JP2012529765A - プラズマ付着により成長させた基材構造 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図6a
Description
このようにして形成した成分(基材上の薄皮膜)は、さまざまな用途、例えば、半導体加工、光学的コーティング、プラズマエッチング、パターニング、マイクロマシニング、研磨、トライボロジーなどに、施用することができる。
この概念は普遍性として知られる。普遍性理論によると、成長指数βと粗さ指数αには、表面緩和メカニズムに応じた厳密な関係がある。これら関連する値は、いわゆる普遍性クラスを形成する。
さらなる観点において、上記序文に記載したとおりの方法であって、成長指数βが0.2未満の値を有し、動的指数zが6を超える値を有する方法を提供する。さらなる態様において、該方法はさらに、基材構造であって、さまざまなスケーリング成分α、βおよびzが、基材構造のさまざまな態様に関連して上記した範囲の値を有するものをもたらすように、アレンジされている。
さらなる態様において、プラズマは、最大100%のデューティーサイクルを有する交流電源を用いて発生させる大気圧グロー放電プラズマである。そのような電源により、非常に均一で安定なプラズマを生じさせることが可能になり、非常に効率的な層の付着が得られる。
さらに他の観点において、本発明は、基材付着装置であって、
少なくとも2つの電極の間に形成される処理空間、
該少なくとも2つの電極に接続されている電源、ここにおいて、該電源は、処理空間においてプラズマを発生させるように配置されている、
処理空間にガス混合物を提供するためのガス供給源、
を含む前記装置に関し、
ここにおいて、該表面付着装置は、上記方法態様のいずれか一つに従った方法を実行するように配置されている。
本発明の態様は、基材フィルム6上での層付着法であって、基材付着装置10の処理空間において大気圧グロー放電プラズマを用いて基材6上に薄皮膜層6aを付着させて、図1の横断面に示すような基材構造7を得る方法に関する。さらに、この方法を用いて得られる基材構造7(層または薄皮膜を備える基材)は、基材構造7の特有の表面特性により特徴づけられる。これら特有の表面特性により、基材構造7は、いくつかの半製品の生産に非常に適したものになる。例えば、ポリマーフィルムを基材6として用いることができ、その上にSiO2の層6aを付着させて、基材構造7を、改善された透湿度(WVTR)または酸素透過度(OTR)などの特有の特徴を有するフォイルまたはフィルムの形で得ることができる。その後、これらの半製品を、液晶ディスプレー画面、光電池などの製造に用いることができる。
図3に、代表的表面側面の略図を、関連するパラメータλ(表面ピークの波長)、ξ(ピークの横方向の相関長)およびw(界面の幅)とともに示す。
皮膜厚tの関数としてのRMS粗さw(t)の解析は、皮膜厚tの関数としての表面粗さの成長がないことを示している。RMS粗さw(t)と皮膜厚tをlog−logプロットとしてプロットすることにより、適合度の勾配は直接的に成長指数βをもたらす。図4に示すプロットでわかるように、代表的な基材構造7(処理空間5においてHMDSOおよび21%の酸素濃度を用いたAPS−PEN上での付着の場合)では、成長指数βは約ゼロ(β=0)である。これは、基材構造7の薄層6aの厚さtが増大したときに、表面粗さが増大しないことを意味する。このことはさまざまな用途で利用することができ、表面粗さをほぼ同じに保ちつつ、基材構造7の薄層6aの厚さを変動させて他の要件を満たすことができる。例えば、バリヤーの機能により最小または最大厚さに対する要件が課せられうるバリヤー基材を、基材構造7のような形で製造することができる。あるいは、選択率の高い膜として働く基材構造7をもたらすことができ、これに関しても、全体的厚さに関し要件が存在することができる。
2 電極
3 電極
4 プラズマ制御ユニット
5 処理空間
6 基材
6a 薄皮膜層
7 基材構造
8 ガス供給機器
10 基材付着装置
11 突起
Claims (15)
- 基材(6)およびプラズマ成長層(6a)を含む基材構造であって、得られる基材構造(7)の表面が、相関するスケーリング成分により特徴づけられ、該スケーリング成分が、粗さ指数α、成長指数βおよび動的指数zを含み、該成長指数βが0.2未満の値を有し、該動的指数zが6を超える値を有する、前記基材構造。
- 動的指数zが約9の値を有する、請求項1に記載の基材構造。
- 粗さ指数αが約0.9の値を有する、請求項1または2に記載の基材構造。
- 成長指数βが0.1以下の値を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基材構造。
- 基材(6)が、第1の高さh1を有する突起(11)をその表面上に備えており、層(6a)を、第1の高さh1より小さい厚さtまで成長させる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基材構造。
- 基材(6)が、第1の高さh1を有する突起(11)をその表面上に備えており、層(6a)を、第1の高さh1より大きい厚さtまで成長させる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基材構造。
- 突起(11)がパターンを含む、請求項5または6に記載の基材構造。
- 処理空間(5)に基材(6)を提供し、処理空間(5)にガス混合物を提供し、処理空間(5)でプラズマを施用して、基材(6)の表面上に材料の層(6a)を付着させることを含む、基材構造(7)の生産方法であって、得られる基材構造(7)の表面が、相関するスケーリング成分により特徴づけられ、該スケーリング成分が、粗さ指数α、成長指数βおよび動的指数zを含み、該成長指数βが0.2未満の値を有し、該動的指数zが6を超える値を有する、前記生産方法。
- 動的指数zが約9の値を有する、請求項8に記載の方法。
- 粗さ指数αが約0.9の値を有する、請求項8または9に記載の方法。
- 成長指数βが0.1未満の値を有する、請求項8〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 基材(6)が、第1の高さh1を有する突起(11)をその表面上に備えている、請求項8〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 層の厚さ(6a)を、処理空間(5)に存在する可能性がある粒子の最大サイズに適応させる、請求項8〜12のいずれか一項に記載の方法。
- プラズマが、最大100%のデューティーサイクルを有する交流電源(4)を用いて発生させる大気圧グロー放電プラズマである、請求項8〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 以下を含む基材付着装置:
少なくとも2つの電極(2、3)の間に形成されるの処理空間(5)、
該少なくとも2つの電極(2、3)に接続されている電源(4)、ここにおいて、該電源は、処理空間(5)においてプラズマを発生させるように配置されている、
処理空間(5)にガス混合物を提供するためのガス供給源(8)、
ここにおいて、該表面付着装置(10)は、請求項8〜14のいずれか一項に記載の方法を実行するように配置されている。
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