JP2012518787A - 干渉測定システムのための高速位相シフトを行う装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
光ビームの位相シフトを高速に行う方法及び装置について記述する。
【解決手段】
異なる光学的厚さを持った複数の領域を備える透明プレートを、当該領域に延びる入射経路に沿って移動する前記光ビームにより照明する。前記透明プレートを移動させるか、又は前記光ビームを偏向させることにより、入射経路を生成する。前記透明プレートを出射する前記光ビームは、当該光ビームが入射した領域に応じた瞬間位相値を持つ。好ましくは、前記位相値は、再現性があり、対応する領域内における光ビームの入射位置にかかわらず安定しており、かつ、高速な変調速度で位相変化を発生させることができる。本方法及び装置は、干渉縞投影システムなどにおいて、一対のコヒーレント光ビームの位相差を変調するのに用いることができる。
【選択図】図3
Description
a)2つのビーム14が公称の光学的厚さを持つ位置を通過する。
b)一つのビーム14Aは、公称の光学的厚さの位置を通過し、他の一のビーム14Bは、これと異なる光学的厚さを持つ領域を通過する。
c)一つのビーム14Aは、公称値と異なる光学的厚さを持つ領域を通過し、他の一のビーム14Bは、公称の光学的厚さの位置を通過する。
一の実施形態では、ビーム14のうちの一のビームの入射位置に入射するビームが異なる光学的厚さを持つ領域をまたいだとき、ビーム14間の位相差が120°シフトするように、2つのプレート厚さの差が選択される。
1.第1の期間として、半導体レーザ1が起動され、2つの1次光ビームが位相板106の公称厚さ部分を通過して、半導体レーザ1の+1次光ビームと−1次光ビームとの間の相対的な位相差が0°となる期間内に、画像LD1aが取得される。
2.第2の期間として、半導体レーザ2が起動され、2つの1次光ビームが位相板106の公称厚さ部分を通過して、半導体レーザ2の+1次光ビームと−1次光ビームとの間の相対的な位相差が0°となる期間内に、画像LD2aが取得される。
3.第3の期間として、半導体レーザ1が起動され、+1次光ビームが位相板106の厚さが減少した領域110Bを通過し、−1次光ビームが位相板106の公称厚さ部分を通過して、半導体レーザ1の+1次光ビームと−1次光ビームとの間の位相差が−120°となる期間内に、画像LD1bが取得される。
4.第4の期間として、半導体レーザ2が起動され、+1次光ビームが位相板106の厚さが減少した領域110Bを通過し、−1次光ビームが位相板106の公称厚さ部分を通過して、半導体レーザ2の+1次光ビームと−1次光ビームとの間の位相差が−120°となる期間内に、画像LD2bが取得される。
5.第5の期間として、半導体レーザ1が起動され、+1次光ビームが位相板106の公称厚さ部分を通過し、−1次光ビームが位相板106の厚さが減少した領域110Bを通過して、半導体レーザ1の+1次光ビームと−1次光ビームとの間の位相差が+120°となる期間内に、画像LD1cが取得される。
6.第6の期間として、半導体レーザ2が起動され、+1次光ビームが位相板106の公称厚さ部分を通過し、−1次光ビームが位相板106の厚さが減少した領域110Bを通過して、半導体レーザ2の+1次光ビームと−1次光ビームとの間の位相差が+120°となる期間内に、画像LD2cが取得される。
Claims (23)
- 光ビームの位相を変調する方法であって、
異なる光学的厚さを持つ第1の領域と第2の領域とを有する透明プレートを、光ビームにより、第1の領域内にある入射経路の第1のセグメントに沿って照明する工程であって、
透明プレートの第1の領域を通過した後の光ビームは、第1の領域内の光学的厚さにより定まる位相を有し、第1の領域における入射位置とは無関係である工程と、
前記透明プレートを、前記光ビームにより、第2の領域内にある入射経路の第2のセグメントに沿って照明する工程であって、前記入射経路の第1及び第2のセグメントは前記第1及び第2の領域間の遷移部分を横切って連続する一つの経路を構成し、第1及び第2の領域間の切り替え時間は、第1及び第2の各領域における前記光ビームの通過時間より十分に小さく、かつ、前記透明プレートを通過した後の前記光ビームは、第2の領域内の光学的厚さにより定まる位相を有し、第2の領域における入射位置とは無関係である工程と、
を有する方法。 - 前記透明プレートを前記光ビームにより前記入射経路に沿って照明する工程は、前記透明プレートを前記光ビームに対して相対的に移動させる工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記透明プレートを前記光ビームにより前記入射経路に沿って照明する工程は、前記光ビームを偏向させる工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記透明プレートの第1の領域における光学的厚さは、前記透明プレートの第2の領域における光学的厚さと異なっている、請求項1に記載の方法。
- 前記透明プレートの第1の領域における屈折率は、前記透明プレートの第2の領域における屈折率と異なっている、請求項1に記載の方法。
- 光ビームの位相シフトを高速に行う装置であって、
それぞれ異なる光学的厚さを持つ第1の領域と第2の領域とを有する透明プレートと、
第1及び第2の領域の少なくとも一部を通って延伸する連続的な入射位置経路に沿って、前記透明プレートを伝搬する光ビームの入射位置を移動させる相対移動メカニズムであって、第1の領域と第2の領域との間の遷移時間が、各領域における光ビームの通過時間より十分短く、透明プレートを通過した後の光ビームが、対応する光学的厚さで定まる位相を有し、当該位相は対応する領域内における入射位置には依存しない、相対移動メカニズムと、
を有する装置。 - 前記相対移動メカニズムは、前記透明プレートを、当該透明プレートの表面に対して実質的に平行な面内で移動させる、請求項6に記載の装置。
- さらに、前記透明プレートにおける前記光ビームの入射位置を移動させる光ビームディレクタを備える、請求項6に記載の装置。
- 前記光ビームディレクタは音響光学変調器である、請求項8に記載の装置。
- 前記透明プレートの各領域の物理的厚さは、互いに他の領域における物理的厚さと異なっている、請求項6に記載の装置。
- 前記透明プレートの各領域の屈折率は、互いに他の領域の屈折率と異なっている、請求項6に記載の装置。
- 一対のコヒーレント光ビームの位相差を変調する方法であって、当該方法は、
一対のコヒーレント光ビームにより透明プレートを照明する第1の工程であって、
当該透明プレートは第1の光学的厚さを持つ第1の領域と第2の光学的厚さを持つ第2の領域とを有し、
前記コヒーレント光ビームは、それぞれ第1及び第2の領域のうちの一の領域において前記透明プレートに入射し、当該透明プレートを出射する前記一対のコヒーレント光ビームの位相差は第1の値を有する工程と、
一の前記コヒーレント光ビームが、前記第1の工程における前記一のコヒーレント光ビームの対応する領域と異なる領域内において前記透明プレートに入射するように、前記一対のコヒーレント光ビームにより前記透明プレートを照明する第2の工程であって、
前記透明プレートを出射する前記一対のコヒーレント光ビームの位相差は第2の値を有する工程と、
一の前記コヒーレント光ビームが、前記第2の工程における前記一のコヒーレント光ビームの対応する領域と異なる領域内において前記透明プレートに入射するように、前記一対のコヒーレント光ビームにより前記透明プレートを照明する第3の工程であって、
前記透明プレートを出射する前記一対のコヒーレント光ビームの位相差は第3の値を有する工程と、
を含む方法。 - 前記透明プレートを照明する前記第1、第2、及び第3の工程が周期的に繰り返される、請求項12に記載の方法。
- 前記位相差の前記第1、第2、及び第3の値は、−120°、0°、及び+120°である、請求項12に記載の方法。
- 前記透明プレートは、前記第1、第2、及び第3の工程における前記コヒーレント光ビームの入射位置を含む直線経路に沿って移動する、請求項12に記載の方法。
- 前記透明プレートは、前記第1、第2、及び第3の工程における前記コヒーレント光ビームの入射位置を含む円環状経路に沿って移動する、請求項12に記載の方法。
- 前記コヒーレント光ビームは、前記透明プレートの表面上で集束される、請求項12に記載の方法。
- 一対のコヒーレント光ビームの位相差を変調する装置であって、当該装置は
第1の光学的厚さを持つ第1の領域と第2の光学的厚さを持つ第2の領域とを有し、一対のコヒーレント光ビームが入射するように配置された透明プレートと、
前記透明プレートに取り付けられ面方向に移動するように配された循環移動メカニズムであって、
前記コヒーレント光ビームは、それぞれ第1及び第2の領域のうちの一の領域において前記透明プレートに入射し、対応する領域の光学的厚さに応じて位相遅れを生じ、
前記各コヒーレント光ビームの入射位置が前記面方向移動により定まる循環経路を移動して、前記第1及び第2の領域間を遷移することにより、前記コヒーレント光ビーム間の位相差が、前記光学的厚さの差に応じて周期的に変調される、循環移動メカニズムと、
を含む、装置。 - 前記循環移動メカニズムは、直線移動メカニズムにより構成される、請求項18に記載の方法。
- 前記循環移動メカニズムは、軌道変更移動メカニズムにより構成される、請求項18に記載の方法。
- 縞パターンの投影及び画像取得を行うシステムであって、当該システムは、
第1の光学的厚さを持つ第1の領域と第2の光学的厚さを持つ第2の領域とを有し、一対のコヒーレント光ビームが入射するように配置された透明プレートと、
前記透明プレートに取り付けられ面方向に移動するように配された循環移動メカニズムであって、前記コヒーレント光ビームは、それぞれ第1及び第2の領域のうちの一の領域において前記透明プレートに入射し、対応する領域の光学的厚さに応じて位相遅れを生じ、
前記各コヒーレント光ビームの入射位置が前記面方向移動により定まる循環経路を移動して、前記第1及び第2の領域間を遷移することにより、前記コヒーレント光ビーム間の位相差が、前記光学的厚さの差に応じて周期的に変調される、循環移動メカニズムと、
前記位相板を出射したコヒーレント光ビームにより照明されて表面上に生成される縞パターンの画像を、当該コヒーレント光ビームの複数の位相差値において取得するよう構成された撮像装置と、
前記循環移動メカニズム及び前記撮像装置と電気通信を行って、各位相差値についての縞パターンの画像取得動作を同期させる制御モジュールと、
を含むシステム。 - 前記第2の領域は2つの個別の矩形領域を含み、当該各矩形領域は第2の光学的厚さを有し、前記面方向の移動は双方向直線移動を含む、請求項21に記載の縞パターンの投影及び画像取得を行うシステム。
- 前記第2の領域は2つの個別のパイ形状領域を含み、当該各パイ形状領域は第2の光学的厚さを有し、前記面方向の移動は軌道移動を含む、請求項21に記載の縞パターンの投影及び画像取得を行うシステム。
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