JP2013004851A5 - レーザー装置 - Google Patents

Description

本発明は、レーザー装置に関するものである。

本発明は以下の構成を採用する。すなわち、
レーザー媒質と、
前記レーザー媒質を励起させるために前記レーザー媒質に励起光を照射する励起手段と、
前記レーザー媒質を挟むミラーを含む共振器と、
前記共振器の外に配置され、前記共振器から射出されたレーザー光を第一の光と第二の光とに分岐させるビームスプリッターと、
前記ビームスプリッターにより分岐された前記第一の光を検出する光検出器と、
前記ビームスプリッターにより分岐された前記第二の光を遮光できるように構成された遮光手段と、
照射状態と、前記遮光手段により前記第二の光が前記照射状態よりも遮光される遮光状態とを切り替える制御手段と、
を有し、
前記励起手段は、前記励起手段の消耗が前記照射状態よりも軽減するような設定値の制御に基づいて前記励起光を前記レーザー媒質に照射し、
前記制御手段は、前記光検出器の出力に基づいて前記設定値を設定する
をことを特徴とするレーザー装置である。

Claims (12)

1. レーザー媒質と、
   前記レーザー媒質を励起させるために前記レーザー媒質に励起光を照射する励起手段と、
   前記レーザー媒質を挟むミラーを含む共振器と、
   前記共振器の外に配置され、前記共振器から射出されたレーザー光を第一の光と第二の光とに分岐させるビームスプリッターと、
   前記ビームスプリッターにより分岐された前記第一の光を検出する光検出器と、
   前記ビームスプリッターにより分岐された前記第二の光を遮光できるように構成された遮光手段と、
   照射状態と、前記遮光手段により前記第二の光が前記照射状態よりも遮光される遮光状態とを切り替える制御手段と、
   を有し、
   前記励起手段は、前記励起手段の消耗が前記照射状態よりも軽減するような設定値の制御に基づいて前記励起光を前記レーザー媒質に照射し、
   前記制御手段は、前記光検出器の出力に基づいて前記設定値を設定する
   をことを特徴とするレーザー装置。
2. 前記励起手段は、前記遮光状態において、前記励起手段の消耗が前記照射状態よりも軽減するような設定値で駆動され、前記励起光を前記レーザー媒質に照射し、
   前記制御手段は、前記遮光状態において、前記光検出器の出力に基づいて前記設定値を制御する
   ことを特徴とする請求項１に記載のレーザー装置。
3. 前記制御手段は、前記光検出器の出力が所定の範囲内となるように前記設定値を制御する
   ことを特徴とする請求項１または２に記載のレーザー装置。
4. 前記制御手段は、前記光検出器の出力が所定の下限値以上となるように前記設定値を制御する
   ことを特徴とする請求項３に記載のレーザー装置。
5. 前記制御手段は、前記光検出器の出力が所定の上限値以下となるように前記設定値を制御する
   ことを特徴とする請求項３に記載のレーザー装置。
6. 前記設定値は、前記励起手段の発光の繰り返し周波数、前記励起手段への励起電流値、および前記励起手段へのシマー電流値の少なくとも１つである
   ことを特徴とする請求項１から５に記載のレーザー装置。
7. 前記制御手段は、前記光検出器の出力が所定の下限値以下であるときに前記繰り返し周波数、前記励起電流値、および前記シマー電流値の少なくとも１つを大きくする
   ことを特徴とする請求項６に記載のレーザー装置。
8. 前記所定の下限値は、所定の期間内に前記照射状態に達することのできる値である
   ことを特徴とする請求項４または７に記載のレーザー装置。
9. 前記所定の期間は５秒以下である
   ことを特徴とする請求項８に記載のレーザー装置。
10. 前記制御手段は、前記光検出器の出力が所定の上限値以上であるときに前記繰り返し周波数、前記励起電流値、および前記シマー電流値の少なくとも１つを小さくする
    ことを特徴とする請求項６に記載のレーザー装置。
11. 前記所定の上限値は、前記照射状態における前記励起手段に設定される設定値である
    ことを特徴とする請求項５または１０に記載のレーザー装置。
12. 請求項１から１１のいずれか１項に記載のレーザー装置と、
    前記レーザー装置から射出された前記第二のレーザー光の照射により発生した光音響信号を検出するプローブと、
    を有することを特徴とする光音響測定装置。