JP2012505962A - 光電気化学的水分解及び/又は電気生産のためのケイ化物 - Google Patents

光電気化学的水分解及び/又は電気生産のためのケイ化物 Download PDF

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Abstract

水素及び酸素の光電気化学的生産のための、並びに、同時の又は別個に進行する、電気の光電気的/光起電的生産のための方法において、水をケイ化物と、光を同時に適用しながら接触させるか、又は、電気のみの生産の場合にはこの水接触もなしで済ませることができることを特徴とする方法が請求される。本発明は、簡易な手法で直接的に水から水素及び酸素を生産することを可能にし、その際、UV光及びコスト集約的な触媒の使用もなしですませることができる。

Description

要約
本発明は、水から水素及び酸素を、及び、電気を、光電気化学的に生産するにあたり、極めて一般的に、ケイ化物(シリサイド)の存在下で、特に、金属ケイ化物及び非金属ケイ化物、例えば、ケイ化ホウ素、炭素含有ケイ化物及び窒素含有ケイ化物、すなわち、ケイ素を含有し、かつ、組成RSixを有する化合物の存在下で行う方法に関する。Rは、この場合に、有機の、金属の、有機金属の、非金属の、又は無機の基であることができ、そして、Siは、元素ケイ素であり、増加する数の原子X>0を有する。以下のテキストにおいては、この物質クラスをケイ化物と呼ぶ。この物質のケイ化物の下位概念は、高められた電子密度により特徴付けられる。このケイ化物は前述の反応プロセスにおいて触媒的に有効であり、その際、このプロセスは光有りで又は無しで進行できる。しかし、この反応の照射の際には、ガス発生の増加が確認され、これは、人工光及び太陽光の使用の場合である。より高い反応温度はしばしば反応促進性である。ケイ化物は大抵は半導体材料である。
前記ケイ化物は、対電極(例えば、金属、金属酸化物又は他の導電性材料)に連結された電極材料(任意にアノード又はカソードとして)として、かつ/又は、集光材料(Lichtsammelmaterial)として、光電気的/−電気的プロセスの部分として使用される。したがって、これは、光起電的システムの部分として使用されることができる。前記ケイ化物は、(a)光の存在下での水からの水素及び酸素の生産に、そして、(b)同時の又は別個に進行する電気(電気エネルギー)の生産にも用いられる。(b)の場合には液状及び/又は非液状の電解質が使用され、かつ、純粋な光起電適用のためには、電極の適したドーピングの場合に電解質を完全になしですませることができる。
さらに、前記ケイ化物への染料、例えばペリレン及びこの類似体の連結又は複合化(Komplexierung)が、この物質の光吸収に、並びに、この荷電分離ひいては前記ケイ化物の反応性に好ましく作用することが見出された。
さらに、水素及び酸素の生産の目的で光を用いて水素及び酸素に水を分解するための、また同様に、電気を生産するための、ケイ化物を用いたこの反応が、固定化した形態にあるケイ化物を用いても実施可能であること、すなわち、ポリマー材料に又はこの中に、及び/又はガラス又はガラス類似材料に又はこの中に、並びに、一般的に、電気/電子伝導性材料に又はこの中に存在するケイ化物を用いても実施できることが見出された。このことは、前記ケイ化物の光起電的適用にも該当する。本発明による方法は、これに応じて、水素及び酸素の他に、電気、すなわち、電気エネルギーも提供する。
背景技術
金属触媒を用いて水から水素及び酸素を生産するための光化学反応の実施のためには、様々なプロセスが開示されている。これは、この場合に、ランタニド種の光触媒、例えば、NaTaO3:La、希土類金属からの触媒、例えば、R2Ti27(R=Y、希土類金属)、又は、TiO2から派生した半導体システム、いわゆるタンデムセルであり、その際、これまでにはケイ化物の使用は表題適用のためには言及されてこなかった。
水からの水素及び酸素の生産のためのプロセスは、半導体材料及び光を用いる水の還元及び/又は酸化を基礎とする。この種のプロセスは、水分解とも呼ばれる。これまでに記載のプロセスはUV光を使用する。いくつかの場合には水及び酸素の著しい発生が見出されたものの、この必要とされる照射条件はこの方法のソーラー適用のためには適当でない。さらに、触媒の製造は作業集約的であり、かつ、この適用は経済的でない高温を必要とし、これは、極めて高い純度を有する高価な材料から出発する。さらに、前述のプロセスの実施のためには、極めて清浄な水(3回蒸留された)の適用が必要である。大抵の場合には、長期適用能に関する記載はなく、これと関連する触媒安定性に関する記載もない。この幾つかのこれまでに利用可能な適用は、ケイ化物粉末を使用し、その際、この半導体自体が水を水素及び酸素へと光の存在下で分解する。酸素は次にこのシステムから別々に除去されなくてはならない。この全てのシステムは、水分解のためだけに使用され、同時の又は別個に進行する、電気の生産(光起電)のためには使用されることはできない。
光起電システムの構築のためには、ケイ化物はこれまで使用されていなかった。単に、特殊な場合(例えば、IrSi2及びベータFeSi2)にだけ、フィルムの電気的及び光学的特性が測定されてきた。
発明の説明
意外なことに、ケイ化物(シリサイド)、すなわち、金属ケイ化物及び非金属ケイ化物、例えば、ケイ化ホウ素、炭素含有ケイ化物及び窒素含有ケイ化物、すなわち、化合物であってケイ素を含有し、かつ、RSixの組成を有する化合物の使用の際に、このプロセスが、光電気的原則にしたがって進行する場合に、すなわち、このケイ化物が光受容材及び/又は電極として使用される場合に、この欠点が回避されることができることが見出された。Rは、この場合に、有機の、金属の、有機金属の、又は無機の基であることができ、そして、Siは、元素ケイ素であり、増加する数の原子X>0を有する。以下のテキストにおいては、この物質クラスをケイ化物と呼ぶ。前記化合物のケイ化物−下位概念は、高められた電子密度により、すなわち、負の荷電密度により特徴付けられるか、又は、これは負の荷電を有する。
この非金属ケイ化物、例えば、ケイ化ホウ素、炭素含有ケイ化物及び窒素含有ケイ化物は、ケイ素ホウ化物、−炭化物及び−窒化物とも呼ばれる。
ケイ化物、金属ケイ化物及び非金属ケイ化物、例えばケイ化ホウ素、炭素含有ケイ化物及び窒素含有ケイ化物の例は、ケイ化ニッケル(Ni2Si)、ケイ化鉄(FeSi2、FeSi)、ケイ化タリウム(ThSi2)、ケイ化ホウ素(四ホウ化ケイ素とも呼ばれる)(B4Si)、ケイ化コバルト(CoSi2)、ケイ化白金(PtSi、Pt2Si)、ケイ化マンガン(MnSi2)、チタン炭素ケイ化物(Ti32Si)、ケイ化炭素/ポリケイ化炭素又は炭化ケイ素/ポリ炭化ケイ素とも呼ばれる(CSi/ポリCSi又はSiC/ポリSiC)、ケイ化イリジウム(IrSi2)、ケイ化ジルコニウム(ZrSi2)、ケイ化タンタル(TaSi2)、ケイ化バナジウム(V2Si)、ケイ化クロム(CrSi2)、ケイ化ベリリウム(Be2Si)、ケイ化マグネシウム(Mg2Si)、ケイ化カルシウム(Ca2Si)、ケイ化ストロンチウム(Sr2Si)、ケイ化バリウム(Ba2Si)、ケイ化アルミニウム(AlSi)、ケイ化ガリウム(GaSi)、ケイ化インジウム(InSi)、ケイ化ハフニウム(HfSi)、ケイ化レニウム(ReSi)、ケイ化ニオブ(NbSi)、ケイ化ゲルマニウム(GeSi)、ケイ化スズ(SnSi)、ケイ化鉛(PbSi)、ケイ化ヒ素(AsSi)、ケイ化アンチモン(SbSi)、ケイ化ビスマス(BiSi)、ケイ化モリブデン(MoSi)、ケイ化タングステン(WSi)、ケイ化ルテニウム(RuSi)、ケイ化オスミウム(OsSi)、ケイ化ロジウム(RhSi)、ケイ化パラジウム(PdSi)、ケイ化銅(CuSi)、ケイ化銀(AgSi)、ケイ化金(AuSi)、ケイ化亜鉛(ZnSi)、ケイ化カドミウム(CdSi)、ケイ化水銀(HgSi)、ケイ化スカンジウム(ScSi)、ケイ化イットリウム(YSi)、ケイ化ランタン(LaSi)、ケイ化セリウム(CeSi)、ケイ化プラセオジム(PrSi)、ケイ化ネオジム(NdSi)、ケイ化サマリウム(SmSi)、ケイ化ユーロピウム(EuSi)、ケイ化ガドリニウム(GdSi)、ケイ化テルビウム(TbSi)、ケイ化ジスプロシウム(DySi)、ケイ化エルビウム(ErSi)、ケイ化ツリウム(TmSi)、ケイ化イッテルビウム(YbSi)、ケイ化ルテチウム(LuSi)、銅−リンケイ化物(CuP3Si2,CuP3Si4)、コバルト−リンケイ化物(Co53Si2,CoP3Si3)、鉄−リンケイ化物(Fe2PSi,FeP4Si4,Fe209Si)、ニッケル−リンケイ化物(Ni2PSi,Ni36Si2,NiP4Si3,Ni53Si2)、クロム−リンケイ化物(Cr258Si7)、モリブデン−リンケイ化物(MoPSi)、タングステン−リンケイ化物(WPSi)、チタン−リンケイ化物(TiPSi)、コバルト−ホウ素ケイ化物(Co5BSi2)、鉄−ホウ素ケイ化物(Fe52Si)、ニッケル−ホウ素ケイ化物(Ni4BSi2,Ni6BSi2,Ni92Si4)、クロム−ホウ素ケイ化物(Cr5BSi3)、モリブデン−ホウ素ケイ化物(Mo52Si)、タングステン−ホウ素ケイ化物(W2BSi)、チタン−ホウ素ケイ化物(TiBSi)、クロム−ヒ素ケイ化物(CrAsSi)、タンタル−ヒ素ケイ化物(TaSiAs)、チタン−ヒ素ケイ化物(TiAsSi)又はこの混合物である。ここでカッコ内に記載した元素の組成(実験式)は、例示的であり、かつ、この元素の比は相互に変動可能である。
ケイ化物は、安価な、容易に入手可能な材料(主として半導体材料)であり、かつ、これまでには、表題適用のためには、光電気的適用、すなわち、光電気化学的適用、また同様に、光起電適用において、使用されてこなかった。
前記ケイ化物は主として、高い電子密度(負の荷電密度)をケイ素、炭素、窒素及びホウ素に関して有する半導体種類の材料である。ケイ化物を用いた水及び/又は酸素の生産のためのこの請求されたプロセスは、光を用いて効率的に進行する。この使用される光エネルギーは、この場合、人工的に又は太陽により生産されていることができ(放出領域200〜15000nm)、かつ、拡散性の又は濃縮した性質であることができる。光エネルギーを伴って生じさせられた、光源の熱エネルギーは、また熱エネルギーは極めて一般的に、ガスを生じる、請求されたプロセスを促進できる。極めて一般的に、より高温の適用、しかし、より高い光濃度の適用も、この請求されたプロセスのより高い効率を生じることができる。このことは、水素及び酸素への水の分解のみでなく、電気(光起電)、すなわち、電気エネルギーの生産にも該当し、これは水分解と同時に又は別個に進行できる。
前記ケイ化物はこの場合、電極材料(任意にカソード又はアノードとして)この光電気化学的及び光起電的プロセスにおいて使用され、かつ、1又は複数の対電極(任意に1又は複数のアノード又はカソード)に電気伝導性に連結されている。この対電極は、金属性又は非金属性の性質であるが、電気伝導性の性質を有していなくてはならない。この配置においては、電極の間で電解質が使用される。前記ケイ化物の純粋に光起電的な使用のためには、電極材料の適したp−/n−ドーピングでは電解質なしですませることができ、かつ、この電極は直接的に接触させられることができる。
光起電設備の部分としての使用の際には、ドーピングされていないか又はドーピングされた(ドーピングの例は以下参照のこと)ケイ化物が使用され、これは電気伝導的接触させられる。この場合に、さらに、他の光電気的/光起電的に活性のある材料も使用されることができ、これはこのシステムの外側でも光受容材(Lichtempfaenger)として存在する。
前記ケイ化物は自体で大抵は十分に太陽の又は人工の放射線エネルギーを吸収し、この場合に、水素及び酸素を生じるための水の分解、又は、同時の又は別個に進行する、電気の生産(光起電)を達成するために、より大きな表面変更は必要でない。
意外なことに、この使用される水の品質及び純度は、表題プロセスの実施のために、すなわち、水の酸化及び/又は還元に関して及び/又は同時の又は別個に進行する、電気の産生(光起電)のためには、重要でないか、それどころか無視することができることも見出された。
この出願において請求されるケイ化物の反応性は、水素及び酸素の生産のための水の分解に関して、及び/又は、同時の又は別個に進行する、電気の生産のために、主として触媒的な性質を有する。
さらに、ケイ化物を用いて、水素及び/又は酸素の生産の目的で水を分解するために、及び/又は、同時の又は別個の、電気の生産(光起電)のために実施されるこのプロセスは、固定化された形態にあるケイ化物を用いても稼働されることができ、すなわち、このプロセスは、ポリマー表面又は材料に又はこの中に、また同様にガラス又はガラス類似材料に又はこの中に、また同様に他の固形表面又はナノ粒子に又はこの中に結合/固定されている化合物を用いても実施されることができ、特に、この材料が電気伝導性、すなわち、荷電伝導性である場合であることが見出された。さらに、このケイ化物は固形の複合体、好ましくは、結晶質として存在できる;しかしこれは、無定形の性質を有していてもよい。
前述のプロセスは、室温よりもより高温又はより低温でも、そして、高い並びに低い光濃度(Lichtkonzentration)で実施できる。
電気の生産の場合には、水性/液状の電解質の使用もなしですませることができ、かつ、粘性の高い液状の(dickfluessig)、固形の、及び/又は、ゲル状の電解質が使用できる。電極の適したp−/n−ドーピングの場合には、電解質もなしですませることができ、電極は直接的に接触させられることができる。
さらに、染料又は染料のアグロメレーションの、ケイ化物への連結/複合化(Komplexierung)/取り付け/結合は、好ましく、光吸収及び荷電分離に、そして、これにより、この化合物の反応性に作用することが見出された(いわゆる、半導体との染料−敏感化反応)。特にこのために適しているのは、染料、例えばペリレン及びこの類似体である。この染料−複合体化したケイ化物は、熱により導かれる反応にも適用されることができ、これは、より高温であることもあり、というのも、このペリレン染料は熱的に安定であるからである。
前述したより高温は、電気的手法で、地熱、光エネルギー、ソーラーエネルギー、加熱、電子レンジ放電(Mikrowellenentladung)又は熱エネルギーのその他の全ての供給源により生じさせることもできる。
さらに、前記ケイ化物は、表題の適用のために単独で又は2以上のケイ化物と組み合わせて使用されることができることが見出された。表題のプロセスを、1又は複数のケイ化物を用いて実施することもでき、これは、非ケイ化物の種類の構造である更なる半導体材料、例えば、二酸化ルテニウム(RuO2)、二酸化マンガン(MnO2)、三酸化タングステン(WO3)、そして、極めて一般的に、この表題のプロセスを支持/促進するための他の半導体材料の同時の適用の場合である。
さらに、この表題プロセスを、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、アルミニウム、ホウ素、炭素、窒素、ケイ素、チタン、バナジウム、ジルコニウム、イットリウム、ランタン、ニッケル、マンガン、コバルト、ガリウム、ゲルマニウム、リン、カドミウム、ヒ素、テクネチウム、アルファ−SiH及びランタニド(このケイ化物及びケイ化物類似化合物に対して)50質量%まででドープ/混合/合金化されているケイ化物を用いて支持されることができることが見出された。ドーパント(p−及びn−ドーパント)としては、極めて一般的に、光起電において通常の外来元素が考慮され、これは、この周囲の材料とは異なる化学的原子価(chemische Wertigkeit)を有する。
ケイ化物の前述の使用を基礎とするこの新規技術は、例えば以下のものに適用される:新種の加熱システム、燃料セル−技術及び/又は電気の生産のために極めて一般的に。これは、地球上の領域、また同様に、地球外の領域においても、運動する並びに静止している構造物及び装置のために適用され、これは、駆動/稼働のために慣用の化石エネルギー源を利用する装置によりこれまで駆動されているこれら構造物及び装置を、置き換え、支持又は補うためである。
実施例
実施例1:固形の形態にある結晶質ケイ化チタン(TiSi2)(「スパッタリングターゲット」、5cmの直径)を、容器(円柱状、かつ、自由なガス空間を有して冷却可能、反応温度25−30℃)中に配置し、かつ、対電極(例えば、IrO2又はRuO2)と電気伝導性に連結させる。
この電極の間には、例えばナフィオン(Nafion)又はテフロン製の膜が取り付けられ、これは酸素−及び水素透過性である。この水相を電解質(例えば、硫酸でpH2に酸性化される)と混合し、この円柱装置の長さ方向において照射する(白色光、500−1000W又は太陽光);この場合にこのケイ化物が照射される。このガス分析をガスクロマトグラフィを用いて実施する。この使用した水をイオン交換体材料を通じて濾過する:しかし、再度の水も使用できる。このケイ化物をこの配置においてカソード(水素発生)として、そして、この遷移金属酸化物をアノード(酸素発生)として使用する。さらに、著しい電気的電流が測定されることができる。
実施例2:実施例1において言及したケイ化物の代わりに、他のケイ化物、例えばコバルトケイ化物(CoSi2)、白金ケイ化物(PtSi、Pt2Si)、チタンカーボシリサイド(Ti32Si)、カーボシリサイド/ポリ−カーボシリサイド(炭化ケイ素/ポリ−炭化ケイ素とも呼ばれる)(CSi/ポリCSi又はSiC/ポリSiC)、ジルコニウムケイ化物(ZrSi2)又はクロムケイ化物(CrSi2)も使用した。この反応はこの場合に、実施例1に記載のとおりに実施される。原則的に、この適用のために全てのケイ化物が適する。
実施例3:実施例1に挙げたのと同じ実験的配置ではあるが、しかし、チタンケイ化物(TiSi2i)をアノードとして、そして、白金を対電極(カソード)として用いて実施する。この場合に、より少ない酸素及び水素が形成されるが、高められた電気的電流が測定され、これは例えば、駆動及び他のエネルギー依存的システムのために使用されることができる。
実施例4:実験1及び2に記載されているプロセスにおいて、TiSiがカソードとして使用される場合には、ガス発生は観察されないが、著しい電気的電流が測定される。
実施例5:実施例4は、水接触なしにも実施できる。この場合には、電解質として水性硫酸の代わりに、電解質−ゲルが電極の間のコンタクトとして使用されなくてはならない。
実施例6:実験1及び2に記載されているプロセスにおいて、より高い反応温度(45〜100℃)が適用される場合には、より活発なガス発生が観察される。実際的にはこの温度は、平床(Flachbett)−ソーラー反応器及び太陽光の照射源としての使用の場合に達成されることができる。
実施例7:例えばクロロホルムに溶解する(水には溶解しない)ペリレン、例えば、N,N′−ビス−フェニル−エチル−ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシル−ジイミド(2g)を溶解し(クロロホルム5ml中に)、固形の形態にあるケイ化チタンと混合し(TiSi2又はTi5Si3)、2時間の間室温で撹拌し、照射する(実施例1)。この溶媒を真空中で除去した後に、この残留物を、実施例1に記載のとおりの条件に相応して、更なる反応のために使用する。この場合に、高められた水素及び酸素発生が確認された。
実施例8:実施例1及び2に記載の反応条件に変えて、平床−ソーラー反応器又は太陽光濃縮システム(パラボラトラフ−又はフレネルレンズ(Fresneloptik))を使用できる。この条件下で例えば200℃への前記ケイ化物の加熱は、この表題反応の成功のために問題はなく、それどころか、プロセスを促進するものである。これは、濃縮した光エネルギーの適用にも該当する。
実施例9:ケイ化物(例えばTiSi2)を、標準的技術を基礎としてPtと混合し(ドープ)、反応を実施例1に類似して実施した。この場合に、実施例1に比較して、より高いガス収率及び高められた電気的電流が測定された。
実施例10:水素及び酸素の製造のための水分解も、また同様に、電気の生産も、ケイ化物の外部使用(例えば、プレートとして)によりうまくいき、これは、白金電極及び遷移金属電極を対電極として電気的に連結している。この場合に、水分解のための電極室は、膜(ナフィオン又はテフロン)を介して隔てられ、かつ、電解質、例えば実施例1に言及した電解質が使用されることができる。
実施例11:電気を生じさせる(光起電)ためには、水接触なしでもうまくいくことができ、かつ、実施例5と同様に、電極の間の電解質−ゲルが使用されることができる。
実施例12:実施例11と同様に実施されるが、直列した複数の電極(電気的に連結している)を使用し、かつ、電解質を備える(実施例5又は11と同様)。電極として、TiSi/ベータ−FeSi2/RuO2)アルファ−FeSi2)を使用した。
実施例13:電極の適したp−/n−ドーピングの場合には、電解質もなしですませることができ、電極は電気的に接続して直接接触される。したがって、TiS2に対してp−ドーピングのためにアルミニウムが、TiSiに対してnドーピングのためにリンが選択され、この両方の層が接触させられる。著しい電流が測定された。複数の層も接触させることができ、その際、顕著に高められた電流が測定され、これは、この配置が人工光また同様に太陽光に曝露される場合である。

Claims (21)

  1. 水からの水素及び酸素の光電気化学的生産のための、並びに、同時の又は別個に進行する、電気の光電気的/光起電的生産のための方法において、水をケイ化物(シリサイド)と、光を同時に適用しながら接触させるか、又は、電気のみの生産の場合にはこの水接触もなしで済ませることができることを特徴とする方法。
  2. 前記ケイ化物及びケイ化物類似化合物は、金属のケイ化物及び/又は非金属のケイ化物、例えば、ケイ化ホウ素、炭素含有ケイ化物及び窒素含有ケイ化物、例えばケイ化チタン(TiSi2、Ti5Si3)、ケイ化ニッケル(Ni2Si)、ケイ化鉄(FeSi2、FeSi)、ケイ化タリウム(ThSi2)、ケイ化ホウ素(四ホウ化ケイ素ともいう)(B4Si)、ケイ化コバルト(CoSi2)、ケイ化白金(PtSi、Pt2Si)、ケイ化マンガン(MnSi2)、チタンカーボシリサイド(Ti32Si)、カーボシリサイド/ポリ−カーボシリサイド(CSi/ポリ−CSi)(炭化ケイ素/ポリケイ素炭化物ともいう)、ケイ化イリジウム(IrSi2)、ニトロケイ化物(窒化ケイ素ともいう)(N4Si3)、ケイ化ジルコニウム(ZrSi2)、ケイ化タンタル(TaSi2)、ケイ化バナジウム(V2Si)又はケイ化クロム(CrSi2)、すなわち、ケイ素を含有し、かつ、分子式RSix[式中、Rは有機の、金属の、有機金属の及び/又は無機の基又はその混合物であり、Siは元素ケイ素であり、増加する数の原子X>0を有する]に相応する化合物に属することを特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 前記ケイ化物が、高められた電子密度(負の荷電密度)を有するケイ素原子を少なくとも1つ含有することを特徴とする請求項1又は2記載の方法。
  4. 前記ケイ化物が、触媒及び人工光や太陽光また同様にこの人工及び/又は太陽線の熱的部分の受容材として光電気化学プロセス、例えば水分解において及び/又は電気の生産のための光電気的/光起電的プロセスにおいて使用されることができることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の方法。
  5. 前記ケイ化物が電極として用いられ、かつ、電気伝導性システム中への電解質の使用を介して1又は複数の対電極と連結していることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載の方法。
  6. 前記ケイ化物が、前記加水分解と同時に又は別個に電流を提供し、その際、この対電極が金属、遷移金属、金属酸化物、遷移金属酸化物、非金属構造及び/又は混合構造であることもできるが、この全ての対電極は電気伝導性であるべきであることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項記載の方法。
  7. 前記ケイ化物が光受容材として、水からの水及び酸素の生産のための、並びに、同時の又は別個に進行する、電気の光電気的/光起電的生産のための、光電気化学的設備の外側にも存在することができることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項記載の方法。
  8. 水からの水素及び酸素の生産のための、並びに、同時の又は別個に進行する、電気の生産のための光化学反応が、電極材料及び/又は集光材料としてのケイ化物の存在下で、光電気化学的又は光電気的/光起電的プロセスの一部として進行し、その際、前記ケイ化物は好ましくは結晶質の形態で使用され、かつ、このプロセスは濃縮しかつ/又は拡散した形態にある人工光及び/又は太陽光で稼働することを特徴とする請求項1から7のいずれか1項記載の方法。
  9. 前記ケイ化物が電極として用いられ、かつ、1又は複数の対電極と電気伝導的に連結しており、その際、純粋に光電気的/光起電的な使用及び前記ケイ化物及び対電極の適したドーピングでは、電解質の使用なしですませることができ、かつ、前記ケイ化物及び対電極を直接的に接触させることができることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項記載の方法。
  10. 光源及び/又は付加的な熱エネルギー源が、200〜15000nmの範囲内のエネルギーを放射することを特徴とする請求項1から9のいずれか1項記載の方法。
  11. 前記ケイ化物の光吸収を、染料及び/又は染料集合物を前記ケイ化物に連結/複合化/取り付け/結合することにより、増強することを特徴とする請求項1から10のいずれか1項記載の方法。
  12. 使用される染料がペリレン及びペリレン類似体であることを特徴とする請求項1から11のいずれか1項記載の方法。
  13. より高い反応温度及び/又は人工の及び/又は太陽の光濃度及び/又は光強度が当該方法の経過に好ましく作用することを特徴とする請求項1から12のいずれか1項記載の方法。
  14. 水からの水素及び酸素の生産のために、及び/又は、同時の又は別個に進行する、電気の生産のために、付加的に導入される熱エネルギーが、光化学的光源に、人工及び/又は太陽光源に、及び/又は、熱エネルギーを生じる他の装置に由来し、これは例えば、電気的加熱システム、電子レンジシステム及び/又は地熱及び/又は他のエネルギー源であることを特徴とする請求項1から13のいずれか1項記載の方法。
  15. 1又は複数のケイ化物が、当該方法に能動的に関与し、かつ、さらに、その反応性において、ケイ化物構造を有しない他の半導体材料により支持されており、この材料が、例えば、二酸化ルテニウム(RuO2)、二酸化マンガン(MnO2)、三酸化タングステン(WO3)、酸化イリジウム(IrO2)、酸化ロジウム(RhO2)及び、請求項1から14のいずれか1項記載の方法を能動的に支持するための他の半導体材料であることを特徴とする、請求項1から14のいずれか1項記載の方法。
  16. 前記ケイ化物が固定化した形態で使用されることができ、すなわち、この化合物がポリマー材料(例えば、ポリアミド、マクロロン又はプレキシガラス)、表面、ガラス又はガラス類似材料に埋め込まれるか、又はポリマー材料、表面、ガラス又はガラス類似材料に取り付け/固着されている場合であり、特にこれは、このポリマー及び/又はガラス状材料が電気/電子/荷電伝導性である場合であることを特徴とする請求項1から15のいずれか1項記載の方法。
  17. 前記ケイ化物がポリマー材料(例えば、ポリアミド、マクロロン又はプレキシガラス)又はガラス又はガラス類似材料での表面処理後に適用され、かつ、これが特に、前記ポリマー及び/又はガラス状材料が電気/電子/荷電伝導性である場合であることを特徴とする請求項1から16のいずれか1項記載の方法。
  18. 前記ケイ化物及び対電極を接触させ、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、アルミニウム、ホウ素、炭素、窒素、ケイ素、チタン、バナジウム、ジルコニウム、イットリウム、ランタン、ニッケル、マンガン、コバルト、ガリウム、ゲルマニウム、インジウム、ヒ素、リン、ランタニド又は他の、光起電において通常のp−及びn−ドーピング原子でドーピング/合金化し、これは、この元素の、元素及び/又はイオン/ラジカル状の形態にあり、かつ、これは、前記ケイ化物及び対電極材料に対して50質量%までであることを特徴とする請求項1から17のいずれか1項記載の方法。
  19. 前記ケイ化物が、水からの水素及び酸素の生産のための及び/又は同時の又は別個に進行する電気の生産のための前記方法を統合する一般的原則の一部としてであることを特徴とする請求項1から18のいずれか1項記載の方法。
  20. この新規技術が、例えば、エネルギーを生産/提供するために一般的に、エネルギー提供/−依存するシステムの稼働のために、加熱システムのために、燃料電池−技術のために、電気依存性の、又はエネルギー供給に依存する他の全ての技術のために、適用されることができ、まとめると、つまり、例えば、地球上の及び地球外の交通及び静止構造物及び装置、また同様に、生活、ビジネス及び健康を含めた人間の福利のための装置にも適用されることを特徴とする請求項1から19のいずれか1項記載の方法。
  21. 化石由来のエネルギーの使用に基づく装置によってこれまで駆動/稼働された構造物及び装置のための前記エネルギー−提供システムを、請求項1から20のいずれか1項記載の方法により置き換え又は支持又は補うことができることを特徴とする請求項1から20のいずれか1項記載の方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014012626A (ja) * 2012-06-04 2014-01-23 Tatsuhiko Yamada 水分解方法および水分解装置
JP2014238252A (ja) * 2013-05-07 2014-12-18 株式会社豊田自動織機 太陽光−熱変換部材、太陽光−熱変換積層体、太陽光−熱変換装置及び太陽熱発電装置
JP2015214470A (ja) * 2014-05-13 2015-12-03 大和ハウス工業株式会社 太陽エネルギー利用システム
JP2017206426A (ja) * 2016-05-17 2017-11-24 森男 梶塚 水を三重構造に分解する

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101196793B1 (ko) * 2010-08-25 2012-11-05 엘지전자 주식회사 태양 전지 및 그 제조 방법
RU2539523C1 (ru) * 2013-09-27 2015-01-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ) Электролитический способ получения наноразмерного порошка дисилицида церия

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5284424A (en) * 1975-12-29 1977-07-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Photooelectromotive device
JPS5998480A (ja) * 1982-10-15 1984-06-06 アモコ・コ−ポレ−ション 多重層光電極および光電池
JPS59157976A (ja) * 1983-02-18 1984-09-07 エナ−ジ−・コンバ−シヨン・デバイセス・インコ−ポレ−テツド 光電極及び光電化学セル
JP2004266023A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Sharp Corp 太陽電池およびその製造方法
JP2006526254A (ja) * 2003-05-05 2006-11-16 サステイナブル・テクノロジーズ・インターナショナル・プロプライエタリー・リミテッド 光電気化学デバイス
WO2007036274A2 (en) * 2005-08-24 2007-04-05 H2 Solar Gmbh Generation of hydrogen and oxygen from water and storage thereof with silicides

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3297487A (en) * 1964-10-16 1967-01-10 Du Pont Fuel cell
US3669751A (en) * 1967-03-15 1972-06-13 Peter D Richman Electric battery comprising a fuel cell hydrogen generator and heat exchanger
JPS58166680A (ja) * 1982-03-29 1983-10-01 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
JPH0650783B2 (ja) * 1982-03-29 1994-06-29 株式会社半導体エネルギ−研究所 光発電装置
US4534099A (en) 1982-10-15 1985-08-13 Standard Oil Company (Indiana) Method of making multilayer photoelectrodes and photovoltaic cells
US4492743A (en) * 1982-10-15 1985-01-08 Standard Oil Company (Indiana) Multilayer photoelectrodes and photovoltaic cells
JPS59110179A (ja) * 1982-12-16 1984-06-26 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造法
US4461691A (en) * 1983-02-10 1984-07-24 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Organic conductive films for semiconductor electrodes
US4656103A (en) * 1983-02-18 1987-04-07 Energy Conversion Devices, Inc. Liquid junction photoelectrodes using amorphous silicon-based thin film semiconductor
US5140397A (en) * 1985-03-14 1992-08-18 Ricoh Company, Ltd. Amorphous silicon photoelectric device
JPS63138843U (ja) * 1987-03-04 1988-09-13
DE69534582T2 (de) * 1994-05-19 2006-07-20 Canon K.K. Photovoltaisches Bauelement, Elektrodenstruktur desselben und Herstellungsverfahren
JPH0888394A (ja) * 1994-09-20 1996-04-02 Seiko Instr Inc 光電変換半導体装置及びその製造方法
JPH08125210A (ja) * 1994-10-24 1996-05-17 Jiyousuke Nakada 受光素子及び受光素子アレイ並びにそれらを用いた電解装置
DE69814232T2 (de) * 1997-06-03 2004-04-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma Negative Elektrodenaktivmaterialen für nicht-wässerige Elektrolyt Sekundärbatterien und entsprechenden Batterien
US6203985B1 (en) * 1998-09-08 2001-03-20 Motorola, Inc. Bio-molecule analyzer with photosensitive material and fabrication
DE10210465A1 (de) * 2002-03-04 2003-10-09 Fraunhofer Ges Forschung Photokatalytisches Element zur Aufspaltung von Wasserstoff enthaltenden Verbindungen
US20060243587A1 (en) 2004-05-05 2006-11-02 Sustainable Technologies International Pty Ltd Photoelectrochemical device
US7811541B2 (en) * 2004-06-14 2010-10-12 Signa Chemistry, Inc. Silicide compositions containing alkali metals and methods of making the same
CN100533821C (zh) * 2005-06-03 2009-08-26 松下电器产业株式会社 非水电解质二次电池及其负极的制备方法
EP2002248A1 (en) * 2006-03-17 2008-12-17 Element Six Limited Microelectrode array
US20100000874A1 (en) * 2008-06-24 2010-01-07 Sundrop Fuels, Inc. Various methods and apparatus for solar assisted fuel production
US20090313886A1 (en) * 2008-06-24 2009-12-24 Sundrop Fuels, Inc. Various methods and apparatus for solar assisted chemical and energy processes

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5284424A (en) * 1975-12-29 1977-07-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Photooelectromotive device
JPS5998480A (ja) * 1982-10-15 1984-06-06 アモコ・コ−ポレ−ション 多重層光電極および光電池
JPS59157976A (ja) * 1983-02-18 1984-09-07 エナ−ジ−・コンバ−シヨン・デバイセス・インコ−ポレ−テツド 光電極及び光電化学セル
JP2004266023A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Sharp Corp 太陽電池およびその製造方法
JP2006526254A (ja) * 2003-05-05 2006-11-16 サステイナブル・テクノロジーズ・インターナショナル・プロプライエタリー・リミテッド 光電気化学デバイス
WO2007036274A2 (en) * 2005-08-24 2007-04-05 H2 Solar Gmbh Generation of hydrogen and oxygen from water and storage thereof with silicides

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6013059582; F.-R. F. FAN ET AL: 'Semiconductor Electrodes. 48. Photooxidation of Halides and Water on n-Silicon Protected with Silici' J. AM. CHEM. SOC. VOL.105, NO.2, 1983, P.220-224 *
JPN6013059584; G.A. HOPE ET AL: 'Semiconductor Electrodes. 52. Photoelectron Spectroscopic Determination of the Structure of Thin Pla' J. ELECTROCHEM. SOC. VOL.130, NO.7, 198307, P.1488-1491 *
JPN6013059586; MAIER C U ET AL: 'Hydrogen evolution on platinum-coated p-silicon photocathodes' INTERNATIONAL JOURNAL OF HYDROGEN ENERGY VOL.21, NO.10, 199610, P.859-864, ELSEVIER SCIENCE PUBLISHERS *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014012626A (ja) * 2012-06-04 2014-01-23 Tatsuhiko Yamada 水分解方法および水分解装置
JP2014238252A (ja) * 2013-05-07 2014-12-18 株式会社豊田自動織機 太陽光−熱変換部材、太陽光−熱変換積層体、太陽光−熱変換装置及び太陽熱発電装置
US10302334B2 (en) 2013-05-07 2019-05-28 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Sunlight-to-heat converting member, sunlight-to-heat converting stack, sunlight-to-heat converting device, and solar power generating device
WO2014192188A1 (ja) * 2013-05-30 2014-12-04 Yamada Tatsuhiko 水分解方法および水分解装置
JP2015214470A (ja) * 2014-05-13 2015-12-03 大和ハウス工業株式会社 太陽エネルギー利用システム
JP2017206426A (ja) * 2016-05-17 2017-11-24 森男 梶塚 水を三重構造に分解する

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WO2010043208A1 (de) 2010-04-22
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