている一方で、高温下でなければ粘着性を具備しないという特性が必要であるため、上下基板の接着時、試料ケース内の試料に変質を生じるリスクがある。このため、操作方法上、好ましくは先に70℃以上の高温下で金属粘着層により第1基板及び第2基板の接着を行なってから、試料を試料ケース内に入れる。
前述の第2基板はさらに1つ以上の第2貫通孔を含むことができ、そのうち第2貫通孔は好ましくは第2陥凹部の外囲に設置され、かつ前記第2基板を貫通して、第1基板、第2基板、及び金属粘着層が形成する空間を外界と連通させ、第2貫通孔から前記空間内に試料を入れることを可能とし、また気体または液体を第2貫通孔からその中に導入することもできるようにする。
そのうち、前述の第1貫通孔の孔径は10〜1000ミクロンとし、好ましくは50〜700ミクロン、より好ましくは100〜500ミクロンとする。第2貫通孔の孔径は10〜1000ミクロンとし、好ましくは50〜700ミクロン、より好ましくは100〜500ミクロンとし、そのうち、各貫通孔の孔径の大きさは観察ニーズに基づいてすべて同じでなくともよく、電子顕微鏡の操作、または観察を妨げない状況下で調整を行うことができる。製法上、第1貫通孔及び第2貫通孔は、好ましくは深反応性イオンエッチング技術(Deep reactive−ion etching)またはレーザー穴あけ技術で形成する。基本的に、貫通孔の機能は気体または液体に入れられた試料を入れるために用いられ、且つ試料に必要な気体または液体(酸素、窒素、緩衝液、培養液等)を導入して、試料の動態観測時間を延長するためにも使用することができる。例えば細胞試料の場合、前記貫通孔から前記細胞に必要な酸素及び培養液を導入し、前記細胞試料の生存を延長すると同時に、前記細胞試料の動態変化のその場観察を行うことができる。
本発明の電子顕微鏡用試料ケースはさらに1つ以上の密封栓を含むことができ、第1貫通孔及び第2貫通孔に収容される。前記密封栓の材料は特別な制限がなく、金属、記憶金属、ポリマー、プラスチック、セラミック、アクリル、またはその組み合わせとすることができる。そのうち、前記密封栓の材料は好ましくは、記憶金属、ポリマー、プラスチック、セラミック、またはその組み合わせとし、より好ましくは、記憶金属材料とする。記憶金属の材料は、チタンニッケル合金、銅基合金、銅亜鉛合金、銅アルミニウムマンガン合金、銅アルミニウムニッケル合金、銅アルミニウムベリリウム合金、銅アルミニウムベリリウムジルコニウム合金、銅アルミニウムニッケルベリリウム合金、及びその組み合わせから構成される群から選択することができ、好ましくはチタンニッケル合金、銅亜鉛合金、銅アルミニウムニッケル合金、及びその組み合わせから構成される群とし、より好ましくはチタンニッケル合金とする。このほか、上述の記憶金属材料は熱膨張と冷収縮の記憶特性を備えているため、好ましい材料を密封栓として前記貫通孔を密封すると、本発明の電子顕微鏡用試料ケースにより高い密封度の要求を達成させることができる。
前述の電子顕微鏡用試料ケースのうち、第1薄膜及び第2薄膜の材料はそれぞれ二酸化ケイ素(SiO2)、窒化ケイ素(Si34)、またはその組み合わせとする。プロセス中のエッチング選択性を高めるために用いることができ、且つ第1基板、第2基板の表面硬度を増強することもできる。このほか、第1薄膜、及び第2薄膜の厚さはそれぞれ1〜100ナノメートルとし、好ましくは5〜80ナノメートルとする。
第1薄膜の外層には、一層の第1保護層を設置することができ、同様に、第2薄膜の外層にも一層の第2保護層を設置することができる。第1保護層及び第2保護層の材料は、好ましくは窒化ケイ素(Si34)とする。窒化ケイ素(Si34)材料は比較的硬い特性を備えているため、第1薄膜及び第2薄膜の破裂を防止するために用いることができ、またさらにプロセス中のエッチング選択性をより一層高めることもできる。
前述の本発明の第1基板及び第2基板のうち、第1基板及び第2基板はそれぞれシリコン基板、ガラス基板、またはポリマー基板とし、好ましくはシリコン基板とする。このほか、第1基板及び第2基板の厚さは10〜1000ミクロンの間とし、好ましくは100〜250ミクロンの間とする。
上述をまとめると、本発明の電子顕微鏡用試料ケースは、試料を試料ケースに入れる前に、予め光電素子を第3陥凹部、第4陥凹部中に設置するか、或いは光電素子を第3陥凹部及び第4陥凹部中に設置して、Oリングまたはシーラント、高分子シーラント、或いはハンダ等で、好ましくはハンダで、光電素子の固定を行い、且つ第3陥凹部及び(または)第4陥凹部を密封した後、金属粘着層で第1基板及び第2基板を接着する。このほか、本発明の試料ケースの使用時は、1つ以上の第1貫通孔、1つ以上の第2貫通孔を備えており、試料を試料ケースの第1貫通孔、第2貫通孔から入れた後、密封栓で第1貫通孔、第2貫通孔を密封し、本発明の試料ケースは最後には完全な密封状態となり、電子顕微鏡において、光、電気の刺激がある状況下で、試料の動態観測を行うのに便利である。そのうち、本発明の密封栓は第1貫通孔、第2貫通孔を繰り返し開くことができるため、第1貫通孔、第2貫通孔から再度気体または液体(酸素や緩衝液など)を導入し、試料の動態観測時間を延長することができる。
また、本発明の電子顕微鏡用試料ケースは構造及び製作上、従来の試料ケースより簡単であり、且つ本発明で選択される材料及び製作方法も当該技術分野において容易に取得でき、容易に理解できるものである。このため、上述したように、本発明は気体または液体に入れられた試料に対して電子顕微鏡による光、電気の刺激下で、試料の動態変化のその場観測、及び試料の観測時間の延長を可能にすると共に、簡単な試料ケースの構造で、従来の電子顕微鏡用試料ケースの密封度の問題を改善することができる。
本発明の上述目的、特徴、利点をよりはっきりと分かりやすくするため、以下実施例を挙げ、図面を組み合わせて詳細に説明する。
本発明の実施例1の電子顕微鏡用試料ケースの立体図である。 本発明の電子顕微鏡用試料ケースの光電素子の局部立体断面図である。 本発明の実施例1の電子顕微鏡用試料ケースの断面図である。 本発明の実施例2の電子顕微鏡用試料ケースの断面図である。 本発明の実施例3の電子顕微鏡用試料ケースの断面図である。
以下、具体的な実施例と図面を組み合わせ、より詳細に本発明の実施方式を説明する。
まず、図1、図2、図3を参照する。図1は本実施例の電子顕微鏡用試料ケースの立体図であり、図2は電子顕微鏡用試料ケースの光電素子の局部立体断面図であり、図3は図1の本実施例の電子顕微鏡用試料ケースの立体図におけるA−A'断面線に沿った断面図である。図1と図3に示すように、本発明の電子顕微鏡用試料ケースは、第1基板11、第2基板12、金属粘着層13、1つ以上の光電素子16を含む。そのうち、本実施例の第1基板11及び第2基板12は(001)シリコン基板であり、且つ第1基板11の厚さは250ミクロンで、第2基板12の厚さは250ミクロンである。
より詳細に説明すると、前記第1基板11は第1表面111、第2表面112、第1陥凹部113、及び2つの第1貫通孔114を備えている。そのうち、第1陥凹部113は第2表面112に設置され、且つ第1表面111上に第1陥凹部113に対応する第1薄膜115が設けられる。このほか、上述の第1貫通孔114は前記第1陥凹部113の外囲に設置され、前記第1基板11を貫通する。
上述の第2基板12は第3表面121、第4表面122、及び第2陥凹部123を備えている。そのうち、第2陥凹部123は第4表面122に設置され、且つ第3表面121上に第2陥凹部123に対応する第2薄膜125が別途設けられる。
このほか、上述の金属粘着層13は第1基板11の第2表面112と、第2基板12の第4表面122の間に設置される。そのうち、第2表面112、第4表面122、及び金属粘着層13の間に囲まれて空間(図示しない)が形成され、気体または液体に入れられた試料をこの空間(図示しない)に収容することができる。本実施例において、試料の種類に特別な制限はなく、気体または液体に入れられた試料で、電子顕微鏡での観察の要求に適合していれば、いずれも本実施例に適用することができる。
また、図1、図2、図3に示すように、本実施例の第2基板12の第2表面122はさらに<110>の方向に沿って、フォトリソグラフィプロセスで、さらに水酸化カリウムのウェットエッチングプロセスで、4つのV字形で第2表面122の対角線の位置にある第4陥凹部127がエッチングされる(図2参照)。そのうち、各第4陥凹部127内には光電素子16がそれぞれ設置され、光電素子16の作用端161を試料の空間(図示しない)と接触させ、試料に対して光、電気の刺激及び観測を行うことができる。
また、本実施例はフォトリソグラフィ及びウェットエッチングの方法で、第2表面112に上述の第1陥凹部113を形成し、且つ第4表面122上に上述の第2陥凹部123を形成する。第1陥凹部113及び第2陥凹部123の形体はいずれも錐体である。
このほか、本実施例の第1貫通孔114は、深反応性イオンエッチング技術(Deep Reactive Ion Etching)で形成される。第1貫通孔114は第1薄膜115を貫通し、さらに第1基板11を貫通して設けられる。本実施例の第1貫通孔114の孔径は250ミクロンである。
前記第1貫通孔114の機能は、観測したい試料をこの貫通孔から空間(図示しない)内に入れることができ、且つ第1貫通孔114から必要な気体(酸素や窒素等)または液体(緩衝液、酸、アルカリ溶液等)を導入して、観測したい試料をさらに動態観察することもできる。
上述の第1薄膜115及び第2薄膜125の材料は、本実施例において、二酸化ケイ素(SiO2)である。その機能は、第1基板11及び第2基板12の硬度と強度を向上し、基板を破損しにくくすると共に、本実施例のエッチング過程におけるエッチング選択性を高めることができる。
本実施例の光電素子16は、先にはんだ付けで光電素子16が第4陥凹部127内に固定かつ密封され、光電素子16の作用端161を前記空間(図示しない)と接触させる。このほか、作用端161に相対する他端は、試料ケースの外に延伸され、光源または電源に接続される。本実施例の光電素子16は光ファイバ、電極、或いは光ファイバと電極である。
このほか、上述の本実施例の金属粘着層13は、接着層、冶金層、はんだ付け層より形成され、そのうち接着層はチタンタングステン合金であり、冶金層は銅である。このため、本実施例においては、先に150℃の高温下で、自動アライメントパッケージ法を利用し、金属粘着層13で第1基板11及び第2基板12の接着を行ってから、試料を試料ケースの空間(図示しない)内に入れる。
本実施例において、金属粘着層13、第2表面112、及び第4表面122間に形成される空間(図示しない)は、電子顕微鏡の電子線を、第1基板11の第1陥凹部113に沿って空間(図示しない)まで穿通させ、さらに第2基板12の第2陥凹部123まで穿通させることができる。そのうち、前記空間14の体積は4立方ミリメートルであり、空間14の高さは550ミクロンである。さらに、本実施例においては、前記基板の硬度と強度及びエッチング過程のエッチング選択性を高めるため、第1薄膜115の外層に別途第1保護層116が設けられ、且つ第2薄膜125の外層に別途第2保護層126が設けられる。そのうち、第1保護層116及び第2保護層126の材料は、比較的高い強度と硬度を備えた窒化ケイ素(Si34)とする。
最後に、本実施例は2つの密封栓15を備え、第1貫通孔114を密封し、完全に密封された電子顕微鏡用試料ケースを形成することができる。このほか、密封栓15は第1貫通孔114から抜くことができるため、試料ケースは観察のニーズに基づいて繰り返し開けたり密封したりすることができる。本実施例の密封栓15は、記憶金属のチタンニッケル合金を材料とし、密封栓15を氷点温度下に一定時間置いて、チタンニッケル合金の温度を氷点以下に下げてから、取り出して室温中の試料ケースの第1貫通孔114内に挿入する。このとき、チタンニッケル合金の温度が徐々に室温まで上がり、密封栓15が膨張して第1貫通孔114を密封し、試料ケースが完全に密封される。
細胞試料の観察を例として本実施例の使用方式を説明する。細胞試料を第1貫通孔114から空間14内に入れた後、室温に置き、さらに氷点温度下に置いたチタンニッケル合金の密封栓15を取り出して、第1貫通孔114を塞ぎ、密封栓15で第1貫通孔114を密封し、このとき本実施例の試料ケースは完全な密封の状態となる。続いて、完全に密封された試料ケースを電子顕微鏡に置き、光、電気、または光と電気の同時刺激で試料を刺激して、細胞の光、電気に対する反応の動態状態をその場観察する。その後、観察のニーズに応じ、密封栓15を利用して第1貫通孔114を繰り返し開け、必要な酸素や培養液を入れて、さらに細胞試料の動態状態を観測することができる。
図4に本発明の実施例2の電子顕微鏡用試料ケースの断面図を示す。本実施例と実施例1はほぼ同じであり、異なるのは、金属粘着層13が第2表面112と第2保護層126の間に設置され、且つ第1基板11の第2表面112上に、ドライエッチングプロセスで4つの第3陥凹部117がエッチングされ、1つ以上の光電素子16がその内部に設置される点である。そのうち、本実施例の光電素子16は、光ファイバ、電極、またはその組み合わせである。
このほか、本実施例の空間(図示しない)の体積は、2立方ミリメートルであり、空間14の高さは550ミクロンであり、本実施例の空間(図示しない)の体積は実施例1の空間(図示しない)の体積よりも小さい。本実施例の試料ケースに入れることができる試料の体積は実施例1より小さいが、本実施例の分解能は実施例1より優れている。このため、観察したい試料の体積の大きさ、或いは必要な電子顕微鏡の分解能の大きさに基づいて、異なる空間(図示しない)体積の電子顕微鏡用試料ケースを選択することができる。
図5に本発明の実施例3の電子顕微鏡用試料ケースの断面図を示す。本実施例と実施例1はほぼ同じであり、異なるのは、本実施例の第1薄膜115、第1保護層116、第2薄膜125、及び第2保護層126が、前記第1陥凹部113及び第2陥凹部123の底部のみを覆っている点であり、これにより第1陥凹部113及び第2陥凹部123の構造強度を高め、陥凹部が破裂して試料が漏れ出ることがないよう防止すると共に、エッチングの選択性を高めることもできる。
また、第2基板12の第2表面122上に、ウェットエッチングプロセスで1つの第4陥凹部127をエッチングし、1つの光電素子16を収容する。そのうち、この光電素子16は光ファイバ、または電極である。
このほか、本実施例は深反応性イオンエッチング技術(Deep Reactive Ion Etcher)で、部分的に上述の薄膜に覆われていない第1表面111及び第3表面121上に、2つの第1貫通孔114及び2つの第2貫通孔124が形成される。そのうち、第1貫通孔114及び第2貫通孔124は、第1表面111及び第3表面121のみを貫通して設けられ、孔径が250ミクロンの第1貫通孔114と、孔径が250ミクロンの第2貫通孔124が形成される。最後に、本実施例はいずれもチタンニッケル合金の密封栓15で、第1貫通孔114及び第2貫通孔124が密封される。
上述の実施例は説明しやすくするために例を挙げたのみであり、本発明の主張する権利範囲は、特許請求の範囲の記載に準じ、上述の実施例のみに限定されない。
11 第1基板
111 第1表面
112 第2表面
113 第1陥凹部
114 第1貫通孔
115 第1薄膜
116 第1保護層
117 第3陥凹部
12 第2基板
121 第3表面
122 第4表面
123 第2陥凹部
124 第2貫通孔
125 第2薄膜
126 第2保護層
127 第4陥凹部
13 金属粘着層
15 密封栓
16 光電素子
161 作用端

Claims (21)

  1. 電子顕微鏡用試料ケースであって、第1基板、第2基板、金属粘着層、1つ以上の光電素子を含み、
    前記第1基板が、第1表面、第2表面、第1陥凹部、及び1つ以上の第1貫通孔を備え、そのうち前記第1陥凹部が前記第2表面に設けられ、前記第1表面上に前記第1陥凹部に対応する第1薄膜が設置され、且つ前記1つ以上の第1貫通孔が前記第1陥凹部の外囲に設けられ、かつ前記第1基板を貫通し、
    前記第2基板が、第3表面、第4表面、及び第2陥凹部を備え、そのうち前記第2陥凹部が前記第4表面に設けられ、前記第3表面上に前記第2陥凹部に対応する第2薄膜が設置され、
    前記金属粘着層が、前記第1基板と前記第2基板の間に設置され、
    前記1つ以上の光電素子が、1つ以上の作用端を備え、前記光電素子が前記第1基板と前記第2基板の間に設置され、
    そのうち、前記第1基板、前記第2基板、及び前記金属粘着層間に空間が形成され、且つ前記光電素子の前記作用端が前記空間に設置されることを特徴とする、電子顕微鏡用試料ケース。
  2. 前記第1貫通孔が、前記第1薄膜を貫通することを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  3. 前記金属粘着層が、前記第2表面と前記第4表面の間に設置されたことを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  4. 前記金属粘着層が、前記第2表面と前記第2薄膜の間に設置されたことを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  5. 1つ以上の前記光電素子が、それぞれ光ファイバ、または電極であることを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  6. 前記第2基板がさらに1つ以上の第2貫通孔を含み、そのうち前記第2貫通孔が前記第2陥凹部の外囲に設置され、かつ前記第2基板を貫通することを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  7. 前記第1貫通孔の孔径が10〜1000ミクロンであることを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  8. 前記第2貫通孔の孔径が10〜1000ミクロンであることを特徴とする、請求項6に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  9. さらに前記第1貫通孔内に設置される1つ以上の密封栓を含むことを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  10. さらに前記第2貫通孔内に設置される1つ以上の密封栓を含むことを特徴とする、請求項6に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  11. 前記第1薄膜及び前記第2薄膜の材料が、それぞれ二酸化ケイ素(SiO2)、窒化ケイ素(Si34)、またはその組み合わせであることを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  12. 前記第1薄膜、前記第2薄膜の厚さが1〜100ナノメートルであることを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  13. 前記第1薄膜の外層に第1保護層が設けられたことを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  14. 前記第1保護層の材料が窒化ケイ素(Si34)であることを特徴とする、請求項13に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  15. 前記第2薄膜の外層に第2保護層が設けられたことを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  16. 前記第2保護層の材料が窒化ケイ素(Si34)であることを特徴とする、請求項15に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  17. 前記第1基板及び第2基板が、それぞれシリコン基板、ガラス基板、またはポリマー基板であることを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  18. 前記第1基板及び前記第2基板の厚さが10〜1000ミクロンの間であることを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  19. 前記金属粘着層が金属材料であり、そのうち前記金属材料が、チタン、チタンタングステン合金、クロム、ニッケル、錫、インジウム、ビスマス、銅、銀、ニッケル、亜鉛、金、またはその組み合わせから構成される群から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  20. 前記密封栓の材料が、チタンニッケル合金、銅基合金、銅亜鉛合金、銅アルミニウムマンガン合金、銅アルミニウムニッケル合金、銅アルミニウムベリリウム合金、銅アルミニウムベリリウムジルコニウム合金、銅アルミニウムニッケルベリリウム合金及びその組み合わせから構成される群から選択されることを特徴とする、請求項9に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
  21. 前記第1基板、前記第2基板、前記金属粘着層が形成する前記空間の体積が0.01〜100立方ミリメートルであることを特徴とする、請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ケース。
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