JP2012511635A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012511635A5
JP2012511635A5 JP2011540782A JP2011540782A JP2012511635A5 JP 2012511635 A5 JP2012511635 A5 JP 2012511635A5 JP 2011540782 A JP2011540782 A JP 2011540782A JP 2011540782 A JP2011540782 A JP 2011540782A JP 2012511635 A5 JP2012511635 A5 JP 2012511635A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
forming
perfluoropolyether
functionalized region
substrate
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011540782A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012511635A (ja
JP5864259B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/US2009/066358 external-priority patent/WO2010068535A1/en
Publication of JP2012511635A publication Critical patent/JP2012511635A/ja
Publication of JP2012511635A5 publication Critical patent/JP2012511635A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5864259B2 publication Critical patent/JP5864259B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本出願では、以下の態様が提供される。
1. (a)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を提供する工程と、(b)ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、少なくとも1つの官能基形成性分子を含む少なくとも1つのパターン形成性組成物を提供する工程と、(c)前記パターン形成性組成物を前記基材の前記主表面に、前記主表面の少なくとも1つの官能基化領域及び少なくとも1つの非官能基化領域を形成するような仕方で塗布する工程と、(d)前記非官能基化領域の少なくとも一部をエッチングする工程と、を含む、方法。
2. 前記基材が少なくとも1種の無機材料を含む、態様1に記載の方法。
3. 前記基材が少なくとも1種の元素金属、少なくとも1種の金属合金、少なくとも1種の金属含有化合物、又はこれらの組み合わせを含む、態様1に記載の方法。
4. 前記基材が少なくとも1種の元素金属を含む、態様1に記載の方法。
5. 前記基材が金を含む、態様1に記載の方法。
6. 前記ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、一価又は二価である、少なくとも1つのペルフルオロポリエーテルセグメントを含む、態様1に記載の方法。
7. 前記ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、少なくとも1つの二価のヘキサフルオロプロピレンオキシ基を含む、少なくとも1つのペルフルオロポリエーテルセグメントを含む、態様1に記載の方法。
8. 前記ペルフルオロポリエーテルセグメントは、aが4〜20の平均値を有する、F[CF(CF )CF O] CF(CF )−、及びb+cが4〜15の平均値を有する、−CF(CF )(OCF CF(CF OCF CF CF CF O(CF(CF )CF O) CF(CF )−から選択される、態様7に記載の方法。
9. 前記ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、ペルフルオロポリエーテルチオール化合物、ペルフルオロポリエーテルジスルフィド化合物、ペルフルオロポリエーテルキサンテート化合物、ペルフルオロポリエーテルスルフィド化合物、及びこれらの組み合わせから選択される、態様1に記載の方法。
10. 前記ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、以下の一般式(I):
−[Q−(SH) (I)
により表される、ペルフルオロポリエーテルチオール化合物の類の一つであり、式中、R は一価又は二価のペルフルオロポリエーテル基であり、Qは二価、三価、又は四価の有機連結基であり、xは1〜3の整数であり、yは1又は2の整数である、態様1に記載の方法。
11. 前記官能基形成性分子がアミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、態様1に記載の方法。
12. 前記官能基形成性分子が、少なくとも2つのカルボニルイミノ部分を含むか、又は少なくとも1つのカルボニルイミノ部分及び少なくとも1つのカルボニルオキシ部分を含む、アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、態様1に記載の方法。
13. 前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、ペルフルオロポリエーテルセグメント、少なくとも1つのメルカプト基、及び少なくとも1つの介在型二価カルボニルイミノ部分を含む、アミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物である、態様11に記載の方法。
14. 前記カルボニルイミノ部分が、−C(=O)−NH−である、態様13に記載の方法。
15. 前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物が、以下の一般式(II):
−[C(=O)−N(R)−Q−(SH) (II)
により表される類の一つであり、式中、R は一価又は二価のペルフルオロポリエーテル基であり、Rは水素又はアルキルであり、Qは二価、三価、又は四価の有機連結基であり、xは1〜3の整数であり、yは1又は2の整数である、態様13に記載の方法。
16. 前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物が、以下の一般式(III):
’−(O[CF(CF )CF O] CF(CF )−[C(=O)−N(R)−Q−(SH) ]) (III)
により表される類の一つであり、式中、Rf’は、線状又は分岐のペルフルオロアルキル又はペルフルオロアルキレン基であり、aは4〜20の平均値を有し、Rは水素又はアルキルであり、Qは二価、三価、又は四価の有機連結基であり、xは1〜3の整数であり、yは1又は2の整数である、態様13に記載の方法。
17. 前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物が、
F[CF(CF )CF O] CF(CF )−C(=O)−NH−(CH −N(CH )C(=O)−(CH −SH、
F[CF(CF )CF O] CF(CF )−C(=O)−NH−(CH SH、
HS−(CH −NH−C(=O)−CF(CF )(OCF CF(CF −OCF CF CF CF O(CF(CF )CF O) −CF(CF )−C(=O)−NH−(CH SH
HS−(CH −C(=O)−NH−(CH −NH−C(=O)−CF(CF )(OCF CF(CF −OCF CF CF CF O(CF(CF )CF O) −CF(CF )−C(=O)−NH−(CH −NHC(=O)−(CH −SH、
F[CF(CF )CF O] CF(CF )−C(=O)NH−CH CH −O−C(=O)−CH CH SH、
F[CF(CF )CF O] CF(CF )−C(=O)NH−(CH CH −O) −C(=O)−CH CH SH、
HS−(CH −C(=O)−N(CH )−(CH −NH−C(=O)−CF(CF )(OCF CF(CF −OCF CF CF CF O(CF(CF )CF O) −CF(CF )−C(=O)−NH−(CH −N(CH )C(=O)−(CH −SH、
及びこれらの組み合わせから選択され、式中、aは約4〜約20の平均値を有し、b+cは約4〜約15の平均値を有する、態様13に記載の方法。
18. 前記パターン形成性組成物が印刷により塗布される、態様1に記載の方法。
19. 前記パターン形成性組成物がマイクロコンタクトプリンティングにより塗布される、態様1に記載の方法。
20. 前記官能基化領域が前記官能基形成性分子の自己組織化モノレイヤー(SAM)を含む、態様1に記載の方法。
21. 前記エッチングが化学エッチングである、態様1に記載の方法。
22. 前記化学エッチングが、三ヨウ化物エッチング剤系を使用することにより行われる、態様21に記載の方法。
23. 前記エッチングが選択的に行われる、態様1に記載の方法。
24. (a)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を提供する工程であって、前記基材が金を含む、工程と、(b)アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、少なくとも1つの官能基形成性分子を含む少なくとも1つのパターン形成性組成物を提供する工程と、(c)前記主表面の少なくとも1つの官能基化領域及び少なくとも1つの非官能基化領域を形成するように、前記パターン形成性組成物をマイクロコンタクトプリンティングにより前記基材の前記主表面に塗布する工程と、(d)三ヨウ化物化学エッチング剤系を使用することにより、前記非官能基化領域の少なくとも一部を選択的にエッチングする工程と、を含む、方法。
25. 前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物がアミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物である、態様24に記載の方法。
本明細書で引用した特許、特許文献、及び公報に含有される参照された記述内容は、その全体が、それぞれ個別に組み込まれているかのように、参照として組み込まれる。本発明に対するさまざまな予見できない修正及び変更が、本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく当業者に明らかとなるであろう。本発明は、本明細書に記載した例示的な実施形態及び実施例によって過度に限定されるものではなく、またかかる実施例及び実施形態は、一例として表されているだけであり、ただし、本発明の範囲は、以下のように本明細書に記載した請求項によってのみ限定されることを意図するものと理解されるべきである。

Claims (5)

  1. (a)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を提供する工程と、(b)ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、少なくとも1つの官能基形成性分子を含む少なくとも1つのパターン形成性組成物を提供する工程と、(c)前記パターン形成性組成物を前記基材の前記主表面に、前記主表面の少なくとも1つの官能基化領域及び少なくとも1つの非官能基化領域を形成するような仕方で塗布する工程と、(d)前記非官能基化領域の少なくとも一部をエッチングする工程と、を含む、方法。
  2. 前記基材が金を含む、請求項1に記載の方法。
  3. 前記官能基形成性分子がアミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、請求項1に記載の方法。
  4. 前記パターン形成性組成物がマイクロコンタクトプリンティングにより塗布される、
    前記官能基化領域が前記官能基形成性分子の自己組織化モノレイヤー(SAM)を含む、
    前記エッチングが化学エッチングである、及び/又は
    前記エッチングが選択的に行われる、
    請求項1に記載の方法。
  5. (a)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を提供する工程であって、前記基材が金を含む、工程と、(b)アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、少なくとも1つの官能基形成性分子を含む少なくとも1つのパターン形成性組成物を提供する工程と、(c)前記主表面の少なくとも1つの官能基化領域及び少なくとも1つの非官能基化領域を形成するように、前記パターン形成性組成物をマイクロコンタクトプリンティングにより前記基材の前記主表面に塗布する工程と、(d)三ヨウ化物化学エッチング剤系を使用することにより、前記非官能基化領域の少なくとも一部を選択的にエッチングする工程と、を含む、方法。
JP2011540782A 2008-12-11 2009-12-02 パターン形成方法 Expired - Fee Related JP5864259B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12160508P 2008-12-11 2008-12-11
US12159808P 2008-12-11 2008-12-11
US61/121,605 2008-12-11
US61/121,598 2008-12-11
PCT/US2009/066358 WO2010068535A1 (en) 2008-12-11 2009-12-02 Patterning process

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012511635A JP2012511635A (ja) 2012-05-24
JP2012511635A5 true JP2012511635A5 (ja) 2013-01-24
JP5864259B2 JP5864259B2 (ja) 2016-02-17

Family

ID=42243038

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011540782A Expired - Fee Related JP5864259B2 (ja) 2008-12-11 2009-12-02 パターン形成方法

Country Status (5)

Country Link
US (4) US8901263B2 (ja)
EP (2) EP2370269B1 (ja)
JP (1) JP5864259B2 (ja)
CN (2) CN102307851B (ja)
WO (2) WO2010068531A1 (ja)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8747599B2 (en) * 2008-05-29 2014-06-10 Chidella Krishna Sastry Process for making self-patterning substrates and the product thereof
US8901263B2 (en) * 2008-12-11 2014-12-02 3M Innovative Properties Company Amide-linked perfluoropolyether thiol compounds and processes for their preparation and use
CN102334091B (zh) 2009-02-26 2016-01-06 3M创新有限公司 触摸屏传感器和具有低可见度的覆盖微图案的图案化基材
CN102803562B (zh) 2009-06-25 2015-09-30 3M创新有限公司 湿式蚀刻自组装单层图案化基材和金属图案化制品的方法
JP5747027B2 (ja) 2009-06-30 2015-07-08 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 図形を有する電子ディスプレイ及び金属微小パターン化基材
US8258341B2 (en) * 2009-07-10 2012-09-04 E.I. Du Pont De Nemours And Company Polyfluorosulfonamido amine and intermediate
US8950324B2 (en) 2009-12-22 2015-02-10 3M Innovative Properties Company Apparatus and method for microcontact printing using a pressurized roller
JP5537745B2 (ja) * 2010-12-23 2014-07-02 ロレックス・ソシエテ・アノニム 腕時計製造用構成部品の疎油性を高めるための組成物
FR2969663B1 (fr) * 2010-12-23 2013-01-18 Surfactis Technologies Composition hydrophobe et lipophobe de molecules bisphosphoniques et thiols
WO2012115151A1 (ja) * 2011-02-22 2012-08-30 国立大学法人北海道大学 粒子集積体、粒子集積体の製造方法、光増強素子及び光化学反応を利用する装置
JP5683516B2 (ja) * 2011-03-30 2015-03-11 富士フイルム株式会社 プリント配線基板およびその製造方法、並びに、金属表面処理液
US9449630B2 (en) * 2014-06-02 2016-09-20 Seagate Technology Llc Sliders having at least two regions on the trailing edge surface
KR102399569B1 (ko) * 2015-10-28 2022-05-19 삼성디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN110770020B (zh) 2017-08-04 2022-03-01 大金工业株式会社 图案形成用基板
CN107459641B (zh) * 2017-08-30 2019-08-09 龙岩思康新材料有限公司 一种全氟聚醚改性烯丙氧基体的制备方法
CN109928891B (zh) * 2017-12-18 2022-12-06 乳源东阳光氟有限公司 一种聚酰胺连接的全氟聚醚及其制备方法和应用
TWI837203B (zh) 2018-11-02 2024-04-01 日商東京威力科創股份有限公司 膜形成方法及膜形成裝置
US10934454B2 (en) * 2019-01-22 2021-03-02 Amazon Technologies, Inc. Coating composition for a metal substrate
CN114891221B (zh) * 2019-10-14 2023-09-15 中国科学院上海有机化学研究所 聚(γ-硫代丁内酯)
WO2022234360A1 (en) 2021-05-06 2022-11-10 3M Innovative Properties Company Angular physical vapor deposition for coating substrates
JP2023081626A (ja) * 2021-12-01 2023-06-13 株式会社東芝 ヘッドサスペンションアッセンブリ、及び磁気記録再生装置
TW202346474A (zh) * 2022-02-22 2023-12-01 日商大金工業股份有限公司 含有氟聚醚基之硫醇化合物
CN114957677B (zh) * 2022-05-29 2023-01-31 北京化工大学 一种应用于19f磁共振成像的含氟聚合物纳米探针的制备方法

Family Cites Families (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3250807A (en) 1963-08-23 1966-05-10 Du Pont Dicarboxylic acids of fluorocarbon ethers and fluorides, esters, amides and salts thereof
US3250808A (en) * 1963-10-31 1966-05-10 Du Pont Fluorocarbon ethers derived from hexafluoropropylene epoxide
US4204064A (en) * 1964-01-29 1980-05-20 L'oreal Sulfur containing heterocyclic amino acid derivatives
US3810874A (en) * 1969-03-10 1974-05-14 Minnesota Mining & Mfg Polymers prepared from poly(perfluoro-alkylene oxide) compounds
US4022928A (en) * 1975-05-22 1977-05-10 Piwcyzk Bernhard P Vacuum deposition methods and masking structure
DE3485616D1 (de) 1983-12-26 1992-05-07 Daikin Ind Ltd Verfahren zur herstellung von halogen enthaltenden polyathern
US4904417A (en) 1987-06-02 1990-02-27 Daikin Industries Ltd. Fluorine-containing polyether and process for preparing the same
JPH01115193A (ja) * 1987-10-29 1989-05-08 Kashima Kogyo Kk フレキシブル印刷配線板
US4882216A (en) * 1987-08-10 1989-11-21 Kashima Industries Co. Epoxy resin film covered with metal foil and flexible printed wiring board
IT1249319B (it) * 1991-04-26 1995-02-22 Ausimont Spa Perfluoropolieteri ad elevata viscosita' e basso contenuto di ossigeno perossidico, e procedimento per la loro preparazione
US5182342A (en) 1992-02-28 1993-01-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Hydrofluorocarbon solvents for fluoromonomer polymerization
US5190661A (en) * 1992-06-08 1993-03-02 Brigham Young University Process of removing ions from solutions using a complex with sulfur-containing hydrocarbons
US5512131A (en) * 1993-10-04 1996-04-30 President And Fellows Of Harvard College Formation of microstamped patterns on surfaces and derivative articles
AU6774996A (en) * 1995-08-18 1997-03-12 President And Fellows Of Harvard College Self-assembled monolayer directed patterning of surfaces
JPH10124844A (ja) * 1996-10-23 1998-05-15 Hitachi Ltd 磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記憶装置
FR2761691B1 (fr) * 1997-04-03 1999-05-14 Oreal Polymeres a fonction terminale thiol
EP1141047B1 (en) * 1998-11-30 2009-03-11 E.I. Du Pont De Nemours And Company Fluoromonomer polymerization
US6555288B1 (en) * 1999-06-21 2003-04-29 Corning Incorporated Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
US7041232B2 (en) * 2001-03-26 2006-05-09 International Business Machines Corporation Selective etching of substrates with control of the etch profile
CN1209392C (zh) 2001-05-14 2005-07-06 阿姆诺洼化学有限公司 由含侧氟碳基的环状单体得到的聚合物表面活性剂
ITMI20011340A1 (it) * 2001-06-26 2002-12-26 Ausimont Spa Pfpe aventi almeno un terminale alchiletereo e relativo processo dipreparazione
US6778753B2 (en) 2001-07-25 2004-08-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Halogenated optical polymer composition
US6878634B2 (en) 2002-04-10 2005-04-12 Canon Kabushiki Kaisha Structure having recesses and projections, method of manufacturing structure, and functional device
JP2006501860A (ja) * 2002-05-22 2006-01-19 プラティパス テクノロジーズ エルエルシー 細胞をアッセイするための基体、装置および方法
SE0202630L (sv) * 2002-09-06 2004-03-07 Sca Hygiene Prod Ab Sensoring absorbing article
US6923921B2 (en) * 2002-12-30 2005-08-02 3M Innovative Properties Company Fluorinated polyether compositions
JP4430618B2 (ja) * 2003-02-06 2010-03-10 積水化学工業株式会社 プロトン伝導性膜、その製造方法及びそれを用いた燃料電池
US20040241396A1 (en) * 2003-05-29 2004-12-02 3M Innovative Properties Company Method of modifying a surface of a substrate and articles therefrom
US20050164402A1 (en) * 2003-07-14 2005-07-28 Belisle Christopher M. Sample presentation device
WO2005023822A1 (en) * 2003-08-21 2005-03-17 3M Innovative Properties Company Perfluoropolyether amide-linked phosphonates, phosphates, and derivatives thereof
US7387714B2 (en) * 2003-11-06 2008-06-17 3M Innovative Properties Company Electrochemical sensor strip
DK1704585T3 (en) 2003-12-19 2017-05-22 Univ North Carolina Chapel Hill Methods for preparing isolated micro- and nanostructures using soft lithography or printing lithography
JP2005200304A (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Hitachi Ltd 含フッ素化合物、それを用いた撥液膜及びそれを用いた各種製品
US7148360B2 (en) 2004-01-30 2006-12-12 3M Innovative Properties Company Perfluoropolyether benzotriazole compounds
US6991826B2 (en) 2004-04-20 2006-01-31 3M Innovative Properties Company Antisoiling coatings for antireflective substrates
US7342080B2 (en) 2004-05-07 2008-03-11 3M Innovative Properties Company Polymerizable compositions, methods of making the same, and composite articles therefrom
US7160583B2 (en) 2004-12-03 2007-01-09 3M Innovative Properties Company Microfabrication using patterned topography and self-assembled monolayers
US20060216524A1 (en) * 2005-03-23 2006-09-28 3M Innovative Properties Company Perfluoropolyether urethane additives having (meth)acryl groups and hard coats
US20060266731A1 (en) * 2005-05-31 2006-11-30 Yu Steven Y Etchant rinse method
US20070292679A1 (en) 2006-06-14 2007-12-20 3M Innovative Properties Company Optical article having an antistatic fluorochemical surface layer
US20080047930A1 (en) 2006-08-23 2008-02-28 Graciela Beatriz Blanchet Method to form a pattern of functional material on a substrate
US8764996B2 (en) * 2006-10-18 2014-07-01 3M Innovative Properties Company Methods of patterning a material on polymeric substrates
CN101563383B (zh) * 2006-12-20 2012-08-15 3M创新有限公司 具有侧链甲硅烷基的含氟氨基甲酸酯化合物
US7968804B2 (en) * 2006-12-20 2011-06-28 3M Innovative Properties Company Methods of patterning a deposit metal on a substrate
US7745653B2 (en) 2007-03-08 2010-06-29 3M Innovative Properties Company Fluorochemical compounds having pendent silyl groups
US7335786B1 (en) * 2007-03-29 2008-02-26 3M Innovative Properties Company Michael-adduct fluorochemical silanes
US20080315459A1 (en) 2007-06-21 2008-12-25 3M Innovative Properties Company Articles and methods for replication of microstructures and nanofeatures
US8015970B2 (en) 2007-07-26 2011-09-13 3M Innovative Properties Company Respirator, welding helmet, or face shield that has low surface energy hard-coat lens
US8492315B2 (en) 2007-08-28 2013-07-23 Life Bioscience, Inc. Method of providing a pattern of biological-binding areas for biological testing
JP2010540757A (ja) * 2007-10-01 2010-12-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー カチオン性のフッ素化エーテルシラン組成物及び関連する方法
CN101815719A (zh) 2007-10-01 2010-08-25 3M创新有限公司 阳离子氟化醚硅烷组合物以及相关方法
WO2009085678A1 (en) 2007-12-19 2009-07-09 3M Innovative Properties Company Ink solutions for microcontact printing
WO2009108771A2 (en) * 2008-02-28 2009-09-03 3M Innovative Properties Company Methods of patterning a conductor on a substrate
US8901263B2 (en) * 2008-12-11 2014-12-02 3M Innovative Properties Company Amide-linked perfluoropolyether thiol compounds and processes for their preparation and use

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012511635A5 (ja)
JP5864259B2 (ja) パターン形成方法
JP2005528446A5 (ja)
Kang et al. Self-assembled rigid monolayers of 4 ‘-substituted-4-mercaptobiphenyls on gold and silver surfaces
Bearinger et al. Chemisorbed poly (propylene sulphide)-based copolymers resist biomolecular interactions
JP2021520640A5 (ja)
JP2010502784A5 (ja)
JP2007514861A5 (ja)
BR0206352A (pt) Composição fluoroquìmica, método para tratar um substrato, substrato, e, oligÈmero fluoroquìmico
EP2287270A3 (en) Composition containing fluorinated amide
GB0326904D0 (en) Formation of self-assembled monolayers
TW200500384A (en) Novel thiol compound, copolymer and method for producing the copolymer
WO2008048305A2 (en) Nanotube assembly
JP2006321856A5 (ja)
Kang et al. Unique mixed phases and structures of self-assembled monolayers on Au (111) derived from methoxy-terminated mono (ethylene glycol) ethanethiols
JP2010285403A5 (ja)
JPWO2005091070A1 (ja) リソグラフィー用基板表面処理剤
JP2008525204A (ja) Samの成長に基づいたナノファブリケーション
Barlow et al. Synthesis, monolayer formation, characterization, and nanometer-scale photolithographic patterning of conjugated oligomers bearing terminal thioacetates
JP4376540B2 (ja) 金属表面修飾剤および新規含硫黄化合物
US20130292877A1 (en) Nanoimprinting method
JP4862483B2 (ja) 共重合体の単分子膜およびその製造方法
JP2004033824A (ja) 多芳香環化合物による紫外線耐性自己組織化単分子膜
Igari et al. Synthesis of Photodegradable Surface Modifiers Based on Phosphonic Acid for Introducing Functional Groups onto a Substrate and Application for Patterned Deposition of Gold Nano-Particulate Ink
Ishida Self-assembled monolayers for molecular nanoelectronics