JP2012529765A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 基材およびプラズマ成長層を含む基材構造であって、得られる基材構造の表面が、相関するスケーリング成分により特徴づけられ、該スケーリング成分が、粗さ指数α、成長指数βおよび動的指数ｚを含み、該成長指数βが０．２未満の値を有し、該動的指数ｚが６を超える値を有する、前記基材構造。
2. 動的指数ｚが約９の値を有するか、粗さ指数αが約０．９の値を有するか、または、成長指数βが０．１以下の値を有する、請求項１に記載の基材構造。
3. 基材が、第１の高さｈ_１を有する突起をその表面上に備えており、層を、第１の高さｈ_１より小さいかまたは大きい厚さｔまで成長させる、請求項１または２に記載の基材構造。
4. 処理空間に基材を提供し、処理空間にガス混合物を提供し、処理空間でプラズマを施用して、基材の表面上に材料の層を付着させることを含む、基材構造の生産方法であって、得られる基材構造の表面が、相関するスケーリング成分により特徴づけられ、該スケーリング成分が、粗さ指数α、成長指数βおよび動的指数ｚを含み、該成長指数βが０．２未満の値を有し、該動的指数ｚが６を超える値を有する、前記生産方法。
5. 動的指数ｚが約９の値を有するか、粗さ指数αが約０．９の値を有するか、または、成長指数βが０．１以下の値を有する、請求項４に記載の方法。
6. 基材が、第１の高さｈ_１を有する突起をその表面上に備えている、請求項４または５に記載の方法。
7. プラズマが、最大１００％のデューティーサイクルを有する交流電源を用いて発生させる大気圧グロー放電プラズマである、請求項４〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 以下を含む基材付着装置：
   少なくとも２つの電極の間に形成される処理空間、
   該少なくとも２つの電極に接続されている電源、ここにおいて、該電源は、処理空間においてプラズマを発生させるように配置されている、
   処理空間にガス混合物を提供するためのガス供給源、
   ここにおいて、該表面付着装置は、請求項４〜７のいずれか一項に記載の方法を実行するように配置されている。