JP2012519480A - 卵含有食品を低温殺菌する方法及びその為のプラント - Google Patents
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Abstract
−製品を50℃以上の第1の作業温度(T1)まで加熱する為の加熱区域(3)と、
−製品を前記第1の作業温度(T1)以上の第2の作業温度(T2)まで過熱する為の過熱区域(4)と、
−前記過熱区域内(4)で高周波電磁場を発生する為の振動手段(18)と、
−入口(2)及び出口(5)、並びに前記加熱区域(3)を過熱区域(4)と接続する少なくとも1つの中間部分(16)を有する、少なくとも1つの導管(6)と、
−中間部分(16)に備えられた少なくとも1つの第1の熱的維持区域(15)と、
−前記導管(6)内で製品を循環させる為の手段(8)と、
から成り、
前記循環手段(8)が、前記過熱区域内(4)で製品を第2の作業速度(V2)で実質的に乱流状態において、0.1〜5秒である最大作業時間(t2)の間、55〜75℃の範囲の第2の作業温度(T2)過熱されるまで、循環させるのに適していることを特徴とするプラント。
【選択図】図1
Description
a)導管の第1の区域内で第1の作業速度の製品を、第1の最大作業時間の間、50℃以上の第1の作業温度まで加熱し、
b)導管の中間部分の第1の熱的維持区域内で第1の維持速度の製品を、第1の所定の維持時間の間、初めて熱的に維持し、
c)導管の第2の区域内で第2の作業速度の製品を、第2の最大作業時間の間、第2の作業温度まで高周波電磁場を加えることにより過熱する、
ステップから成る。
2 1の入口
3 加熱ステーション
4 過熱ステーション
5 1の出口
6 導管
7 タンク
8 循環手段
9 6の第1の部分
10 予熱ステーション
11 回収熱交換器
12 ホモジナイザー
13 熱交換器
14 6の第1の部分
15 第1の熱的維持区域
16 6の中間部分
17 6の第2の部分
18 付与装置
19 電極
20 6の第3の部分
21 第2の熱的維持区域
22 冷却ステーション
23 熱交換器
24 冷却器
25 弁手段
P 超過圧力
S1 熱流
S2 冷却流
Ti 開始保管温度
Tm 中間予熱温度
T1 第1の作業温度
T2 第2の作業温度
T3 T2より低い温度
T4 T3より低い温度
Tf 最終温度
t1 第1の最大作業時間
t2 第2の最大作業時間
ts1 第1の熱的維持時間
ts2 第2の熱的維持時間
tsi 第3の熱的維持時間
V1 第1の作業速度
V2 第2の作業速度
Vs1 第1の維持速度
Vs2 第2の維持速度
Claims (15)
- 卵含有食品を低温殺菌する方法であって、製品が入口(2)及び出口(5)を備えた少なくとも1つの導管(6)を有するプラント(1)内に流体状で導入され、該方法が、下記の一連の作業ステップ:
a)前記導管(6)の第1の区域(14)内で第1の作業速度(V1)の製品を、第1の最大作業時間(t1)の間、50℃以上の第1の作業温度(T1)まで加熱し、
b)前記導管(6)の中間部分(16)の第1の熱的維持区域(15)内で第1の維持速度(Vs1)の製品を、第1の所定の熱的維持時間(ts1)の間、初めて熱的に維持し、
c)前記導管(6)の第2の区域(17)内で第2の作業速度(V2)の製品を、第2の最大作業時間(t2)の間、第2の作業温度(T2)まで高周波電磁場を加えることにより過熱する、
ステップから成り、
前記第2の作業温度(T2)が前記第1の作業温度(T1)よりも高く、前記第2の作業速度(V2)は前記導管(6)の第2の区域(17)内で製品内に相対的に乱流を生じさせるのに適しており、そして、第2の最大作業時間(t2)が0.1〜5秒である、
ことを特徴とする方法。 - 当該第2の最大作業時間(t2)が0.1〜3秒であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記第2の作業温度(T2)が55〜75℃であることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第2の作業速度(V2)が0.5〜10m/秒、好ましくは2〜9m/秒、より好ましくは8m/秒であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の方法。
- 前記過熱ステップc)の後、好ましくは1〜150秒、より好ましくは3〜100秒である第2の熱的維持時間(ts2)の間、製品が前記第2の作業温度(T2)で保持される、第2の熱的維持ステップd)が実施されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の方法。
- 前記第2の熱的維持ステップd)の間、製品は前記導管(6)内を通って、0.3〜5m/秒、好ましくは0.5〜3m/秒、より好ましくは1〜2.1m/秒である第2の維持速度(Vs2)で移動することを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 加圧区域内で製品内の空気含有量を減少することができる超過圧力(P)で、製品が加圧ステップe)にさらされることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載の方法。
- 前記超過圧力(P)が5〜40バールであることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記加圧ステップe)が、前記加熱ステップから下流において前記第2の熱的維持ステップd)の終わりまで、実施されることを特徴とする請求項7又は8に記載の方法。
- 前記過熱ステップc)の間に、第3の所定の熱的維持時間(tsi)の間、中間熱的維持ステップf)が実施されることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1つに記載の方法。
- 前記第3の熱的維持時間(tsi)が実質的に約1秒であることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 製品冷却ステップg)が前記第2の熱的維持ステップd)のすぐ後に実施され、製品予熱ステップh)が前記加熱ステップa)の前に実施されることを特徴とする請求項5〜11のいずれか1つに記載の方法。
- 請求項1〜12のいずれか1つに記載の方法により卵含有食品を低温殺菌する為のプラントであって、該プラントが、
−製品を50℃以上の第1の作業温度(T1)まで加熱する為の加熱区域(3)と、
−製品を前記第1の作業温度(T1)以上の第2の作業温度(T2)まで過熱する為の過熱区域(4)と、
−前記過熱区域内(4)で高周波電磁場を発生する為の振動手段(18)と、
−入口(2)及び出口(5)、並びに前記加熱区域(3)を過熱区域(4)と接続する少なくとも1つの中間部分(16)を有する、少なくとも1つの導管(6)と、
−中間部分(16)に備えられた少なくとも1つの第1の熱的維持区域(15)と、
−前記導管(6)内で製品を循環させる為の手段(8)と、
から成り、
前記循環手段(8)が、前記過熱区域内(4)で製品を第2の作業速度(V2)で実質的に乱流状態において、0.1〜5秒である最大作業時間(t2)の間、55〜75℃の範囲の第2の作業温度(T2)に過熱されるまで、循環させるのに適していることを特徴とするプラント。 - 前記振動手段(18)が、前記導管(6)の第2の部分(17)に高周波電磁場を放射する為の付与装置(19)から成ることを特徴とする請求項13に記載のプラント。
- 少なくとも導管の中間部分を、大気圧よりも高い超過圧力、好ましくは5〜40バールまで加圧する為の弁手段(25)を有することを特徴とする請求項13に記載のプラント。
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